弗里曼源缝引出型三电极结构对离子束散角影响的研究

弗里曼源缝引出型三电极结构对离子束散角影响的研究郑思孝廖小东孙官清王培录刘仲阳姜景云（原子核科学技术研究所辐射物理及技术国家教委开放实验室）加、减速缝引出型三电极系统的实验、理论及其计算机模拟，已用于弗里曼型离子源束流的引出、成形和传输［１～４］．由...     

小圆面非平衡磁控原子源研究

在文[1—6]的基础上,研制了小圆面非平衡磁控源,取得了同轴圆柱磁控原理用于平面磁控源并达到实用的小型化。1 源的结构     

一种强聚焦透镜系统特性的研究

一种强聚焦透镜系统特性的研究郑思孝（原子核科学技术研究所）不对称三电极透镜已广泛用于不同的聚焦装置￣［１］。我们就用于５０ｋｅＶ离子注入机的短焦距强聚焦透镜系统进行了讨论，该装置不需要专用的聚焦电源，而由聚焦电极与源电极处于等电位以构成特殊的不对称三...     

用增强质子背散射研究注氦纳米晶钛膜中氦的含量

作者使用增强质子背散射方法，分析了几种Mo基体纳米钛膜中氦的保持量情况．结果表明：采用离子注入法注入的氯在纳米钛膜中能保存较长的时间，氦的释放速率受氯在钛膜及基体中的分布、钛膜中氦浓度大小的影响；Ar，He混合气体放电法工作参数的选择可影响渗氦的效率。     

冷阴极轴向引出改进型彭宁源

在文[l]基础上,采用改进高温弧放电室结构设计的途径,研制了适宜高温工作的固气两用冷阴极轴向引出改进型彭宁离子源.源结构与改进图1为高温用彭宁源剖面图.针对高温工作时关键部件形变对源性能的影响及国外该源型磁场冷却壁紧靠高温弧室,难以实现弧室料炉内高温的结构弱点,本源作的改进是:     

SC—50型金属工艺用离子注入机的离子源、加速管及靶室

本文介绍了SC—50型金属工艺用离子注入机。主要讨论引出氮离子靶上达5mA 的改进潘宁型离子源,不对称三电极加速系统,具有旋转和升降机械扫描的大型靶室。     

氮离子辅助沉积的羟基磷灰石膜的结构与电化学特性

通过用XRD，FTIR，EDAX和XPS等，对60keV的N离子束在钛合金表面辅助沉积的羟基磷灰石薄膜（HA）表征发现，膜呈非晶结构，膜中Ca/P比高达2．46，远高于HA原材料Ca/P比的数值1．67，沉积中出现C和O的污染，膜中引入了碳酸根基团CO^2-3，并产生了羟基（OH）的丢失，与已有的实验结果不同，实验中发现，这种N离子束辅助沉积的薄膜在Hanks溶液中的抗溶解特性，不是退火试样最好而是未退火状态的膜比前者理优，但它们二者的抗溶解特性又都比钛合金本身强，作者对所观察到的这种新现象作了讨论。     

利用离子束辅助沉积技术在GCr15钢基上生成TiCxNy膜的研究

用离子束辅助沉积技术在ＧＣｒ１５钢基体上形成了ＴｉＣｘＮｙ膜．ＴＥＭ观察揭示，膜呈多晶结构，具有（１１１），（２００）和（２２０）择优取向．ＡＥＳ和ＸＰＳ分析进一步证实，ＴｉＣｘＮｙ膜呈含氧配置．膜的硬度和摩擦特性与Ｎ含量有关，Ｎ的过高含量对提高表面硬度不明显，但摩擦特性明显下降．在作者的实验条件下，以３×１０１７／ｃｍ２的注量为宜．干摩擦表明，膜的抗氧化性能优良．不仅存在能有效地抑制基体在摩擦过程中形成的氧化皮，又由于硬度高，润滑性良好，还能显著地改善基体的耐磨粒磨损特性．     

keV低能强流小截面电子束的研究

介绍了一种用于原子分子碰撞低能强流小截面电子束的产生方法,研究了电子束流强与ＬａＢ６阴极位置、栅电压、能量及透镜结构间的相互影响,采用辅助阳极和单透镜的组合,可扩拓低能段电子强流。     

改进250kV高压电源稳定性与可靠性的研究

２５０ｋＶ高压电源是离子注入装置的关键设备之一［１］,良好的稳定性与可靠性是离子注入装置正常工作及系统安全的保障．可是,由于该高压电源系统是２０世纪７０年代的产品,部分组件已严重锈蚀、老化,在使用过程中逐渐暴露出诸多毛病,不仅输出的直流高压很不稳定,甚至发生突变,致使设备和人身安全受到严重威胁,造成了注入机不能正常工作,若更换同样设备将花费数十万元经费．因此,我们从提高其稳定性和可靠性两方面着手,对该电源系统作了技术改进,达到了满意的效果,使注入机恢复了正常运行．１　　原高压电源存在的问题和改进…