掺镧氟化钡晶体的闪烁光慢成分抑制特性

掺镧氟化钡晶体的闪烁光慢成分抑制特性顾牡，陈玲燕研究不同掺Ｌａ浓度下ＢａＦ２闪烁晶体的慢成分抑制特性对于该晶体的实际应用具有十分重要的意义．通过同步辐射闪烁光衰减时间港和Ｘ光激发发射光谱的测量，我们系统地获得了在掺Ｌａ含量小于或等于１（质量分数）范围...     

软X射线多层膜透射式起偏器和检偏器设计

叙述了软X射线波段多层膜透射式起偏器和检偏器的设计原理，提出了设计准则，通过该准则设计的多层膜偏振元件能够同时满足具有较大的光通量和偏振度要求．同时还优化了不同膜厚比情况下软X射线多层膜偏振元件的性能，讨论了在多层膜制作过程中，由于表界面粗糙度和扩散的不同对元件性能的影响，这些工作为制作软X射线多层膜透射式起偏器和检偏器提供了设计基础。     

X光激光Nd靶表面氧化规律的研究

利用类Ｎｉ机制的Ｎｄ靶可以得到效率高、波长短的Ｘ光激光，在软Ｘ光激光实验中具有良好的应用前景，Ｎｄ靶表面氧化层的情况对实验结果有着十分重要的意义，为此用磁控溅射镀膜法制备了Ｎｄ靶，研究了Ｎｄ靶在不同环境气氛下的氧化过程，并初步探讨分析了氧化机理，提出了Ｎｄ靶的防氧化措施。     

X 射线超反射镜设计、制作与表征

探讨了 X 射线波段超反射镜的设计, 采用了周期膜堆作初始条件加单纯形局域优化和模拟退火全局优化方法, 设计了工作能量为Cu的Kα(8.0 keV)线的不同掠入射角和不同角度带宽的宽角度X射线超反射镜和8~25 keV范围内不同掠入射角和不同能量带宽的宽带X射线超反射镜. 同时, 还系统研究了非周期多层膜超反射镜的制备工艺, 解决了多层膜制备过程中遇到的一些工艺性问题和精确定标的问题, 进行了不同膜层材料对组合的超反射镜制备实验, 成功制备了相应的多层膜样品. 利用高分辨率X射线衍射仪测量了样品的反射率, 所得结果与设计值基本相符.     

施工项目质量成本核算与控制研究

<正>施工项目质量成本是全面质量管理活动的经济性表现,是衡量质量体系有效性的一个重要因素。良好的产品质量与适度的低成本并不是相互矛盾的。对质量成本进行核算,不仅可以找到降低成本的途径,提高经济效益;还可以监督和指导质量管理活动的正常进行,确保工程施工的质量。一、施工项目质量成本及其构成1.施工项目质量成本的概念。质量成本的概念是由美国质量专家A.V.菲根堡姆在20世纪50年代提出来的。施工项目质量成本是指施工项目为保证达到预定的工程质量要求而支出的费用,以及为达到预定的质量水平而返工所造成的经济损失之     

软X射线激光用分束镜研制

软X射线干涉测量是通过软X射线激光经过Mach-zehnder干涉仪完成的, 是测量临界面附近等离子体状态的重要方法. 基于软X射线多层膜的性能特点, 指出软X射线干涉测量的干涉仪各光学元件的入射角越接近正入射越好, 分束镜的设计应以其反射率和透过率的乘积为衡量标准. 用离子束溅射法制作了类镍银13.9 nm软X射线激光干涉测量所需的分束镜, 实测表明其面形精度达到纳米量级, 反射率和透过率乘积大于1.6%.     

极紫外和软X射线多层膜光学

综述了极紫外和软X射线多层膜光学及其应用，指出了极紫外和软X射线光学的优点和难点。在软X射线激光诊断高温高密度等离子体的干涉实验中，迫切需要既有一定反射率、又有一定透过率，同时具有很高面形精度的半反半透多层膜和高反射率多层膜组成的X射线激光干涉仪，以实现对高温等离子体临界面附近电子密度的诊断。在分析软X射线多层膜偏振特性基础上，设计了类镍银软X射线激光干涉仪用半反半透多层膜，并用离子束溅射方法制备了这样的元件，同步辐射反向率和透过率测试表明已制备的半反半透多层膜达到了进行软X射线干涉实验的要求。     

软X光激光In衰减膜的制备及测量

通过对制备工艺的摸索 ,制备出用于软X光激光实验的In衰减膜 ;利用α能谱测厚仪对In衰减膜的质量厚度进行了测量 ;通过俄歇电子谱并结合Ar离子刻蚀对In膜表面氧化及氧元素质量分数的深度分布进行了分析 .     

Al Lβ吸收边附近透过谱的奇怪振荡

厚度从几百纳米到几微米的无衬铝膜被广泛地用做软X射线的滤光片和衰减膜。例如在多靶的类氖锗软X射线激光实验中,谱线强度的变化有3～5个数量级,为保证记录底片能工作在线性区,需根据靶长的变化更换不同厚度的铝膜对实验中产生的软X射线进行衰减。又如在同步辐射软X射线波段的应用中,往往需要加很薄(几百纳米厚)的铝膜挡掉同步辐射中的可见光成分。此外,Al元素的K、L吸收边也被广泛地用于软X射线能量的定标中。 作者分别在同济大学和长春光学精密机械研究所用热蒸发和电子束蒸发两种方法制备了0.3μ到2.5μm厚的无衬铝膜。在已抛光的玻璃衬底上先蒸镀一层NaCl作为脱膜剂,然后蒸镀Al膜,经脱膜获得厚度均匀(不均匀性小于5％,在100平方毫米范围内)的无衬铝膜。杜杰,王珏等对Al膜所作的Auger谱分析表明:铝膜表面的氧化层大约有7.5nm厚,氧化的主要产物是Al_2O_3。