Cu2+配位桥联作用组建荧光性多层膜

借助Au—S化学键的作用,在金基底上组装DL-半胱氨酸(Cys),形成单层自组装膜Cys／Au．然后,利用Cu^2 的配位桥联作用,将卜萘胺乙酸(NAA)组装于Cys／Au上,构建一种新型的自组装多层膜NAA／Cu／Cys／Au．文中采用电化学、荧光光谱、电子能谱等方法表征自组装膜的结构,采用电化学阻抗谱技术和循环伏安法研究该荧光性自组装膜的性能．结果表明,基于铜离子配位作用的NAA／Cu／Cys／Au膜与基于静电作用制得的双层膜NAA／Cys／Au相比,具有更好的导电性。     

席夫碱在金电极表面的自组装成膜

首次利用自组装技术，将带有巯基的席夫碱成功地自组装到Au电极表面，并利用循环伏安和交流阻抗电化学技术，对自组装膜的性质进行了表征，结果显示用席夫碱可以形成较致密的膜，为深入研究席夫碱中的电子传输机理，席夫碱与金属离子的络合机理，席夫碱在生物体中的活性等问题，提供了必要的理论和实验依据。     

金/硫醇-卵磷脂双层膜制备中金/硫醇单层膜的重复使用

将实验后的金／正18硫醇－卵磷脂（Au supported octadecanethiol-phosphatidylcholine,Au/ODT-PC)双层膜用无水乙醇冲洗并浸泡数小时后以除去卵磷脂（phosphatidylcholine,PC)层,电化学研究表明,这样重新得到的金／硫醇（Au supported octadecanethiol,Au/ODT)单层膜与用自组装法新制备的Au／ODT单层膜具有相同的循环伏安和交流阻抗性质,而且仍保持着其原来的完整性,在制备双层膜的过程中可以有限次重复使用。     

带有巯基的席夫碱在金电极表面的自组装成膜

利用自组装技术,将带有巯基的席夫碱成功地自组装到Au电极表面,并利用循环伏安和交流阻抗电化学技术,对自组装膜的性质进行了表征。结果显示,单独用席夫碱成膜,由于分子结构的不规则性,形成的膜较疏松;采用二次成膜的方法,制备了由席夫碱和十八硫醇构成致密的复合膜,并通过实验和计算证明复合膜中的席夫碱呈线形方式排列,并且未被十八硫醇所取代。通过自组装膜,用电化学方法深入地研究了席夫碱中的电子传输机理、席夫碱与金属离子的络合机理、席夫碱在生物体中的活性等问题。     

N-烷基-2-巯基乙酰胺自组装膜阻隔溶液离子跨膜输运能力

采用自组装手段，将3种不同链长的N-烷基-2-巯基乙酰胺分子(HSCH2CONH(CH2)nCH3，n＝6，11，17)组装于多晶金(Au)表面，形成自组装单分子膜(SAMs)．接触角测量值表明，SAMs具有与长链硫醇形成的自组装单分子膜相近的润湿性和致密性．循环伏安和阻抗测量表明，SAMs的缺陷随分子链长的增加而降低，界面电荷传输阻力亦随分子链长的增加而增加，界面氧化还原反应随着链长的增加逐渐转化为完全的动力学控制过程．SAMs有效阻隔了溶液离子、电子等的跨膜输运．     

噻吩羧酸在金表面的自组装膜及其电化学性质

研究了具有平面环状共轭体系的硫杂环化合物噻吩羧酸在金表面的自组装单分子膜及其修饰金电极的电化学行为．以Fe(CN)6^4-/3-为“探针”离子，用循环伏安法对自组装膜的形成、电极界面电容及其组装机理进行了研究．结果是噻吩羧酸在Au上的覆盖度约为95％，金电极的界面微分充电电容由修饰前的0．294μF／cm^2下降到0．167μF／cm^2，由此可见噻吩羧酸在金表面形成了致密的单分子膜．     

C_(60)自组装单层与多层膜的制备及其光致发光

利用Ｃ６０ 与乙二胺改性的玻璃表面进行加成反应,得到一种新的Ｃ６０ 自组装单层膜,在Ｃ６０ 自组装单层膜的基础上,将Ｃ６０ 与乙二胺反应制备了自组装双层和多层膜,并对其光致发光性质进行了研究．Ｘ 射线光电子能谱（ＸＰＳ） ,激光解吸电离飞行时间质谱（ＬＤＩＴＯＦＭＳ） 的测试结果表明,在乙二胺改性的玻璃表面上存在以化学键键合的Ｃ６０自组装单层和多层膜,并且随着膜的层数增加,Ｃ６０ 与乙二胺的键合由一维线形结构向三维网状结构转变,光致发光研究表明,Ｃ６０ 自组装膜存在与Ｃ６０ 不同的光致发光峰,且发光峰强度和位置随Ｃ６０ 自组装膜层数的不同而变化．     

席夫碱自组装膜对铜缓蚀性能的研究

合成了双水杨醛缩邻苯二胺席夫碱,在铜片表面制备了席夫碱的自组装分子膜.利用电化学工作站分析了席夫碱自组装膜对铜片的缓蚀效果,利用金相显微镜观察1 mol/L HCl腐蚀后铜片表面形貌.结果表明:双水杨醛缩邻苯二胺席夫碱对铜有一定的缓蚀效果,自组装膜在1 mol/L的盐酸溶液中缓蚀效率达到85.3％.自组装膜的缓蚀效率与浓度有关,浓度高的自组装膜对铜片的缓蚀作用明显高于低浓度的自组装膜.     

金基质的固体表面荧光法测定痕量Mn2+

以金片作为固体基质,通过自组装方式把荧光物质1-萘胺乙酸(NAA)间接组装在金表面,制备具有荧光特性的NAA/Cys/Au自组装膜.利用在酸性介质中,Mn2 可使NAA/Cys/Au自组装膜表面荧光产生猝灭,且荧光猝灭程度和Mn2 浓度在5.0×10-6～3.0×10-5 mol·L-1范围内呈现良好的线性关系,从而建立利用固体表面荧光检测Mn2 的新方法,其检测下限为9.64×10-7 mol·L-1.荧光被Mn2 猝灭后的自组装膜,可在NaOH溶液中实现膜表面荧光的再生.     

自组装单分子膜的缺陷及修饰研究现状

综述了自组装单分子膜的结构及组装方法,缺陷产生的机理、表征方法,以及对自组装单分子膜缺陷的修饰方法．自组装单分子膜可分为单层膜和多层膜．单层膜主要指以共价键和离子键为驱动力形成的,多层膜的组装方法主要是分子沉积(MD)技术和基于化学吸附的自组装单分子膜技术．自组装膜的缺陷对其具有的特殊性能有影响,分子的倒伏造成了膜的缺陷,其影响因素很多,其中基片表面的化学组成与化学性质和成膜分子自身性质起决定作用;优化成膜反应条件,可有效地控制膜的增长．     

Banach空间中的广义m—增生映象

1　ＰｒｅｌｉｍｉｎａｒｉｅｓＴｈｒｏｕｇｈｏｕｔｔｈｉｓｐａｐｅｒ ,ｌｅｔＥｂｅａｒｅａｌＢａｎａｃｈｓｐａｃｅｗｉｔｈｄｕａｌｓｐａｃｅＥ ,2 Ｅ ｄｅｎｏｔｅｔｈｅｆａｍｉｌｙｏｆａｌｌｔｈｅｎｏｎｅｍｐｔｙｓｕｂｓｅｔｓｏｆＥ ,ａｎｄ〈· ,·〉ｄｅｎｏｔｅｔｈｅｄｕａｌｐａｉｒｂｅｔｗｅｅｎＥａｎｄＥ .ＬｅｔＡ :Ｅ → 2 Ｅｂｅａｍｕｌｔｉｖａｌｕｅｄｍａｐｐｉｎｇ .ＤｅｆｉｎｅｔｈｅｎｏｒｍａｌｉｚｅｄｄｕａｌｉｔｙｍａｐｐｉｎｇＪ :Ｅ→ 2 Ｅ ｂｙＪ(ｘ) ={ ｆ∈Ｅ :〈ｘ ,ｆ〉 =‖ｆ‖ ·‖ｘ…     

席夫碱自组装膜对铜的腐蚀保护

首次用交流阻抗和稳态极化技术测试了带有巯基的席夫碱在0．5mol／LNaCl溶液中对铜的缓蚀作用，初步结果显示，所研究的席夫碱可以在HNO3处理的铜表面自组装成膜，该膜对铜有一定的腐蚀保护能力。     

B-et-B自组装膜对铜的缓蚀作用

首次合成了B-et-B，用交流阻抗的方法探索了成膜条件对铜缓蚀效率的影响，实验发现HNO3法处理铜电极能够提高膜的质量；随着成膜时间的增长、成膜液浓度的增大，缓蚀效率增大。     

一种Schiff碱铜配合物对双氧水漂白的催化作用

水杨醛与牛璜酸以1∶1的比例在无水乙醇中反应,生成水杨醛缩牛璜酸席夫碱,再与C u（Ⅱ）金属离子络合,合成Schiff碱铜配合物,用红外光谱证实了其结构。通过＂正交试验法＂研究了该配合物对双氧水漂白棉织物的催化作用。实验对漂白后的棉织物的断裂强度、白度等指标进行了测试及分析,结果表明,该配合物对双氧水漂白有较好的催化作用。当配合物的浓度为0.4 g/L,pH=9,温度为60℃,时间为60 m in,此时棉织物的白度和断裂强度较好。     

自组装巯基环肽单层膜修饰金电极电化学行为的研究

应用循环伏安及交流阻抗技术研究了巯基环肽自组装单层膜修饰金电极的电化学行为，证明了巯基环肽分子能够在金表面形成一定覆盖度的吸附层，同时考察了金/巯基环肽自组装单层膜电极在不同pH值的KCl溶液中的电化学行为。为深入研究巯基环肽的膜结构及性质打下了必要的基础。     

一种希夫碱铜配合物与DNA相互作用的研究

设计合成一种希夫碱2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑水杨亚胺(L)及其铜的配合物Cu(L),运用红外、紫外、元素分析等方法对其结构进行表征.同时在pH=7.5的三羟甲基氨基甲烷-盐酸缓冲溶液(Tris-HCl)中用荧光光谱法研究了该配合物Cu(L)与DNA的相互作用,结果发现配合物Cu(L)与DNA的作用模式是插入式模式,测得Cu(L)与DNA的结合常数为K=2.0×104mol.L-1,线性相关系数r=0.999 5,并且还用不同的离子强度和不同的浓度[Fe(CN)6]4-对Cu(L)配合物与DNA体系的荧光光谱的影响情况进行研究,从而进一步论证了其相互作用模式是插入式.     

丙烯酸-马来酸酐共聚物络合超滤分离水溶液中Pb2+和Zn2+的实验研究

采用丙烯酸-马来酸酐共聚物(PMA)为络合剂, 研究络合超滤技术对水溶液中Pb²⁺和Zn²⁺的分离效果、竞争络合效应以及外加盐对分离效果的影响。以两种金属离子截留率之差表示分离率, 以单一金属离子溶液中离子截留率与混合溶液中该离子的截留率之差表示金属离子间的竞争强度。结果表明: 随着PMA浓度增加, 两种金属离子的分离率先增大后减小, 当PMA浓度为200 mg/L时, 分离率达到最大值, 为54.47%。pH从2增加到6时, 分离率先增大后减小, 且在H=4时达到最大, 为71.34%。两种金属离子的竞争效应随pH及PMA浓度的增加先增强后减弱, 在pH=5, PMA浓度为200 mg/L时, 混合溶液中两种离子竞争效应最强。外加Na₂SO₄对分离率有较大影响, 随着 n(Na₂SO₄)增大分离率增加, 随后基本保持不变, 在n(Na₂SO₄)=0.06 mol/L时, 分离率达到最大值, 为97.677%。加入Na₂SO₄减弱了Zn²⁺的竞争络合能力, 有利于两种金属离子的分离。     

手性希夫碱的合成及其催化不对称硅氢插入反应的研究

合成了结构中同时含有氮和磷的新型手性希夫碱,将希夫碱与金属配合物结合催化α-苯基-α-重氮乙酸甲酯与硅氢化合物的不对称硅氢插入反应,考察了不同的金属铜配合物和希夫碱对反应的影响,探讨了手性希夫碱／金属配合物催化体系对不同硅氢底物的适应性．当采用希夫碱4与Cu（CH3CN）4PF6的催化体系催化α-苯基-α-重氮乙酸甲酯与二甲基苯基硅烷的不对称硅氢插入反应时,反应具有优良的产率（100％）和对映选择性（76％）．     

邻香草醛缩壳寡糖席夫碱及其Cu(Ⅱ)配合物与DNA的相互作用

用邻香草醛对天然高分子壳寡糖进行改性, 将其与具有优异配位性能的席夫碱和Cu2+配位, 制备邻香草醛席夫碱改性壳寡糖的铜配合物, 并通过循环伏安法、 紫外光谱、 黏度和熔点法, 考察席夫碱及铜配合物与DNA的作用机制. 结果表明： 配合物具有电化学活性, 当扫描速率为0.025~1.0 V/s时, 配合物在玻碳电极上的反应主要由吸附过程控制; 加入DNA后, 配合物的氧化峰电流减小, 峰电位微弱移动, VCOS Cu13和VCOS Cu31与DNA可形成1∶1（物质的量比）型配合物, 结合常数分别为0.78×104,0.69×104 L/mol; 配合物的吸收峰强度降低, 峰位出现红移; DNA的相对黏度和熔点在加入配合物后增大; 席夫碱及两种配合物以嵌插模式与DNA作用.