机械刻槽深埋电极太阳电池中二氧化硅层的制备

结合实验室制备机械刻槽深埋电极太阳电池的工艺过程及实验结果，给出二氧化硅层参数的最佳设计及制备方法．实验结果表明，1000℃氧化温度下采用干-湿-干氧化法，经过70分钟可生长350nm～450nm厚的二氧化硅层．这不仅大大缩短了高温氧化时间，降低了生产成本，而且氧化层的质量和厚度也能满足器件和工艺过程的要求．     

后氧化对陶瓷热喷涂层结合强度的影响

以ＺｒＯ２热喷涂陶瓷层为代表，从工艺过程中的氧化现象着手，绫化学后处理中的氧化问题进行了大量的实验。以这些实验结果为依据，分析了氧化对涂层结合强度的影响，初步揭示了后氧化对热喷涂陶瓷层结合强度的影响规律。     

纯铜表面稀土渗铝层的内氧化

利用稀土化合物CeCl3对纯铜表面渗铝进行催渗。采用工业N2中的余氧作为内氧化介质对纯铜渗铝后的试样进行内氧化，可在纯铜表面制备一层细小弥散的Al2O3粒子。对内氧化层的硬度分布、显微组织及有关性能进行了初步分析。实验结果表明：稀土化合物CeCl3对纯铜渗铝过程具有明显的催渗效果，在同等工艺条件下渗层厚度较高且更加均匀；内氧化后，能在渗铝层形成Al2O3弥散硬化层。     

等离子体微弧氧化技术及其应用

等离子体微弧氧化是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷膜的新技术。本研究详细介绍了微弧氧化技术的发展历史和研究现状，微弧氧化的基本原理，制备方法，工艺特点，以及膜层的结构和性能特点，并对这种陶瓷膜层的应用予以展望。     

铁基合金上几种常见氧化层开裂及剥落的声发射研究

用声发射（ＡＥ）技术研究了铁基合金上几种常见氧化层在恒温氧化和随后冷却过程中发生的裂及剥落行为。获得了ＡＥ累积计数及温度对时间的变化曲线。通过显微镜、扫描电镜的观察和Ｘ射线射衍物相分析，确定了实验合金表面氧化层的主要物相。结果表明：除了加Ｓｉ合金的氧化层在恒温氧化过程已开裂外，其余合金的氧化层均在冷却时开裂并剥落。Ｆｅ－２５Ｃｒ－１０Ａｌ合金上α－Ａｌ２Ｏ３层的开裂及剥落落最为剧烈。Ｆｅ－２５Ｃｒ     

铝铜合金阳极氧化新工艺

在低浓度复合电解液中，利用分阶段升压技术，高温下在阳极氧化较难的铝铜合金LY12上制备了具有较高厚度、硬度和良好外观的银白色氧化膜层．实验研究了各工艺参数对膜层性能的影响．结果表明：磷酸是主要成膜物质；由定量的有机羟酸和导电盐组成的添加剂可大大提高膜层的厚度；电流密度的大小对膜层性能影响较大；采用分阶段升压方式可使电流密度在较长时间内保持较大的值；阳极氧化电压，氧化温度及氧化时间等对成膜过程也有一定影响．     

镁合金微弧氧化膜层结构

在硅酸盐碱性溶液中，采用恒电流控制模式，在电流密度为20A／dm^2时，以镁舍金AZ91为基体制备微孤氧化薄膜。利用X射线衍射分析手段对制得的微孤氧化膜层进行相结构分析，通过扫描电子显微镜对氧化膜层的表面、横截面及断口等进行研究，还探讨了表面疏松层和致密层的形成机制。研究结果表明：制得的镁舍金微孤氧化膜由MgO，MgSiO3和MgAl2O4等相组成；微孤氧化膜层由表面疏松层和致密层构成；镁合金微孤氧化形成的表面疏松层为多孔结构，这种孔呈网络结构分布；而形成的致密层结构非常致密，没有发现孔洞，而且它和基体的结合非常紧密；表面疏松层和致密层是经过“成膜→击穿→溶化→凝固→烧结……”等一系列循环过程形成的。     

铁基合金上几种常见氧化层开裂及剥落的声发射研究

用声发射（ＡＥ）技术研究了铁基合金上几种常见氧化层在恒温氧化和随后冷却过程中发生的开裂及剥落行为。获得了ＡＥ累积计数及温度对时间的变化曲线。通过显微镜、扫描电镜的观察和Ｘ射线射衍物相分析，确定了实验合金表面氧化层的主要物相。结果表明：除了加Ｓｉ合金的氧化层在恒温氧化过程已开裂外，其余合金的氧化层均在冷却时开裂并剥落。Ｆｅ２５Ｃｒ－１０Ａｌ合金上α－Ａｌ２Ｏ３层的开裂及剥落最为剧烈。Ｆｅ－２５Ｃｒ－７．５Ｎｂ合金的Ｃｒ２Ｏ３层ＡＥ总计数远远高于Ｆｅ－２５Ｃｒ合金。而Ｆｅ－２５Ｃｒ－４Ｔｉ和Ｆｅ－２５Ｃｒ－９Ｍｎ的情况与Ｆｅ－２５Ｃｒ大体相同。     

实验分析12CrMoV高温合金在外拉伸力作用下的高温氧化规律

在大量实验的基础上,对12CrMoV合金钢在外加拉伸力时的高温氧化过程进行试验研究。比较分析了在相同温度条件下有外加拉伸力和没有外加拉伸力时的12CrMoV合金钢的高温氧化反应速率、高温氧化导致的裂纹、氧化层脱落,从而发现了外加拉伸作用力对12CrMoV合金钢高温氧化过程的影响规律。     

单层碳纳米管的纯化与表征

利用焙烧、温和氧化和离心等方法除去电弧放电法制备的单层碳纳米管中的无定形碳、金属催化剂和石墨碎片等杂质．并利用TG-DTA、XRD、SEM等对纯化过程中的样品进行表征。实验证明，该方法对单层碳纳米管的纯化是比较有效的．且经济简便,可以得到纯度为90％．产率为20％的单层碳纳米管。     

影响铝合金微弧氧化成膜效率的因素分析

为了解决目前微弧氧化技术中存在的高电能消耗及低处理效率问题,采用低能耗微弧氧化工艺在铝表面制备氧化物陶瓷膜层,测量并分析电解液成分和质量密度、工艺条件对成膜效率的影响,研究了影响铝合金微弧氧化成膜效率的因素和作用机理,提出了降低工艺能耗的技术途径.结果表明:通过改变添加剂成分和质量浓度、脉宽、峰值电压和处理时间等工艺参数可以有效提高陶瓷膜层沉积效率.在制备过程中平均电流密度均能控制在1 A/dm2以下,平均单位成膜效率为2.8~3.2 kW.h/(m2.μm),获得膜层厚度为25~30μm.所制备的氧化铝陶瓷层的相结构、厚度、粗糙度和硬度等参数与通常微弧氧化技术制备的陶瓷膜相似.     

钨铜基电镀铝层阳极氧化后的组织和性能研究

采用直流草酸法对镀铝层进行阳极氧化,研究了氧化电压和氧化时间对氧化层表面形貌、组织结构及表面绝缘性的影响。采用金相显微镜对镀铝层和氧化层表面形貌进行观察,扫描电镜和X射线衍射仪分析镀铝层和氧化层的成分与结构,并对其硬度进行测试,探索钨铜箔片上制备氧化铝的最佳工艺。实验现象表明:经过阳极氧化处理后,氧化层表面致密平滑,由非晶Al2O3和Al相组成,电绝缘性能良好;氧化铝膜的硬度随着氧化时间呈现先增加后降低,最后趋于稳定的趋势;而氧化铝膜的硬度随着氧化电压增大而增大。当氧化电压控制在30 V,氧化时间在3-6 h时,最有利于氧化膜的形成,且膜厚呈增大趋势。     

Ge微簇表面氧化层厚度的确定及光致发光现象

半导体微簇光致发光现象是目前物理学的研究热点之一。从光电子能普的基本原理出发，提出了一种确定IVA族元素半导体纳米微微的表面氧化层厚度的有效方法并应用于对Ge微族构成纳米组装薄膜的光学性质和光致发光机制的解释。直径为10nm和微簇由2nm厚的表面氧化层及直径为6nm的未氧化中心构成。该中心具有强的量子约束效应导致的基本带隙展宽（光学吸收边蓝移），氧化层、中心及其组合在紫光的激发下产生复杂的光致发光现象。实验结果与文中所提出的理论模型吻合。     

铝合金微弧氧化陶瓷层的耐磨性

应用微弧氧化这一高新表面改性技术在LY12铝合金表面形成陶瓷膜层，并对其在常温下的耐磨性能进行了对比测试与分析。实验结果表明，微弧氧化陶瓷膜层的表面磨损外观比较均匀，磨损痕迹也比较轻微，其表而硬度达到2500HV，是基体的10倍以上。由此可见，微弧氧化技术大大改善了铝合金表面耐磨特性和硬度。     

对天然鳞片石墨及椰壳活性炭进行液相氧化的初步研究

以天然鳞片石墨和椰壳活性炭为原料，在Hummers法基础上制备了氧化石墨和氧化活性炭，研究了液相天然鳞片石墨和椰壳活性炭氧化前后的结构与性能的变化．结果表明：液相氧化过程中存在表面氧化和层间氧化两种氧化反应机制，石墨质材料既有表面氧化也有层间氧化，而炭质材料则以表面氧化为主．表面氧化的结果使氧化石墨和氧化活性炭中均含有大量极性基团，这些基团的存在使它们表现出较强的极性和一定的化学活性．层间氧化使氧化石墨的层间距由原石墨的0．3354nm增加到0．8981nm，石墨片层之间的基团及H2O分子的存在是层间距增大的主要原因．在稀的碱性溶液中，氧化石墨层离后为针状或扁球状纳米颗粒，颗粒之间存在一定的团聚，而氧化活性炭为球状纳米颗粒，团聚后呈直链状．     

铈盐在铝合金阳极氧化后处理工序中的应用

将名合金稀土转化膜成膜工艺用作阳极氧化后处理工艺，多种实验结果表明，阳极氧化后经稀土处理，膜的耐蚀性有明显的提高，铈盐对多孔氧化膜层具有封闭作用，其封闭效果可与常温封闭方法相比拟。     

X光激光Nd靶表面氧化规律的研究

利用类Ｎｉ机制的Ｎｄ靶可以得到效率高、波长短的Ｘ光激光，在软Ｘ光激光实验中具有良好的应用前景，Ｎｄ靶表面氧化层的情况对实验结果有着十分重要的意义，为此用磁控溅射镀膜法制备了Ｎｄ靶，研究了Ｎｄ靶在不同环境气氛下的氧化过程，并初步探讨分析了氧化机理，提出了Ｎｄ靶的防氧化措施。     

电参数和反应时间对微弧氧化热障陶瓷层制备的影响

为解决传统活塞顶部防护技术存在的操作复杂、成本较高和可维修性较差的问题,探索利用微弧氧化技术在铸造铝合金(ZL109)试样表面制备热障陶瓷层,以抵抗活塞顶部受到的热冲击和高温腐蚀.在前期研究工作基础上,重点研究电源频率、占空比和反应时间对热障陶瓷层制备的影响.实验表明:在电源频率为400 Hz、占空比为40％、反应时间为20 min条件下,所制备得到的陶瓷层表面较平整,孔隙缺陷少,膜层致密性较好.研究结果表明,微弧氧化技术在活塞顶部表面防护领域具有较好的应用前景.     

多孔阳极氧化铝膜的制备工艺研究

以草酸为电解液研究了多孔阳极氧化铝膜的制备工艺，采用扫描电子显微镜对多孔氧化铝膜的形貌进行表征．分别讨论了阳极氧化电压和电解液温度对多孔阳极氧化铝膜的形貌及孔径的影响．实验结果表明，当氧化时间为8h时，氧化膜厚度达到最大值85μm．     

氧化回流法制备锑酸钠工艺研究

本研究了以三氧化二锑为原料、过氧化氢为氧化剂、常压氧化回流法制备锑酸钠的工艺过程，并通过产品质量分析确定了适宜的制备工艺条件，所得结构为工业化应用奠定了基础。