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B-et-B自组装膜对铜的缓蚀作用
引用本文:陈玉红,王庆飞,丁克强,崔敏,童汝亭,高政.B-et-B自组装膜对铜的缓蚀作用[J].河北师范大学学报(自然科学版),2003,27(4):377-379.
作者姓名:陈玉红  王庆飞  丁克强  崔敏  童汝亭  高政
作者单位:1. 河北师范大学,化学学院,河北,石家庄,050016
2. 河北师范大学,化学学院,河北,石家庄,050016;中国科学院,山西煤炭化学研究所,山西,太原,030001
3. 衡水师范专科学校,化学系,河北,衡水,053000
基金项目:国家自然科学基金资助项目(2997302 6 )
摘    要:首次合成了B-et-B,用交流阻抗的方法探索了成膜条件对铜缓蚀效率的影响,实验发现HNO3法处理铜电极能够提高膜的质量;随着成膜时间的增长、成膜液浓度的增大,缓蚀效率增大。

关 键 词:铜缓蚀剂  缓蚀作用  缓蚀效率  B—et—B自组装膜  席夫碱  成膜条件  成膜时间  成膜液浓度
文章编号:1000-5854(2003)04-0377-03
修稿时间:2002年10月14

Corrosion Protection of Copper by a Self-assembled Monolayer of B-et-B Schiff Base
CHEN Yu hong ,WANG Qing fei ,DING Ke qiang ,CUI Min ,TONG Ru ting ,GAO Zheng.Corrosion Protection of Copper by a Self-assembled Monolayer of B-et-B Schiff Base[J].Journal of Hebei Normal University,2003,27(4):377-379.
Authors:CHEN Yu hong  WANG Qing fei  DING Ke qiang    CUI Min  TONG Ru ting  GAO Zheng
Institution:CHEN Yu hong 1,WANG Qing fei 1,DING Ke qiang 1,2,CUI Min 1,TONG Ru ting 1,GAO Zheng 3
Abstract:The influencing factor of Schiff base corrosion protection were discussed using electrochemical impedance spectroscopy (EIS). The results demonstrated that the monolayer quality will be increased by the treatment of copper electrode in nitric acid. The abilities of corrosion protection will be improved with the longer time of self assembled monolayer and the increasing concentration.The mechanism of corrosion was also discussed primarily.
Keywords:Schiff base  self  assembled monolayer  anti  corrosion  copper
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