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相似文献
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1.
我们应用光声技术,研究a-Si:H/a-SiN_x:H超晶格薄膜中载流子的非辐射复合和量子尺寸效应,发现载流子的非辐射复合与超晶格薄膜中的缺阱有关;超晶格薄膜的光学能隙随着势阱宽度减小而增大。  相似文献   

2.
非晶半导体超晶格薄膜的光声谱研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文对a-Si:H/a-SiN_x:H超晶格薄膜进行了光声谱研究.在光声谱中可以观察到由于量子尺寸效应所引起的吸收边“兰移”现象.将超晶格系列样品的光声谱与它们的光吸收谱以及本征硅的光声谱作了比较,研究表明,在a-Si:H/a-SiN_x:H超晶格中光生载流子(电子和空穴)的非辐射复合比本征硅要大得多.光生载流子在带间的跃迁主要属于辐射跃迁,在带尾间的跃迁,主要属于非辐射跃迁.  相似文献   

3.
本文报导用射频溅射法制备出一种新型非晶态半导体超晶格薄膜α—Si:H╱α—SiY:H,并验证了其量子尺寸效应。  相似文献   

4.
在300-77K温区内对射频溅射制备的a-Si:F,H薄膜样品作了直流电导测量,结果表明,当T>200K时载流子的传导是以最近邻跳迁传导为主,而在77K<T<140K温区变程跳跃传导点了主要地位,费米能级附近的隙态密度约为10^20cm^-3eV^-1。  相似文献   

5.
自1983年 Tiedje 和 Abeles 等人报导了非晶态半导体超晶格以来,非晶态半导体超晶格以它特殊的性质和潜在的应用前景(如太阳能电池,TFT 等)越来越引起人们的注意。由于非晶态长程无序,因而非晶态超晶格不像晶态超晶格那样在界面处要求严格的晶格匹配。人们已经用辉光放电法生长了 a-Ge∶H/a-Si∶H 超晶格(?)~2,但是这种方法  相似文献   

6.
本文报导了a—Si:H/a—Si_(1-())N_x:H非晶半导体超晶格薄膜的制备方法及其量子尺寸效应。  相似文献   

7.
利用微波吸收技术对Si衬底上微晶及纳米β-SiC薄膜的过剩载流子瞬态行为进行了分析.所用样品采用PECVD技术制备,微波吸收测量采用脉宽35 ps,波长355 nm脉冲激光.所测得的载流子浓度衰减分为快、慢2个过程,微波吸收瞬态特性满足双指数衰减规律.该结果表明,样品光生载流子衰减过程主要决定于2种陷阱作用,其中快过程与SiC薄膜中浅能级陷阱的载流子弛豫效应相关,而慢过程则是深能级陷阱的载流子弛豫行为占优势的结果.纳米碳化硅晶粒界面较高的缺陷态密度导致载流子俘获几率增加,非辐射复合几率减小,纳米β-SiC薄膜表现较长的载流子衰减时间.  相似文献   

8.
本文报导了未掺杂的 a—Si∶H/a-si_(1-x)C_x∶H 超晶格的 PPC 效应及光学带隙的兰移现象.通过红外测(?)发现:(Si—C)键的吸收强度随超晶格界面数的增加而增大.  相似文献   

9.
介绍了使用HF/LF-PECVD方法制备适用于晶体硅太阳能电池的SiNx:H薄膜.在温度、压强、射频功率和板极间距固定的条件下,通过改变气体流量,制备不同特性的薄膜,并测量薄膜的厚度均匀性、薄膜的折射率和基底的少数载流子寿命的变化,从这三个方面对SiNx:H薄膜的特性进行研究.  相似文献   

10.
本文研究了用氦和氢稀释硅烷GD淀积a-Si:H膜的光电性质。测量了两种薄膜的光电导、光吸收系数、红外吸收谱和光致发光谱。实验表明用氦稀释的a-Si:H膜具有更高的光电导、更大的长波可见光吸收系数和较低的缺陷态密度,a-Si:H(He)膜是一种可供选择的廉价太阳电池的基本材料。  相似文献   

11.
采用光谱测量技术分析了CH3NH3PbI3薄膜的光致发光增强效应及其对载流子复合动力学的影响.实验结果表明,增加光浴功率密度有助于提高薄膜的光致发光增强速率,O2环境有利于薄膜的光致发光增强.CH3NH3PbI3薄膜光浴处理引入的光致发光增强效应源于薄膜内缺陷态浓度降低.同时利用微波吸收介电谱技术,表征了CH3NH3PbI3薄膜光浴前后,自由载流子和浅能级束缚载流子的复合动力学.发现光浴后,薄膜的自由载流子和浅能级束缚载流子浓度明显提高.  相似文献   

12.
考虑非辐射复合,采用小信号近似方法分析了微腔半导体激光器的自发发射寿命调制。数值模拟结果表明 ,非辐射复合对微腔半导体激光器自发发射寿命调制的调制带宽有一定影响,它可使特定注入电流下的共振峰消除,但由于耗散导致强度响应减弱  相似文献   

13.
本文报道了用等离子放电SiH_4+H_2+H_2O混合气体淀积氢化非晶硅氧合金膜,均匀、致密、耐腐蚀、半绝缘、电中性、富含氢,是较理想的半导体器件钝化膜。兼有SiO_2和a-Si:H的优点,而又克服了它们各自的缺点。用它钝化的平面晶体管放在盐水里几小时后,特性不变。  相似文献   

14.
对金刚石膜和氢化非晶碳膜的电阻率测试方法进行了对比研究,即对金刚石膜采用“大”尺度电极,氢化非晶碳膜采用“大”尺度电极和小尺度电极测量I-V曲线进行对比分析和讨论,得出了有意义的结果。  相似文献   

15.
本文介绍了为开发大面积非晶碳化硅发光器件而研制的等离子体辉光放电淀积装置及非晶碳化硅薄膜的淀积方法,以及利用透射光谱同时测量薄膜厚度与光学常数的方法,并对生长薄膜的光学性质利用吸收光谱和场致发光谱进行了讨论。  相似文献   

16.
本文报道了低压气相直流辉光放电沉积a-C:H膜和膜的部分物理、化学性质.这些性质非常接近于硅电池AR膜的最佳要求.在硅单晶太阳电池表面沉积1000(?)左右的a-C:H膜作为AR膜,在部分电池上获得了与SiO AR膜可比的结果.  相似文献   

17.
研究a Si:H薄膜样品在长时间强光照后会引起光、暗电导率的降低 (S W效应 )及薄膜的光转换效率 实验表明 ,随着光照时间增加 ,薄膜的光接受灵敏度下降 ,光电转换效率也相应降低 ,就此提出了S W效应发生的微观模型  相似文献   

18.
In this paper,we investigated the recombination dynamics of photogenerated charge carriers in a poly(3-hexylthiophene)(P3HT):[6,6]-phenyl-C 61-butyric acid methyl ester(PC 61 BM) blend system with donor-acceptor ratio of 1:1 before and after solvent annealing treatment.The technique of transient photocurrent and photovoltage measurements were used,and charge carriers were photogenerated by a 7 ns laser pulse at room temperature(298 K).In transient photocurrent measurement,we observed some differences in the saturation extracted charge in P3HT:PCBM solar cells with different power efficiencies.In addition,the bimolecular recombination coefficient is found to be 3.5×10-13 cm 3 s-1 for annealed devices,while 9.5×10-12 cm3 s-1 for as-cast devices.In the transient photovoltage measurement,we found that the photovoltage decay can be fitted by power-law equation at long time scale.The exponent parameter is 2.6 for annealed devices,which can be described as trap-free bimolecular recombination;is 1.76 for as-cast device due to the trap-limited bimolecular recombination.These experimental results indicate that the nanomorphology of active layer indeed have influence on charge carriers dynamics in P3HT:PCBM blend systems.  相似文献   

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