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讨论了磁光静态记录过程中单层膜与多层膜在激光照射微区内温度场的分布，导出多层膜在激光照射下温度变化的解析表达式，由此模拟出局域瞬态温度场，在理论上确定了ＴｂＦｅＣｏ记录材料的成畴大小和形状，这对磁光薄膜宽温化、表面温度特性和磁光记录畴表面形貌分析等具有实际意义 相似文献
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磁光静态记录温度场的分布及计算 总被引：1，自引：0，他引：1
讨论了磁光静态记录过程中单层膜与多层膜在激光照射微区内温度场的分布，导出多层膜在激光照射下温度变化的解析表达式，由此模拟出局域瞬态温度场，在理论上确定了ＴｂＦｅＣｏ记录材料的成畴大小和形状，这对磁光薄膜宽温化，表面温度特性和磁光记录畴表面形貌分析等具有实际意义。 相似文献
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讨论磁光静态记录过程中单层膜与多层膜在激光照射微区内温度场的分布,导出多层膜在激光照射下温度变化的解析表达式。由此模拟出局域瞬态温度场,在理论上确定了TbFeCo记录材料的成畴大小和形状。这对磁光薄膜宽温化、表面温度特性和磁光记录畴表面形貌分析等具有重要的实际意义。 相似文献
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介绍了磁光静态磁参数测量用盘温控制系统的软硬件。硬件部分以 80 3 1单片机为核心 ,包括数据采集、测量处理的温度控制部分 ,并利用单片机和上位机之间的双向通讯功能实现温度设定及显示 ;软件部分采用C语言和 MCS5 1汇编语言编制。控温范围为 (0～ 1 0 0 )℃ ,控温精度为± 0 .8℃。 相似文献
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