三维中子扩散方程本征值问题有限元解及其加速收敛方法

本文用有限元方法求解三维二群中子扩散方程的本征值问题,并对加速迭代收敛方法作了研究,在这基础上,研制了通用程序.程序包括三维区域的有限元网格信息自动生成,分别采用了20节点六面体等参元、8节点四棱柱体、6节点三棱柱体等四种元素.在使用简单迭代法后,再进行加速收敛,获得了良好的结果. 程序所需原始数据少,使用方便,与差分法比较,计算时间大为减少.与国际上同类型问题的有限元算法比较,速度也要快得多.     

“死亡元素”

氟元素是人体所需的元素,但过量或大气与水中福污染会引发氟危害。本文对此进行了评述,并提出了氟污染主要系统。     

"死亡元素"

氟元素是人体所需的元素,但过量或大气与水中福污染会引发氟危害.本文对此进行了评述,并提出了氟污染主要系统.     

星算法的LISP程序

此文提供了星算法的一个LISP程序,它具有程序简短,所需存贮空间少的特点。由于采取了优化措施,它能方便地在微处理机上实现。借助此程序可以为给定的组合电路求出任一故障的完全测试集,以便进一步建立最佳的故障检测集。此程序也容易推广到求多故障和时序电路的测试集。     

程序切片常用算法研究

程序切片是一种有效的程序分析技术，它能根据给定的切片准则从源程序中提取出所需部分进行分析，如进行程序调试、测试、程序重构分析等。本文主要研究程序切片的准则以及相关算法。     

基于SDK的软件设计方法

对现在一些公司所提供的SDK软件包开发程序进行了拆分,清晰地剖析出所需开发的主干内容,从而能有效地提高了软件开发的效率。     

AppleⅡ的造型表绘图与键控绘图

本文将AppleⅡ机上造型表绘图与键控图结合起来编制了一个新的程序,克服了原来单独使用的缺点,能很快绘制出所需的电路图。     

地图符号构成元素的结构模式

在分析地图符号视觉变量的基础上，提出地图符号构成元素的新概念．指出地图符号构成元素由位置、形状、色彩、尺寸、网纹、方向和注记组成．探讨了符号构成元素的设计模式和设计程序     

冲裁件图形和尺寸的数字模型及程序

本文提出了冲裁件图形和尺寸的数字模型.借助该模型及相应的程序,自动生成图形的函数模型,从而获得冲裁件内外轮廓的节点坐标并提供冲裁模具计算机辅助设计后继程序所需的其它信息.     

XRF谱仪新软件的研究与应用

针对ＰＷ１４０４型荧光谱仪，编写了读取数据缓冲区数据的程序，并与自编的Ｐｌｅｓｃｈ校正元素选择判据计算程序联接，建立了元素的质量衰减系数数据库。将该新软件用于地质样品分析表明，该新软件可根据试样的具体情况确定分析方法，并可随时补充新的研究成果，使仪器始终处于先进水平。     

TCDS中基于文件传输路径的响应时间评测

介绍了具有时间约束的分布式软件(TCDS)的可靠性评估方法,阐述了线性文件传输路径的响应时间评估算法;根据这种思想,通过改变配置文件中被测分布式系统的拓扑结构、链路的通信能力和可靠性以及每个程序的所需文件集等信息。能真实模拟现实环境中不同拓扑下的分布式软件．该响应时间评估算法的使用可以减少测试程序的运算时间开销。提高具有时间约束的分布式软件可靠性评测的效率．     

原子结构参数的Xα法计算

本文推荐一种修改的Xα方法以计算分子中原子的结构参数,从而可进一步对分子的某些性质作出表征或者计算。所用的方法可计算不同化学环境下原子的参数。由于掌握了在分子中原子的波函数、径向分布函数、散射因子等基本参数和函数,故此法实际上可推广用到多种原子参数的计算上去。此计算可用微机实现,不像从头算那样耗时多,结果却不比从头算差,因此推荐此法是有益的。     

北京市局部大气沉降颗粒表面成分分析

采用X射线光电子能谱（XPS）对大气沉降颗粒表面元素组成和元素的存在形式进行分析,发现其表面含有Al、Ca、Si等地壳元素和C、N、O等轻元素。Al、Si、Ca等地壳元素的原子数分数总和高达16.4%,表明大气颗粒物的沉降过程伴随着地壳元素的累积;元素S与N的原子数分数比值接近1,表明没有足够的碱性物质NH₃中和酸性物质SO₄^2-,沉降颗粒表面呈现酸性。结合高分辨率XPS图谱分析,发现沉降颗粒物表面的含碳物质以有机含碳化合物为主,同时存在少量的无定型碳;而氮元素则主要来源于以NO_x、NH₄⁺为主的无机氮和以吡啶氮为主的有机氮。     

Hardness of Mn2V2O7 thin films and its influential factors

Mn2V2O7 thin films were deposited onto amorphous glass substrates using a chemical bath deposition method and different deposition time. X-ray diffraction (XRD) analysis was used to define the structure of the films. Their roughness, thickness, and surface properties were evaluated through atomic force microscopy (AFM). The hardness of the films was measured using a nanohardness tester. The film thickness, average grain size, and roughness were positively correlated with each other. These three parameters were observed to increase with the deposition time. The film thickness and average grain size were inversely correlated with the hardness and rough-ness. In addition, the number of crystallites per unit area and the dislocation density were observed to be positively correlated with the hardness and roughness. This study was designed to elucidate and formalize the underlying reasons for these relationships.     

Hardness of Mn_2V_2O_7 thin films and its influential factors

Mn2V2O7 thin films were deposited onto amorphous glass substrates using a chemical bath deposition method and different deposition time. X-ray diffraction(XRD) analysis was used to define the structure of the films. Their roughness, thickness, and surface properties were evaluated through atomic force microscopy(AFM). The hardness of the films was measured using a nanohardness tester. The film thickness, average grain size, and roughness were positively correlated with each other. These three parameters were observed to increase with the deposition time. The film thickness and average grain size were inversely correlated with the hardness and roughness. In addition, the number of crystallites per unit area and the dislocation density were observed to be positively correlated with the hardness and roughness. This study was designed to elucidate and formalize the underlying reasons for these relationships.     

在中等阻值范围内NiCr-O系及Cr-Si系电阻薄膜的应用比较

合金成分、沉积条件以及热处理工艺是影响薄膜性能极其重要的因素,为便于电阻薄膜的合理选材,分析了应用于中阻值范围内的NiCr-O系及Cr-Si系溅射薄膜的膜层结构,对比了它们在热处理前后的电性能变化情况,并通过短期试验考核它们在应用中劣化的可能性.实验结果表明,经退火处理后,Cr-Si系溅射薄膜的膜层构成主要为非晶态基体及SiOx氧化物包围纳米级硅化物相,而NiCr-O系溅射薄膜的膜层主要由Cr2O3和原子范围短程有序的金属相组成;Cr-Si系电阻薄膜比NiCr-O系电阻薄膜致密稳定,前者在电性能方面具有抗电压击穿、耐潮湿等优点.     

地球作为扩展源的杂光计算

对于不以地球为探测对象的空间遥感器来说，地球是一个扩展杂光光源，本给出了适用于微机的计算方法，根据辐亮度守恒原理用平面取代地球表面后，用分块成面元的方法计算许多不同入射角的点源的杂光贡献，整个扩展源的杂光贡献即为它们的总和。实例计算表明，对于低轨道的遥感器，必须十分重视地球的杂光影响。     

电沉积和硒化制备CuInSe2薄膜

以石墨为阳极、钛片为阴极,采用恒电流法制备Cu-In预制膜,然后硒化处理得到CuInSe2薄膜.分析了预制膜和CuInSe2薄膜的相组成及其影响因素.结果表明:采用不同的电沉积工艺,可以得到不同相组成的Cu-In预制膜.在保证Cu/In小于1的条件下,降低InCl3浓度和H3Cit/CuCl2浓度比,选择较高电流,可以获得具有CuIn相和Cu2In相的Cu-In预制膜.含有CuIn相和Cu2In相的Cu-In预制膜,经硒化得到的CuInSe2薄膜具有单一CuInSe2相组成,并且符合化学剂量比要求;而只含有CuIn相的预制膜硒化后除了有CuInSe2相外还出现了CuSe相.     

纳米磁性膜微波电磁参量谐振腔法测量分析

基于谐振腔微扰法测量薄膜复电磁参数的基本原理，使用微波网络分析仪和谐振腔，利用虚拟仪器技术，开发了薄膜电磁参数自动测量系统．利用测试系统对FeCo基纳米膜进行了测试，分析了散射参数、信号源频率与Q值、样品超薄特性、热环境和实验操作等因素对测量结果产生的影响，并由此提出了改进谐振腔法的实验方案．提高了测量的精度，复磁导率测试误差低于6％，复介电常数测试误差低于4％．     

多晶和非晶薄膜材料的能量过滤电子衍射分析法

本文介绍了一种能快速准确分析薄膜材料微观结构的新技术──透射电子显微镜样品后扫描能量过滤电子衍射分析法．该技术利用常规的透射电子显微镜把选区衍射花样投到一个顺序电子能量损失谱仪的入口光阑上，让微机输出脉冲电压到样品后偏转线圈使衍射花样顺序扫过光阑进入谱仪中．检测零损失电子强度随散射矢量的径向分布，从而导出能显示近邻原子间距和配位数等结构信息的约化密度函数．根据多晶金薄膜的试验结果显示．文中给出的该项技术测出的最近邻原子间距可精确到０．００２ｎｍ，配位数的测定可精确到０．５．