双间隙加速管设计中几个问题的研究

对加速管的放电或击穿与绝缘环，电极材料，极间距离和真空度等因素的关系进行了分析，为加速管的设计提供了依据。以此研制的加速算运行正常。     

电子回旋共振等离子分解CH_4-NH_3制备C∶N团簇纤维的研究

电子回旋共振等离子分解ＣＨ４－ＮＨ３制备Ｃ∶Ｎ团簇纤维的研究张大忠孙官清刘仲阳陈剑王宣张海龙（原子核科学技术研究所）无论是晶态的Ｃ∶Ｎ膜或是非晶态的Ｃ∶Ｎ膜均有较高的硬度，耐腐耐磨，耐酸碱，无磁响应．其能隙宽度从零至几个ｅＶ，可作变能带材料，其用途可...     

离子束处理微型滚珠的表面和界面分析

用ＥＤＡＸ和ＡＥＳ分析了离子束动态混合处理的Φ１．５７－１．６０ｍｍ微型滚珠表面的均匀性和界面混合情况，在１００ｋｅＶ的Ｎ离限束动态混全条件下，界面混合区达１４０ｎｍ以上；同一球面不均匀度小于１％，球间不均匀度小于１５％。结果表明，为提高这类轴承的使用寿命，在适当工艺条件下采用离子束表面强化处理，完全可以达到实际应用的要求。     

离子诱变选育纤溶酶高产菌及其发酵条件的研究

在诱变育种研究中 ,寻找突变频率高 ,突变频谱广的突变源是一项重要而实效的工作 .离子注入法作为一种新的生物突变技术是近年发展起来的 ,已经引起国内外学者的广泛关注[1,2 ] .离子注入和其他常规诱变有着明显的差异 .离子注入的同时存在能量传递 ,动量传递 ,离子沉积以及电荷积累过程 .而其他的辐射诱变仅仅是利用能量传递 ;化学诱变则从分子基团的交换考虑 .因此离子注入不仅兼有辐射诱变和化学诱变的特点和功能 ,而且可以通过调整离子种类 ,能量及电荷达到有目的进行诱变的效果 .1986年 ,中国科学院等离子体物理研究所余增亮等人发现离…     

离子束溅射沉积角对Ni／Si膜界面特性影响的研究

用Ａｒ~＋离子束溅射高纯多晶Ｎｉ靶，在Ｓｉ（１００）基面上沉积１５０ｎｍ的Ｎｉ膜。经４００℃的真空退火１小时后，分别用ＸＲＤ和ＸＰＳ检验了两种大小不同角度上沉积试样的生成相及界面态。当沉积角≥６６°时，试样退火后仅出现Ｎｉ膜择优取向晶化，无硅化物生成。而在接近０°的小角度处沉积的试样，在相同条件退火后则出现以ＮｉＳｉ为主的三种硅化物混合相。     

电子回旋共振（ECR）离子源的研制

介绍了一种电子回旋共振离子源的设计和结构，为了获得了长寿命，高等离子密度以及高效传输微波功率，作者通过实验研究发现，利用合适的微波输入三层复合 很有 ，而且采用两个囊 磁轭的螺线和线圈能够产生满足共振条件。     

氮离子辅助沉积的羟基磷灰石膜的结构与电化学特性

通过用XRD，FTIR，EDAX和XPS等，对60keV的N离子束在钛合金表面辅助沉积的羟基磷灰石薄膜（HA）表征发现，膜呈非晶结构，膜中Ca/P比高达2．46，远高于HA原材料Ca/P比的数值1．67，沉积中出现C和O的污染，膜中引入了碳酸根基团CO^2-3，并产生了羟基（OH）的丢失，与已有的实验结果不同，实验中发现，这种N离子束辅助沉积的薄膜在Hanks溶液中的抗溶解特性，不是退火试样最好而是未退火状态的膜比前者理优，但它们二者的抗溶解特性又都比钛合金本身强，作者对所观察到的这种新现象作了讨论。     

利用离子束辅助沉积技术在GCr15钢基上生成TiCxNy膜的研究

用离子束辅助沉积技术在ＧＣｒ１５钢基体上形成了ＴｉＣｘＮｙ膜．ＴＥＭ观察揭示，膜呈多晶结构，具有（１１１），（２００）和（２２０）择优取向．ＡＥＳ和ＸＰＳ分析进一步证实，ＴｉＣｘＮｙ膜呈含氧配置．膜的硬度和摩擦特性与Ｎ含量有关，Ｎ的过高含量对提高表面硬度不明显，但摩擦特性明显下降．在作者的实验条件下，以３×１０１７／ｃｍ２的注量为宜．干摩擦表明，膜的抗氧化性能优良．不仅存在能有效地抑制基体在摩擦过程中形成的氧化皮，又由于硬度高，润滑性良好，还能显著地改善基体的耐磨粒磨损特性．     

英文商务合同翻译初探

商务合同翻译对保证合同各方的权益起着重大作用。根据商务合同本身的特点,可以总结出商务合同翻译的灵魂———准确地理解和表达。     

动态催化聚合C3N4膜的研究

自Ｃｏｈｅｎ等人[1] 揭示β Ｃ3Ｎ4 的结构和性质以来 ,实验聚合沉积 β Ｃ3Ｎ4 膜的工作一直继续进行着 .早期的工作[2～ 10 ] 大多数采用气相沉积 ,工作气体一般是ＣＨ4 Ｎ2 或ＣＨ4 ＮＨ3,由于金刚石、石墨和Ｃ3Ｎ4 中Ｃ( 1ｓ)的结合能非常接近 ,在聚合反应时因相互竞争 ,其沉积产物常常是无定形碳、石墨、金刚石和Ｃ3Ｎ4 的混合物 .而在Ｃ3Ｎ4 聚合物中 ,常常包含有β Ｃ3Ｎ4 ,α Ｃ3Ｎ4 和石墨结构型Ｃ3Ｎ4 .Ｃｈｅｎ等人[11] 提出 ,采用适宜的有机分子预聚体 ,ＹｏｕＪｉ ｔａｎｉ等人[10 ] 提出采用不含Ｃ≡Ｎ的有机分子预聚体 ,…