电镀锌钢板CrO3—H3PO4—SiO2体系钝化膜

研究了电镀锌钢板ＣｒＯ３－Ｈ３ＰＯ４－ＳｉＯ２体系钝化膜的成分与结构，并对钝化膜的耐蚀性及其原因进行了探讨，结果表明，该钝化膜是１种由ＣｒＯ３，Ｃｒ（ＯＨ）３，ＣｒＯＯＨ，ＺｎＣｒＯ４，ＺｎＳｉＯ３，Ｚｎ３（ＰＯ４）２，ＣｒＰＯ４和ＳｉＯ２等化合物组成的，具有凝胶网络状结构的厚型复合转化膜，这种膜具有良好的屏蔽效应和缓蚀作用，能明显了改善镀锌钢板抗白锈的能力，它的耐蚀性是ＣｒＯ３－ＳｉＯ２体系钝化     

应用原子力显微镜研究混合表面活性剂不溶膜的结构

利用ＬＢ技术和原子力显微镜研究表面活性剂混合不溶膜的结构。结果表明Ｃ１８Ｈ３７ＳＯ３Ｎａ－Ｃ８Ｆ１７ＣＯＯＨ混合凝聚膜发生机分离,Ｃ１８Ｈ３７ＳＯ３Ｎａ形成六方微畴分布在连续的Ｃ８Ｆ１７ＣＯＯＨ相中;Ｃ１２Ｈ２３ＳＯ４Ｎａ－Ｃ１８Ｈ３７Ｎ（ＣＨ３）３Ｂｒ形成了相当 均匀完整的混合膜;Ｃ１８Ｈ３７Ｎ（ＣＨ３）３Ｂｒ－Ｃ８Ｆ１７ＣＯＯＨ所成膜呈微不均匀状态。结果说明混合不溶膜表面状况由极性头相互作用与     

氨基酸衍生物的BZ类振荡反应（Ⅰ）振荡现象及其影响因素的研究

本文报道氨基酸的衍生物与丙酮作混合底物的ＢＺ类振荡反应［ＫＢｒＯ３－（ＣＨ３Ｏ）３ＣＣＨ（ＮＨ２）ＣＯＯＨ－ＣＨ３ＣＯＣＨ３－ＭｎＳＯ４－Ｈ２ＳＯ４］体系的振荡反应．给出了典型振荡波形及振荡浓度范围，分析了对振荡反应影响的因素、温度效应．解释了两种有机底物在振荡反应中的作用，并初步探讨了反应的机理。     

钴原子簇化学研究 Ⅷ.含桥基2-硫代乙内酰脲分子片配位及杂环卡宾的三核钴羰基硫簇合物的合成和结构

用乙酸、硫氰化铵与氨基酸反应，得到４个２－硫代乙内酰脲配体Ｓ＝ＣＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ（Ｒ）Ｎ↓Ｈ，它们分别与Ｃｏ２（ＣＯ）８反应，合成出两类４个三核钴羰基硫簇合衍生物：Ｃｏ３（ＣＯ）７（μ３－Ｓ）〔μ－η２－ＳＣ＝ＮＣ（Ｏ）ＣＨ（Ｒ）Ｎ↓Ｈ（Ｉａ，Ｉｂ）和Ｃｏ３（ＣＯ）６（μ３－Ｓ）（μ－η２－ＳＣ＝ＮＣ（Ｏ）ＣＨ（Ｒ）Ｎ↓Ｈ）（：ＣＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ（Ｒ）Ｎ↓Ｈ）（Ⅱｃ，Ⅱｄ）．对４个族合物进行了元素分析、ＩＲ谱、１ＨＮＭＲ和ＭＳ表征，并推测出它们的分子结构．     

二茚基钐断裂I—I,O—O和S—S键反应的研究

通过２价Ｓｍ（Ｃ９Ｈ７）２与Ｉ２,（Ｃ６Ｈ５ＣＯ２）２,［（Ｃ２Ｈ５）２ＮＣＳ２］２作用,研究了在四氢呋喃溶液中Ｓｍ（Ｃ９Ｈ７）２断裂Ｉ－Ｉ,Ｏ－Ｏ,Ｓ－Ｓ键的反应,得到了３个新的、对空气和湿气敏感的３价稀土金属有机配合物。产物经元素分析、红外光谱、质谱等鉴定,推测其组成结构分别为（Ｃ９Ｈ７）２ＳｍＩ（ＴＨＦ）（Ａ）、［（Ｃ９Ｈ７）２Ｓｍ（（Ｃ６Ｈ５ＣＯ２）］２（Ｂ）,｛（Ｃ９Ｈ７）２Ｓｍ［（Ｃ２     

1，1′─［四甲基二硅撑］双（环戊二烯基三羰基钨配合物）的合成及反应

１，２－二环戊二烯基四甲基二硅烷与丁基锂作用生成［四甲基二硅撑］双（环戊二烯基负离子盐），后者随即与六羰基钨反应形成１，１－［四甲基二硅撑］双［环戊二烯基三羰基钨负离子盐］，（Ｍｅ２ＳｉＳｉＭｅ２）·［Ｃｐ′（ＣＯ）３Ｗ－］２·２Ｌｉ＋（Ｉ）．（Ｉ）分别与六种卤化物反应，生成在钨原子上引入取代基的产物：（Ｍｅ２ＳｉＳｉＭｅ２）．［Ｃｐ′Ｗ（ＣＯ）３Ｒ］２，（Ｒ：Ｍｅ，Ｃ２Ｈ５，２；ＰｈＣＨ２，３；ＣＨ２ＣＯＯＣ２Ｈ５，４；ＣＨ３ＣＯ，５；Ｐ３ｈＳｎ，６）．（Ｉ）用醋酸处理后，随即分别与ＣＣｌ４，ＮＢＳ及Ｉ２作用，生成相应的钨卤化物，（Ｍｅ２ＳｉＳｉＭｅ２）［Ｃｐ′Ｗ（ＣＯ）３Ｘ］２，（Ｘ：Ｃ１，８；Ｂｒ，９；Ｉ，１０），（Ｉ）与Ｆｅ３＋／Ｈ３Ｏ＋作用发生氧化偶联，生成双核Ｗ－Ｗ键产物（Ｍｅ２ＳｉＳｉＭｅ２）［Ｃｐ′Ｗ（ＣＯ）３］２，１１．（Ｃｐ′＝Ｃ５Ｈ４）     

系列芳基烷基不对称亚砜硝酸铀酰配合物的合成及研究

本文合成了一系列烷基芳基不对称亚砜Ｒ１－Ｃ６Ｈ４－ＳＯ－Ｒ２（Ｒ１＝ＣＨ３，Ｃ（ＣＨ３）３；Ｒ２＝Ｃ２Ｈ５，Ｃ４Ｈ９，Ｃ６Ｈ１３，ＣＨ２ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）Ｃ４Ｈ９），并且以之为配体（Ｌ）和硝酸铀酰反应，制备了一系列硝酸铀酰配合物ＵＯ２Ｌ２（ＮＯ３）２，通过元素分析、摩尔电导、红外光谱，研究了配合物的组成、结构和性质，并测定了配合物［ＵＯ２（ＴＢＳＯ）２（ＮＯ３）２］的晶体结构。     

簇合物Co_6(μ_6-P)(μ-SCH_2CH_2CH_2S)(μ-PSCH_2CH_2CH_2S)(CO)_(12)和Co_3(μ-PSCH_2CH_2CH_2S)_3(CO)6的合成与表征

用Ｃｏ２（ＣＯ）８与含硫含磷杂环配体ＣｌＰＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ↓反应，合成得到含有半填隙μ６－Ｐ原子的新的六核簇Ｃｏ６（μ６－Ｐ）（μ－ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ）（μ－ＰＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ↓）（ＣＯ）１２１，同时，得到三核簇Ｃｏ３（μ－ＰＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ↓）３（ＣＯ）６２，通过元素分析和波谱表征确定了二个簇合物的分子结构．     

30℃时K2SO4和（NH4）2SO4在CH3OH—H2O溶液中的共饱和度研究

本研究测定了３０℃时Ｋ２ＳＯ４－（ＮＨ４）２ＳＯ４－ＣＨ３ＯＨ－Ｈ２Ｏ元体系的共饱和度，分析了ＣＨ３ＯＨ含量对Ｋ２ＳＯ４及（ＮＨ４）２ＳＯ４共饱和度的影响，得出了以ＣＨ３ＯＨ为盐析剂，从Ｋ２ＳＯ４和（ＮＨ４）２ＳＯ４的水溶液中晶析Ｋ２ＳＯ４的规律，为Ｋ２ＳＯ４和（ＮＨ４）２ＳＯ４的分离提供理论依据。     

簇合物Co6（μ6—P）（μ—SCH2CH2CH2S）（μ—PSCH2CH2CH2S）…

用Ｃｏ２（ＣＯ）８与含硫含磷杂环配体ＣｌＰＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ反应，合成得到含有半填隙μ６－Ｐ原子的新的六核簇Ｃｏ６（μ６－Ｐ）（μ－ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ）（μ－ＰＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ）（ＣＯ）１２１，同时，得到三核簇Ｃｏ３（μ－ＰＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ）３（ＣＯ）６２，通过元素分析和波谱表征确定了二个簇合物的分子结构。     

微波等离子体化学气相沉积β-C_3N_4超硬膜的研究

采用微波等离子体化学气相沉积法（ＭＰＣＶＤ）,用高纯氮气（９９．９９９％ ）和甲烷（９９．９％ ）作反应气体,在多晶铂（Ｐｔ）基片上沉积Ｃ３Ｎ４ 薄膜。利用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和扫描隧道显微镜（ＳＴＭ）观察薄膜形貌表明,薄膜由针状晶体组成。Ｘ射线能谱（ＥＤＸ）分析了这种晶态Ｃ－Ｎ膜的化学成分。对不同样品不同区域的分析结果表明,Ｎ／Ｃ比接近于４／３。Ｘ射线衍射结构分析说明该膜主要由β－Ｃ３Ｎ４ 和α－Ｃ３Ｎ４ 组成。利用Ｎａｎｏ ｉｎｄｅｎｔｅｒ Ⅱ测得Ｃ３Ｎ４ 膜的体弹性模量Ｂ达到３４９ ＧＰａ,接近ｃ－ＢＮ（３６７ ＧＰａ）的体弹性模量,证明Ｃ３Ｎ４ 化合物是超硬材料家族中的一员。     

用溶胶——凝胶法制备SrTiO3纳米薄膜材料

为制备具有电容和压敏特性的ＳｒＴｉＯ３双功能器件,以Ｓｒ（ＮＯ３）２,Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ９）４为原料,用溶胶－凝胶方法制备ＳｒＴｉＯ３材料,研究了水和醋酸等对ＳｒＴｉＯ３材料的影响机理,并对其进行Ｘ－射线衍射、红外光谱和ＴＥＭ分析,证明该薄膜为纳米晶体结构,晶粒尺寸为１２－２５ｎｍ。     

掺氮类金刚石薄膜(α-C:H:N)显微结构的研究

用射频等离子体化学气相沉积法（ＲＦ－ＣＶＤ）和ＣＨ４、Ｎ２与Ａｒ组成的混合气体制备掺氮类金刚石薄膜（α－Ｃ：Ｈ：Ｎ）。用原子力显微镜（ＡＦＭ）、俄歇电子能谱（ＡＥＳ）、红外光谱（ＩＲ）以及显微拉曼谱（Ｍｉｃｒｏ－Ｒａｍａｎ）对α－Ｃ：Ｈ：Ｎ薄膜的表面形貌、组分和微观结构进行表征。实验结果表明,薄膜中有纳米量级的颗粒存在,而且随反应气体中Ｎ２与ＣＨ４比值的增大,薄膜中的氮元素含量也随之增大,并主要以     

大面积金刚石膜生长环境气氛的计算机模拟

建立了直流电弧等离子体喷射ＣＶＤ大面积金刚石沉积数学模型．对衬底上方等离子 体中的化学环境进行了模拟计算,并与在相同条件下对等离子体的光谱结果进行对比,发现计 算结果与实验结果基本上吻合．在模拟条件下ＣＨ基团可能是促使金刚石生长的主要活化基 因．模拟结果显示ＣＨ基因沿径向的均匀分布对大面积金刚石膜生长有较大的意义．     

磁场对PET表面碳氟等离子体改性的影响(Ⅰ)

利用变角XPS方法研究不同磁场条件下碳氟等离子体对PET表面的改性,并探讨了磁场对碳氟等离子体聚合的影响．实验结果表明,随磁场强度的增加,碳氟混合气体等离子体发生从聚合区域向刻蚀区域过渡的转折点向CF4含量低的方向移动;碳氟混合气体等离子体的不同作用区域的特征得到增强．     

碱性介质中仲丁醇在铂电极上的吸附和电氧化

运用电化学循环伏安、原位FTIR反射光谱和电化学石英晶体微天平等方法研究了碱性介质中仲丁醇在Pt电极表面吸附和电氧化行为.结果表明:碱性介质中仲丁醇在Pt电极上电催活性比酸性介质的低,但其自毒化现象较不明显.目前实验条件下,原位FTIR反射光谱检测到,碱性介质中仲丁醇电氧化的最终产物是CH3CH2COCH3,反应中间体主要为CH3CH=CHCH3和CH2=CHCH2CH3.从电极表面质量定量变化的角度提供了仲丁醇反应机理的新数据.     

微波CVD法合成金刚石薄膜的生长规律

用微波等离子化学气相沉积方法（ＣＶＤ片）用丙酮－氢气混合气体作为原料,在单晶硅的（１１１）面和人造单晶金刚石的（１００）面上,生长出了优质金刚石薄膜,并对薄膜的生长规律进行了研究。     

多晶3C-SiC薄层的淀积生长及结构性能分析

采用ＨＦＣＶＤ生长法,以较低生长温度,在Ｓｉ（１１１）衬底上淀积３Ｃ－ＳｉＣ（１１１）薄层。用ＸＲＤ、ＶＡＳＥ、ＸＰＳ等分析手段研究了薄层的结构、光学常数、组分及化学键等性能。ＸＲＤ显示薄层具有明显的择优取向特征。ＶＡＳＥ测量出薄层的折射率为２．６８６,光学常数随深度的变化曲线反映出薄层的多层结构。ＸＰＳ深度剖面曲线表明薄层中Ｓｉ／Ｃ原子比符合ＳｉＣ的理想化学计量比,其能谱证明Ｃ１ｓ与Ｓｉ２ｐ成键形成具有闪锌矿结构的３Ｃ－ＳｉＣ。     

HfO2和Al2O3混合原子层沉积反应机理的密度泛函理论研究

密度泛函理论研究了用HfCl4和Al(CH3)3作为前体,HfO2和Al2O3在硅表面的原子层沉积的机理,其包括2个沉积半反应:(1)HfCl4和Al—OH*的表面反应;(2)Al(CH3)3和Hf—OH*的表面反应。计算结果表明,2个半反应过程机理相似,内禀反应坐标研究也表明2个半反应经历了相似的过渡态和副产物的消除路径。另外,升高反应温度,反应(1)中间体的解吸附作用增强,而活化能降低,反应(2)活化能基本不变。     

Molecule modification andmass deposition induced bythe implantation of lowenergy Fe+ ion beamsinto amino acids

Fe+ ion beams with the energy of 110 keV were implanted into films of L(+)-cysteine (HSCH2CH(NH2)COOH). One of the single crystals grown in hydrochloric acid solution with the implanted samples through slow evaporation was structurally characterized by the X-ray crystallography. The crystal is monoclinic, space group C2, with a = 1.8534(4) nm, b = 0.5234(1) nm, c = 0.7212(1) nm, β= 103.72°, V = 0.67965(3) nm3, Z = 4, F(000) = 144.0, Dclac = 1.763 g@cm-3, μ(MoKα) = 1.06 mm-1, T = 293(2) K. R = 0.0379, wR = 0.0835 for 660 observed reflections (I > 2σ(I)). The structural formula of the crystal compound is (CH2CH(NH2)NO2)ClFe (Mr = 180.38 u). Products of heavy ion beam irradiation were purified and it was directly confirmed that the implanted Fe+ ions had been deposited in the novel molecules. The same doses of Fe+ ion beams of the same energy were implanted into films of L(+)-cysteine hydrochloride monohydrate. FTIR spectroscopy of the implanted samples proved that some of the original molecules were seriously damaged and significant modifications were induced.