首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   429篇
  免费   29篇
  国内免费   34篇
系统科学   2篇
丛书文集   13篇
教育与普及   2篇
现状及发展   1篇
综合类   474篇
  2023年   2篇
  2022年   4篇
  2021年   7篇
  2020年   7篇
  2019年   4篇
  2018年   4篇
  2017年   9篇
  2016年   2篇
  2015年   10篇
  2014年   25篇
  2013年   12篇
  2012年   17篇
  2011年   24篇
  2010年   20篇
  2009年   23篇
  2008年   17篇
  2007年   37篇
  2006年   21篇
  2005年   23篇
  2004年   12篇
  2003年   19篇
  2002年   39篇
  2001年   27篇
  2000年   20篇
  1999年   26篇
  1998年   16篇
  1997年   14篇
  1996年   20篇
  1995年   6篇
  1994年   5篇
  1993年   4篇
  1992年   4篇
  1991年   4篇
  1990年   4篇
  1989年   2篇
  1988年   1篇
  1986年   1篇
排序方式: 共有492条查询结果,搜索用时 46 毫秒
1.
利用扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS)等手段,并结合热力学理论计算,研究了浸泡在1173 K温度下脱水不完全的CaCl2熔盐中的固态SiO2圆柱样显微特征变化及其原因,初步分析了CaCl2盐的水解反应对固态SiO2电解特性的影响.结果表明,未严格脱水操作的CaCl2盐很容易高温水解,生成的CaO在熔体中的活度只要不低于0.001,即可与SiO2逐级形成CaO·SiO2(CS)、3CaO·2SiO2(C3 S2)和2CaO·SiO2(C2 S)等多种硅酸盐,导致圆柱体外表面的形貌、结构发生较大变化;圆柱体内部渗透进入的熔盐中CaO含量低,形貌变化较小.外表面硅酸盐层的存在使仅内置阴极集流体的固态Si O 2圆柱体电解还原速度减慢和难度增加.  相似文献   
2.
Microstructure, mechanical properties and wear resistance in an ultrafine-grained Al–Mg–Si alloy fabricated utilizing a combination of equal channel angular pressing (ECAP) and dynamic aging were investigated in this paper. The results indicated that the grain size of the ECAP alloy was significantly refined, i.e., to ~239 nm after three ECAP passes. Meanwhile, the yield and tensile strength of the ECAPed material reached 340 MPa and 445 MPa, respectively, while maintaining a significant uniform elongation of 14%. Wear resistance results demonstrated that the wear rate, wear depth and width of the ECAPed material decreased in comparison with the solution-treated (SST) and peak-aged (T6) conditions under a load range of 5–25 N. The adhesive wear that occurs in the undeformed specimens at 10 N does not appear in the ECAPed specimen at the same load, indicating that the ECAPed specimen delay the appearance of more serious wear mechanisms under certain loads. The cooperative interaction of high density nano-scale β" precipitates and dislocations resulted in a combination of super-high strength and good work hardening ability which suppressed the extension of cracks between the friction layer and the plastic deformation zone. As a consequence, the combination of ECAP and dynamic aging brings a significant improvement for antifriction performance of the 6061 aluminum alloy.  相似文献   
3.
<正>The journal of"Progress in Natural Science:Materials International(PROG NAT SCI-MATER)"sponsored and organized by both Chinese Materials Research Society(C-MRS)and Inter national Union of Materials Research Societies(IUMRS)started to publish  相似文献   
4.
为解决国产汽车板用钢在冶炼过程中因钢水增硅导致的钢板性能下降的问题,本文对钢板冶炼各阶段Si含量的产生及变化情况进行了研究。影响各阶段钢水增硅的原因主要包括钢包渣碱度、钢水Al含量、中包渣和中包绝热板的材质等,通过选用Si质量分数小于1.5%的脱氧剂、采用钢包渣改质剂提高钢包渣的渣碱度、选用全碱性中间包或不含硅的大包保护渣等控制措施,能够将精炼-连铸过程中钢液增硅质量分数控制在0.01%以下。  相似文献   
5.
金属钼表面MoSi2/Si3N4涂层的氧化性能研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
在金属钼表面分别制备了MoSi2涂层和MoSi2/Si3N4涂层,利用SEM和XRD分析研究了涂层的微观结构和物相组成,并比较了涂层在1 450℃大气环境下的抗氧化性能.结果表明:两种涂层与基体结合好且均匀致密;MoSi2涂层钼氧化16 h后出现贯穿裂纹,破坏了SiO2保护膜的连续性,导致涂层失效;Si3N4相的引入可明显改善MoSi2基涂层钼的高温抗氧化性,其抗氧化时间达76 h.  相似文献   
6.
本文采用表面粗糙化的方法,在拉曼背散射配置下观察到SiO2中注入硅离子形成纳米硅的拉曼散射特征峰.运用声子限制模型对纳米硅的特征峰进行曲线拟合,得到纳米硅的平均晶粒尺寸是2.6nm.这个结果与透射电子显微镜直接观测的纳米硅尺寸非常符合.以上研究表明,表面粗糙化是一个非常有效的方法来提高拉曼散射强度,从而方便地研究纳米硅的拉曼特征,不会对纳米硅的物理性质发生影响.  相似文献   
7.
李斯的一生富有传奇色彩,但最终又以悲惨的结局收场。从生活琐事上集中反映他的价值观。从仓鼠与厕鼠悟出的人生哲学,伴随其一生的荣辱成败。"仓鼠哲学"的人生哲学观和见利忘义的性格特点也终酿苦果。在很大程度上,李斯一生的悲剧是他亲手导演的。  相似文献   
8.
半导体光电结构材料广泛应用于信息、照明、交通、能源、医疗、军事等领域.介绍了厦门大学近年来在半导体光电结构材料研究的进展,着重介绍高Al组分AlGaN、高In组分InGaN、GaN基半导体、Si基半导体、ZnO基半导体等结构材料研发中所取得的进展及其在大功率LED、紫外LED、激光器、探测器、太阳能电池等光电器件中的应用.  相似文献   
9.
Fe2(Mo04)3/Si3N4复合粉末还原及热压微观组织结构分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
以α-Si3N4,Fe(NO3)3·9H2O和NH4Mo7O24·4H2O为原料,采用非均相沉淀法制备Fe2(M0O4)3/Si3N4复合粉末,采用氢气还原与热压法获得Fe-Mo/Si3N4复合粉末与烧结体,采用x线衍射仪(XRD)、电子能谱(EDS)、电镜扫描(SEM)和电镜透射(TEM)等方法对Fe-Mo/Si3N4复合粉末与烧结体物相、成分及微结构进行观察与分析.分析结果表明:Fe-Mo/Si3N4复合粉末主要成分为α-Si3N4,Mo,Si和Fe-Mo氮化物(Fe6M07N2和Fe3M03N),其中Mo颗粒长大;粒径为4-7 μm的Mo5Si3大颗粒均匀镶嵌在Si3N4,Fe-Mo氮化物(Fe6Mo7N2和Fe3Mo3N)及Si02的混合物组成的粒径为1 μm左右的小颗粒之中.  相似文献   
10.
氧离子束辅助激光淀积生长ZnO/Si的XPS研究   总被引:5,自引:0,他引:5  
利用X射线光电子能谱深度剖析方法对ZnO/Si异质结构进行了分析,用该法可生长出正化学比的ZnO,不过生长的ZnO薄膜存在孔隙,工艺还有待进一步改进。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号