主入射角椭偏法测硅片膜厚和折射率

本文包括四部分内容:(一)描述了主入射角椭偏仪的实验理论,(二)对主入射角椭偏法的原路返回型椭偏仪进行了描述,这种椭偏仪无需补偿器(λ/4波长片),便于测椭偏谱,(三)计算了硅片上各种膜的(ρp,Ψ)对(n~1,d)的理论曲线,(四)进行了φp—tgφ法与⊿—tgΨ法测薄膜的实验比较.     

定量描绘偏振光轨迹的一种实验方法

本文利用WGZ型光强分布仪中的光电探头及数字检流计配合WJZ型多功能椭偏仪实现了平面偏振光、椭圆偏振光和圆偏振光的轨迹的定量描绘，使偏振光概念更为形象直观。     

用VF 6.0建立的椭偏仪数据查询处理系统

主要针对物理实验教学中椭偏仪实验数据处理中存在的问题，简单介绍了椭偏仪数据处理查询系统软件的设计思想和应用功能，该软件用可视化语言VisualFoxpro 6.0进行编程，成功地解决了椭偏仪数据处理中的一些困难，也能很好地满足科学研究和实验教学的要求，对面向小型数据库的数据处理系统的开发也有一定的参考价值。     

应用激光椭圆仪测定Ga_(1-x)Al_xAs外延层的组份及其表面天然氧化膜的厚度

我们应用DJS-130电子计算机及其控制的绘图仪,在光波长λ_0=6328、入射角φ_0=70°的参数下,计算并绘制了适用于不同x值的Ga_(1-x)Al_xAs外延层及其表面天然氧化膜折射率的椭偏列线图。通过对图的分析,得到了椭偏参量(ψ、⊿)对体系光学参量的响应情况。在此基础上,确认了应用激光椭圆仪测定Ga_(1-x)Al_xAs外延层组份x值的方法简便。x值的测定范围为x≤0.55,不确定性⊿x≤±0.02,     

微机求解透明光学薄膜元件N,d的方法

本文提出利用单层介质材料的光谱透射率曲线,在微机上用最优化方法直接求解n(λ)和d的方法,它比椭偏法具有更好的精度(n分辨到0.001,d分辨到1A),速度更快,n(λ)值可作为膜系计算和分析的依据。     

锗的双层纳米结构及其特性的检测分析方法

在高精度椭偏仪(HPE)系统中,采用激光照射硅锗合金衬底助氧化的新方法,在SiO2层中生成锗的双纳米面结构;并在样品生长过程中,用高精度椭偏仪(HPE)同步测量样品的纳米结构。采用XES分层对锗原子成份检测的结果与HPE的结果基本一致。用RAMAN光谱仪测量样品的横断面,发现很强的PL发光谱峰。用量子受限模型和改进的量子从头计算(UHFR)方法分析了PL光谱的结构。     

椭偏仪的原理和应用

椭偏术是一种利用线偏振光经样品反射后转变为椭圆偏振光这一性质以获得样品的光学常数的光谱测量方法.椭偏仪主要用来测量薄膜材料或块体材料的光学参数和厚度的仪器.     

组合波片的椭圆率角测量方法

为精确测试组合波片的椭圆率角,提出了一种基于Mueller矩阵的椭圆率角测量方法.建立了组合波片的偏振模型,通过测量其Mueller矩阵,利用非线性拟合同时获得相位延迟、快轴方位和椭圆率角3个参数,并利用Mueller矩阵椭偏测量系统分别计算测量了λ/4和λ/2组合零级波片,结果表明基于此方法的拟合误差在0.004以内,椭圆率角和快轴方位角的测量误差为0.11°,相位延迟的测量误差为0.22°.通过本方法还发现组合零级波片的椭圆率角和快轴方位随波长震荡,λ/4和λ/2组合零级波片的震荡幅度分别为1°和0.4°.本方法适用于任意组合波片的椭圆率角测量,应用范围广.      

循环图的Estrada指数

设G是一个具有个n顶点和m条边的简单连通图,A(G)是它的邻接矩阵,其特征值为λ1≥λ2≥…≥λn,图G的Estrada指数定义为EE(G)=∑ni=1eλi.利用算术几何平均不等式,得到循环图的Estrada指数的一个较为精确的上界和下界.     

椭圆偏振光研究O^＋2注入Si的退火特性

用椭圆偏振仪测量了O^ 2注入Si后的椭偏参数Φ和△。给出了离子注入辐射损伤与注入剂量和注入能量的关系，同时，对离子注入片在N2气氛中进行等时热退火，测量了Φ和△，给出了O^ 2注入Si的退火特性，结果表明：O^ 2注入Si的退火特性曲线，对不同的注入剂量和注入能量分别为“V”形和“W”形，对此结果，我们进行了初步地分析和讨论。     

用双入射角的反射型椭偏术自动测定单层膜厚度

本文提出了应用双入射角的反射型椭偏术,可克服椭偏仪一般只能测定膜层厚度小于1周期值的缺点。该技术已成功地应用于微机控制自动消光法椭偏仪上,能自动测定厚膜的膜厚和折射率。经大规模集成电路生产中使用,效果良好,且能提高测量精度和简化操作。     

关于PCSA式椭偏仪测量区域的研究

用琼斯矩阵法讨论了PCSA式椭偏仪的测量区域问题。对四个不同测量区域,分别得到了由起偏器与检偏器的消光位置,求出椭偏角φ与⊿的公式。     

正五边形同轴开槽线分析

应用保角变换和雅可比椭圆变换的方法，将正五边形同铀开槽线变换为对称平板波导，得到了其特性阻抗和分布电容的初等函数表达式．特性阻抗Z0＝188.433k'(λ)/√δ，k（λ），分布电容C＝2εK(λ)／K'(λ)．其中，K(λ)和K'(λ)分别为以λ和λ'为模的第一类椭圆积分；ε为传输媒质的介电常数．     

自动椭圆偏振测厚仪中的软件设计

本文简要介绍了自动椭偏仪的系统结构和硬件电路设计,着重叙述仪器的软件设计。     

关于AutoCAD椭圆相切浅析

椭圈作为一种重要图元广泛应用于光学，机械，天文等行业。为达到工程设计的要求，提高工作效率，本文通过尺规作图，数学证明以及AutoCAD中命令的应用结合个人实践工作经验做绘制椭硼上一点的切线，椭圈外一点的切线，以及椭圈同其他圉元相切目的分析。     

椭圆偏振光研究O_2~+注入Si的退火特性

用椭圆偏振仪测量了O+2 注入Si后的椭偏参数Φ和Δ ,给出了离子注入辐射损伤与注入剂量和注入能量的关系 .同时 ,对离子注入片在N2 气氛中进行等时热退火 ,测量了Φ和Δ ,给出了O+2 注入Si的退火特性 .结果表明 :O+2 注入Si的退火特性曲线 ,对不同的注入剂量和注入能量分别为“V”形和“W”形 .对此结果 ,我们进行了初步地分析和讨论     

利用单波长椭偏仪对各向异性薄膜光学常数和欧拉角的研究

基于椭偏测量原理和4×4矩阵法原理,提出了利用单波长椭偏仪在光轴平行于薄膜表面方向上测量各向异性薄膜的薄膜参数(包括双折射率、厚度及欧拉角)的方法.通过转动待测样品90°的方法,得到2组椭偏参数,利用反演算法对2组椭偏参数进行反演,得到各向异性薄膜的4个薄膜参数;采用数值模拟分析了入射角、薄膜厚度、欧拉角及其定位误差对测量结果的影响;实验测量了光轴平行于样品表面的各向异性聚酰亚胺薄膜样品在转动前后的椭偏参数,并进行反演.结果表明:该方法提出的算法反演稳定性好、精度高;该方法测得各向异性薄膜的寻常光折射率、非寻常光折射率、厚度以及欧拉角的精度分别达到0.000 1、0.000 1、0.1 nm及0.03°;寻常光折射率、非寻常光折射率、厚度的最大测量误差分别为0.001 2,0.004 4以及4.57 nm;该方法具有较好的测量稳定性、自洽性及可靠性.文中提出的方法具有测量过程简单、对实验仪器要求低的优点,拓展了单波长椭偏仪的测量范围,提出了各向异性薄膜参数的测量方法,具有实际应用意义.     

基于广义Randi?指数的限制边连通性的研究

图G的零阶广义Randi?指数表示为■，其中α是实数，d(v)是点v的度.本文基于零阶广义Randi?指数分别给出了围长g≥5、 δ≥2的图是λ₂最优及g≥6、 δ≥2的图是λ₃最优的充分条件.     

带有临界Sobolev-Hardy指数的非齐次椭圆方程解的存在性

运用偏微分方程的变分方法和Sobolev-Hardy不等式，探讨了一类具有奇异系数和临界Sobolev-Hardy指数的非齐次二阶椭圆方程，证明了在一定条件下方程至少存在一个解，该解是方程能量泛函的一个局部极小。     

解Stiff常微分方程的精确指数拟合法

提出解Ｓｔｉｆｆ方程的精确指数拟合法，一个数值方法称为精确指数拟合法，如果将它用于试验方程ｙ‘＝λｙ，Ｒｅ（λ）〈０所得到的数值解对一切λ都是精确的。显然，精确指数拟合法的要求比Ｌｉｎｉｇｅｒ和Ｗｉｌｌｏｕｇｈｂｙ提出的指数拟合法更强。此外，我们建立解Ｓｔｉｆｆ方程的Ｅ稳定概念：一个单步方法说成是Ｅ稳定的，如果将它们用于试验ｙ’＝λｙ，Ｒｅ（λ）Ｍ０时的数值解满足ｙｎ＋１／ｙｎ＝ｅλｈ，可见精确指