断层轮廓的双三次非均匀B样条曲面重构

针对断层图像数据,提出了一种曲面重构的方法.依据曲率特征首先提取各层特征点,对其重采样使每行(列)获得统一的采样点数;再对采样点插值得到非均匀双三次B样条曲面;最后,在一定控制精度下对曲面依据距离特征进行节点插入,通过最小二乘逼近法算出新的控制顶点,从而得到误差在容许范围内的逼近曲面.根据断层轮廓的特点,本算法综合运用了周期B样条和非周期B样条,讨论了封闭曲面和非封闭曲面的计算方法.另外插值和逼近的结合应用使该算法更快速、实用.     

接近式光刻衍射光场的快速计算机模拟

接近式光刻中一般采用柯勒照明系统,并采用蝇眼透镜形成多点光源均匀掩模面的光场分布.利用基尔霍夫衍射理论及多点光源的衍射光场非相干叠加方法,对光刻胶表面的衍射光场进行了快速计算机模拟,并与霍普金斯理论计算结果进行了分析比较.结果表明采用基尔霍夫衍射理论及多点光源的衍射光场非相干叠加的模型不仅快速而且也可以比较准确地模拟接近式光刻的衍射光场分布.     

基于遗传算法的接近式紫外光刻中掩模补偿优化研究

针对接近式紫外光刻图形转移中的曝光形状失真问题,基于补偿思想,应用遗传算法,在引起衍射的掩模特征处,通过调整其形状,实现了光刻胶表面的衍射光场调制.根据光刻曝光轮廓特点,设计评价策略,提出一种分段分类的思想,减小了问题的求解空间,快速优化了掩模设计图形.仿真结果表明优化补偿后的掩模图形降低了衍射造成的曝光图形的形状失真程度.该研究为如何提高接近式紫外光刻精度提供了一种新的思路.     

紫外光刻中部分相干光的传播及衍射效应

基于Hopkins公式,研究了接近式紫外光刻中扩展准单色光源经柯勒照明系统传播到掩模表面上任两点的复相干度,并建立相应的基于部分相干光理论的光刻模型.应用部分相干光的传播理论,研究掩模平面到光刻胶表面任意两点互强度的传播,进而得到光刻胶表面的光强分布.以此为基础,分析了由于掩模与光刻胶之间光的衍射效应而产生的光刻微结构的图形失真.给出了理论模型的计算模拟结果,并用实验对该理论模型的计算结果进行了验证.     

嵌入式CAM的CAD平台可移植实现方案

介绍了嵌入式CAM（computer-aided manufacture)的特性和现状，简要分析了目前主流CAD（computer-aided gesign)系统的二次开发环境，详细论述了嵌入式CAM系统实现CAD平台可移植的基本原理和两种不同的实现方法，并分析了实现CAD平台可移植的几个关键问题，这对嵌入式CAM系统的开发有着实用指导意义。     

30MeV电子直线加速器盘荷波导和耦合器的化学清洗抛光工艺研究

本文经实验研究建立了“盘荷波导”和“耦合器”的化学清洗抛光工艺。确定以超声波清洗去油、酸洗、无毒化学抛光为主要工序。研究了该工艺对盘荷波导表面光洁度、机械尺寸精度及对2/3π膜谐振频率的影响,各项参数的变化均在加速器设计要求的误差范围之内。该工艺已在中国科学技术大学30 MeV电子同步辐射加速器研制中应用。也可作为其它高精度无氧铜制件化学清洗抛光的参考。