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X光激光Nd靶表面氧化规律的研究
引用本文:张哲,陈玲燕,吴永刚,乔轶.X光激光Nd靶表面氧化规律的研究[J].同济大学学报(自然科学版),2000,28(5):579-583.
作者姓名:张哲  陈玲燕  吴永刚  乔轶
作者单位:同济大学 波耳固体物理研究所,上海 200092
基金项目:国家高技术863基金资助项目(863-410-3-9)
摘    要:利用类Ni机制的Nd靶可以得到效率高、波长短的X光激光,在软X光激光实验中具有良好的应用前景,Nd靶表面氧化层的情况对实验结果有着十分重要的意义,为此用磁控溅射镀膜法制备了Nd靶,研究了Nd靶在不同环境气氛下的氧化过程,并初步探讨分析了氧化机理,提出了Nd靶的防氧化措施。

关 键 词:Nd靶  氧化过程  防氧化  X光激光
文章编号:0253-374X(2000)05-0579-05
修稿时间:1999年11月8日

Research on the Surface Oxidation Process of Ni- like Nd X- ray Laser Target
ZHANG Zhe,CHEN Ling-Yan,WU Yong-gang,QIAO Yi.Research on the Surface Oxidation Process of Ni- like Nd X- ray Laser Target[J].Journal of Tongji University(Natural Science),2000,28(5):579-583.
Authors:ZHANG Zhe  CHEN Ling-Yan  WU Yong-gang  QIAO Yi
Abstract:Ni-like Nd target has good prospective for application because we can get high-gain X-ray laser with shorter wavelength by it. The surface oxidation of Nd target is significant to the stability of the results in the X-ray experiment. We prepare the Nd target by sputtering and study the oxidation process under different environment. The mechanism of surface oxidation is studied, thus we propose the way to prevent oxidation.
Keywords:Ni-like Nd target  surface oxidation process  anti-oxidation
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