云纹干涉法运用于高温材料断裂韧度测试的研究

将云纹干涉法与常规方法进行比较。运用云纹干涉法非接触性特点分别测试了材料常温与高温下断裂韧度值,说明云纹干涉法运用于材料断裂韧度测试中是可行的。     

用云纹干涉法实测复合材料应力强度因子的实验研究

采用实时观测云纹干涉法 ,测试并研究了正交异性Ⅰ型裂纹的应力强度因子。用三维云纹干涉仪和数字图像采集技术获得了清晰的反映试件裂尖附近全场位移的云纹图 ,进而推算出应力强度因子。并对贴片云纹干涉法和实时观测云纹干涉法进行比较。     

双光束对称入射云纹干涉法测量物体的形变

在阐述双光束对称云纹干涉法的基本原理基础上,分析了具体实现云纹干涉法的过程,理论上得到了云纹干涉法中入射光严格对称入射时和实验中非对称入射时两入射角所需要满足的入射条件。通过对云纹干涉法的理论分析,给出了测量应变分布的方法。     

金属材料高温蠕变变形的云纹干涉法实验研究

为了研究金属材料高温蠕变及其不均匀应变场的变形规律，使用高温双镀层全息光栅（线密度为 １２００ｍｍ－１）并应用云纹干涉法对 ２０号钢带孔拉伸试件在 ６００℃下的拉伸蠕变进行了测量研究，提出了云纹干涉法测量残余蠕变变形的基本原理，得到了该试件在 ４０ ｈ范围内的残余蠕变云纹场和试件应变集中系数随蠕变时间的变化规律，且应用蠕变理论对所得结果进行了分析。实验结果表明，使用双镀层高温栅进行高温蠕变的云纹干涉法测量是可行的。     

激光全息云纹干涉法测定高温合金材料断裂特性的试验研究

采用激光云纹干涉装置对航空高温合金材料在高温下的断裂韧性进行了测试。利用电化学方法直接在被测试件表面刻蚀零厚度光栅，拓展了高温合金云纹干涉法的研究空间，应用4f成像系统构成傅立叶光学滤波光路，进一步改善了莫尔(Moire)条纹的图像质量，提高了云纹干涉法的测量精度。     

云纹干涉热复制技术研究双材料界面热应力

用云纹干涉技术和热复制变形栅技术研究了双材料搭接试件界面区域的热应力和热变形。在云纹干涉实验中,提出了热复制硅橡胶变形栅的新技术并利用光載波技术将均匀热膨胀变形与热应力相关热变形分离,在实验的基础上给出了双材料界面及周围区域的热应力分布和角点处应力集中状态并对此进行了讨论。     

三维云纹干涉法在PMMA材料特性分析中的应用

对云纹干涉法的原理、方法及实验系统进行了简要介绍,并利用三维云纹干涉仪实时测量了有机玻璃(PMMA)在三点弯曲时的三维位移场。对变形三维云纹图进行了分析,得出了三维应变分布图。     

云纹干涉法测试技术在力学实验课中的应用

介绍了已经趋于成熟的云纹干涉法光测技术,并对其在机械工程专业力学实验课中的应用进行了探讨。初步设计了采用云纹干涉法进行教学实验的方法与步骤,为实施创新实验教学与培养学生综合实验能力提出了一条新的途径。新的测试方法的引入为激发学生的学习兴趣和热情提供了良好的平台,同时也是培养学生的创新思维以及提高学生实践动手能力和计算机应用能力的需要。     

多晶镍钛形状记忆合金相变伪弹性特性的研究

利用四光束云纹干涉法对多晶镍钛形状记忆合金拉伸过程中的马氏体与奥氏体相互相转变以及相界面传播的现象进行了研究.从云纹图可看到,形状记忆合金发生相变时,奥氏体与马氏体的分布以及两相的界面附近的位移场分布.利用材料试验机(MTS Sintech 10/D)获得多晶镍钛形状记忆合金的应力-应变特性;通过云纹图能够发现多晶镍钛形状记忆合金拉伸过程中马氏体的发生、生长和传播规律.结果表明,云纹干涉法可以用来研究形状记忆合金的相变,且结果直观、可靠。     

双材料界面裂纹断裂参数的实验测定

首先推导了双材料界面裂纹尖端的位移场和应力强度因子之间的关系式。利用云纹干涉法实测了应力强度因子,并将实验结果与理论结果进行了比较。     

光栅信号振幅合成的软件细分及误差分析

用正交莫尔条纹信号幅度合成可得近似三角波，经查表软件细分可得到近似不变的细分灵敏度，在同样精度的条件下，可以较大幅度提高莫尔条纹的细分数，本文还对误差进行了细致分析，得出结论，直流电平漂移和信号正交性误差是产生测量误差的主要来源。     

全息云纹法的傅里叶解释

自从D.Post提出全息云纹干涉技术后,现已发展到各个方面,如断裂力学、复合材料力学、生物力学的性质测试上等均有应用。然而,对全息光栅、全息云纹技术在理论上发展存在欠缺。本文用傅里叶光学理论推导全息光栅的栅频、全息云纹的位移公式,进一步完善了全息云纹技术的理论,为全息云纹技术广泛应用提供了理论依据。     

熔凝玻璃膜钠离子迁移率测量及研究

本文提出利用IMA测量介质膜中可动离子漂移迁移率的新方法,并用该方法测量了熔凝玻璃膜中Na~+漂移迁移率,研究了Na~+迁移率与温度的关系。     

LB膜和SA膜中的分子取向研究

LB(Langmuir-Blodgett）膜技术是一项有近70多年历史的技术，由于技术条件的限制，发展一直较慢，近10年来，随着纳米技术的飞速发展，日益显示出LB膜技术在纳米材料应用方面的优越性。LB膜分子间具有规整的排列和各向异性，可以实现能量转移及电子转移。通过LB膜技术可以控制分子尺度；设计成膜技术可以组装分子可以组装分子取向，进行有序分子组装，得到大面积单分子层。SA（Self-Assembly）膜技术提供了在分子水平上构造理想界面的方便手段，由于得到的膜具有传统LB膜的均一性和稳定性，近年来也成为研究的热点。     

高密度等离子体增强非平衡磁控溅射沉积Cu膜研究

采用直流非平衡磁控溅射射频等离子体增强电高法在Si衬底上沉积了Cu膜，用扫描电镜（SEM）研究了沉积Cu膜的表面形貌并测得薄膜的厚度，用X射线衍射（XRD）研究了沉积Cu膜的结构，用电子能谱等对Cu膜进行了成分分析．实验结果表明，在该条件下沉积的Cu膜致密，晶粒尺度在100～1000nm，膜基界面比较紧密，没有明显的空洞，并且Cu膜呈（111）织构．通过实验，找到沉积Cu膜的最佳实验参数，并希望这一工艺能应用在集成电路中．     

等离子辅助镀光学薄膜的研究

研究用等离子辅助镀技术,制备3种氧化物光学薄膜,透射光谱实验表明,该薄膜透明度好,吸收损耗小,具有优良的光学特性,经表面形貌探讨,说明等离子辅助镀技术可得到较为致密平整的薄膜,而新型等离子体源,能有效地改善光学薄膜的特性,具有实际应用的价值。     

润滑分子特性对纳米级流体膜失效的影响

为研究 nm级流体膜的失效情况 ,采用 NGY- 2型nm级膜厚测量仪 ,根据光干涉相对光强原理 ,对纯滚动点接触的中心区进行润滑膜厚度测量。观察不同载荷和速度下纯烷烃及加入少量酸时的流体膜厚度的变化情况 ,考察流体效应膜的失效情况。实验表明 :使用烷烃作润滑剂时 ,当压力增至某一定值时有一个临界点 ,当速度低于此点时 ,膜厚剧减 ,此时润滑膜不再具有流体特征 ,此点是润滑膜失效点 ,它与压力、速度、润滑剂的粘度以及分子极性有关。加入少量极性添加剂后所形成的润滑膜可承受较大的载荷 ,并能确保nm级流体膜不失效 ;在较高压力下 ,要在接触区形成流体膜就必须施加更高的速度或使用较大粘度的润滑剂 ;极性添加物的加入能提高流体膜的承载能力     

紫外光固化阴极电泳涂料涂装过程的探讨

紫外光固化技术具有快速、节能、高效的特点，作者将这一技术应用于阴极电泳涂装过程，合成了紫外光固化阴极电泳涂料，并系统地探讨了电泳工艺参数对涂膜性能的影响，实验结果表明，利用紫外光固化技术后，阴极电泳涂料可以在室温下进行固化，固化时间大大缩短，并能得到平整、光滑、外观良好的膜层。     

高温氧化薄膜应力的测定

介绍一种高温氧化薄膜应力的测定技术，它能在一定高温氧化条件下原位测定氧化膜中的生长应力，在某一温度变化范围内原位氧化膜中的热应力，这种技术档以普通衍射仪上进行。     

40Cr基体与TiN膜层界面微观结构研究

在40Cr基体上镀TiN,存在膜基结合不牢的问题,作者前期工作已证实在镀TiN膜前先进行离子渗氮予处理,可以提高膜基结合力,本文从微观的方面对这一机理进行研究,膜层与膜基界面的透射电镜观察结果表明,40Cr基体经离子渗氮后再镀TiN,膜层晶粒细小、均匀、膜基结合紧密。