微波和酸蚀作用下石英砂中气液包裹体的去除机理

通过Leica偏光显微镜、傅里叶红外光谱仪、气相色谱仪等仪器表征,分析微波和酸蚀单独及共同作用国产高纯石英砂中气液包裹体中水分子含量和气液包裹体显微形态的变化规律,并对气液包裹体的去除机理进行研究。研究结果表明:在微波场作用下,石英砂中气液包裹体的水分子的红外吸收峰强度及面积大幅度增加,偏光显微图显示部分体积较大的气液包裹体体积减小,并有大量的体积较小的液相包体群生成;单独的酸蚀作用对石英砂中气液包裹体中水分子的红外吸收峰强度及面积几乎没有影响;在微波和酸蚀共同作用下,石英砂中气液包裹体的水分子红外吸收峰强度及面积大幅度降低,在经过HF酸蚀处理5 h后,石英砂中气液包裹体的水分子的红外吸收峰强度及面积均远小于原料中水分子的红外吸收峰强度及面积,此时石英砂样品光透过率最高,气液包裹体和羟基水(OH)-的去除效果最佳。     

测定石英玻璃的导热系数

用单向稳定热流法测定纯度为99.95%的石英玻璃的导热系数，其温度范围的50－500℃，准确度估计到5％，发现石英玻璃的导热系数随温度升高而有所增大。     

废弃熔融石英玻璃高温晶化为方石英的过程研究

高纯熔融石英玻璃当前被广泛应用于高新产业中,但是在使用过程中,由于析晶、软化变形等情况导致高纯熔融石英玻璃产品不能继续使用．本文在对废弃熔融石英玻璃的物相、杂质、气泡等分析的基础上,采用高温物相转化将废弃熔融石英玻璃转化为方石英,讨论了煅烧温度、保温时间、粒径三个影响因素,通过Jade软件计算了高温物相转化产物的晶相含量占比．结果表明,废弃熔融石英玻璃经过高温焙烧处理后转化为方石英相,并且方石英的含量主要受煅烧温度、保温时间和颗粒粒径的影响,随着煅烧温度升高和保温时间的延长,颗粒粒径越小,方石英的含量也逐渐增加．从1230℃开始,废弃熔融石英玻璃开始成核结晶,在1480℃进入一个快速结晶期,在1500℃可完全转化为方石英相．     

高纯无水石英玻璃制备

<正>(合作方式:技术转让、合作开发)一、项目概况我国石英玻璃行业虽然发展较快,但是与国外大公司相比差距仍很大,主要是产品纯度比国外差,Fe、Al、K、Na等元素含量比国外高几倍,大部分石英玻璃产品的羟基含量比国外先进企业产品高5~6倍。高档、大规格石英制品还不能生产,全部依赖进口。本     

溶胶—凝胶法制备石英玻璃

用溶胶-凝胶法将Si(OC_2H_5)_4在催化剂的作用下水解聚合成凝胶。测定了凝胶的粘度变化、热重分析、差热分析、松密度和红外吸收光谱。并对不同条件下溶液的胶凝时间做了测定,探讨了水解-聚合-干凝胶-石英玻璃的转变过程.     

含ZrO2硅溶胶制备及烧成性能的研究

研究含ZrO2硅溶胶的制备工艺，胶凝条件，溶胶的热性能和烧成。通过X射线衍射分析证实，恰当地控制工艺条件可以使含ZrO2硅溶胶仅析出ZrO2晶体，而不析出SiO2晶体和ZrSiO4晶体。通过SEM观察分析，烧成工艺制度不仅决定那种晶体析出，而且对析出晶体的显效结构和晶体形貌影响很大。对使用含ZrO4硅溶胶增韧石英玻璃陶瓷有非常重要意义。     

Relaxation mechanism analysis of synthetic fused quartz glass investigated by electrical impedance spectra

The synthetic fused quartz glasses with bare metal impurities have been analyzed by temperature- dependent electrical impedance spectroscopy. The complex electric impedance and the overlapping of the normalized dielectric modulus imply the single mechanism of dielectric and conduction relaxation in the fused quartz glass. Besides, the dependence of conductivity on temperature may attribute to the predominant electric relaxation to the delocalized or long range electronic hopping between the nonbridged dangling oxygen.     

硅石代水晶原料制备工艺初探

分析了用硅石作原料生产透明石英玻璃的必要性和可能性，研究出了一整套行之有效的硅石原料的制备工艺，对开发新的石英玻璃原料资源具有重要的现实意义     

多晶硅生产副产物SiCl4合成高纯石英玻璃的方法

针对国内多晶硅生产副产物四氯化硅的消化处理,通过对多晶硅生产尾气冷凝液主要成分三氯氢硅和四氯化硅等组分和杂质的含量分析,提出了利用多晶硅生产副产物四氯化硅合成高纯石英玻璃的方法及其工艺条件.通过分析四氯化硅合成高纯石英玻璃的影响因素,针对性地提出了生产控制方法.对高纯石英玻璃材料的理化性能及应用进行了探讨,为多晶硅行业资源综合利用及增效减排,提供了切实可行的途径.     

SiO2的开发应用现状

系统介绍并分析了SiO2在工业领域的利用现状。目前，国内的SiO2开发应用逐步由粗加工向深加工发展，尤其是纳米技术的渗入以及硅电子光学产品的开发，加速了SiO2产品的发展。现阶段SiO2开发应用产品主要有：纳米陶瓷等超细纳米化产品、氮氧化硅粉末、分子筛、耐高温硅酸钙保温材料、新型精铸用石英粉涂料等。此外，指出了该领域研究目前存在的问题及今后的对策。