0.4～2.6 MeV宽能区质子在轻核Al上160°背散射截面测量

应用北京师范大学2×1.7 MeV串列加速器提供的质子束,采用相对测量方法测量了0.4~2.6 MeV宽能区质子在轻核Al上160°背散射截面.结果表明,对于质子在轻核Al上的散射截面,可用卢瑟福散射截面公式计算的最大入射质子能量是1.5 MeV,质子能量大于该值时,出现连续的非卢瑟福散射共振区.     

北京市夏季大气气溶胶 PM2.5和 PM10成分特征?

对北京市城区2012年夏季大气对气溶胶进行每日PM2.5和PM10石英膜采样,得到了可溶性离子质量浓度和16种元素的质量浓度,并结合气象观测值进行了分析.结果显示,采样期间,PM2.5质量浓度为9.58~210.42μg·m-3,平均值102.81μg·m-3;PM10质量浓度为33.75~288.33μg·m-3,平均值159.66μg·m-3.PM2.5和PM10质量浓度都与采样点能见度、风速呈负相关,与相对湿度呈正相关.质子荧光分析(PIXE)结果显示,S、K、Ca和Fe在PIXE可分析元素中含量较高,在PM2.5和PM10都占89%.且元素Ca、Ti、Sc、Cr、Fe主要存在于粗粒子(PM2.5~10)中,而元素S、Cu、Zn、As、Br、Pb主要存在于细粒子(PM2.5)中.富集因子分析表明,元素K、Ca、Ti、V、Mn、Ni主要为地壳来源,元素S、Cl、Cu、Zn、As、Br、Pb主要来自于人为源.SO2-4、NO-3、NH+43种可溶性离子总质量浓度占PM2.5浓度的43.5%,占PM10浓度的25.4%.     

北京市城区单监测点PM2.5质量浓度变化特征

2009年在北京师范大学科技园内对PM2.5质量浓度的连续监测结果表明,PM2.5质量浓度的年均值为55.2μg.m-3,日均值在1.2~325.9μg.m-3之间变化,且频数分布呈现出明显的倾斜:大量的质量浓度值位于30~70μg.m-3之间;季节变化特征为冬季PM2.5污染水平明显高于其他季节;不同季节的日变化模式存在显著差异:整体上是冬季夜间质量浓度高于白天,夏季白天质量浓度高于夜晚,同时在各个季节下午16:00以后质量浓度都存在回升现象.     

离子注入诱变微生物应用与研究进展

离子注入微生物诱变选育是核技术应用于生物研究,进行物理科学与生命科学交叉学科研究的典型范例.自该技术应用以来,我国在微生物的离子注入诱变选育及机制研究方面取得了丰硕的成果.北京师范大学核科学与技术学院是国内较早开展相关研究的单位之一,通过10多年的学科发展与研究积累,学院在离子注入微生物研究的条件建设和科研方面都取得了良好的发展.     

~(11)B(p,3α)对核反应α_1谱的理论拟合

(11)B（p，3α）是一种干净惯性压缩核聚变的新途径．为测量其核反应截面，应用核反应理论，对反应中伴随8Be第一激发态产生的α粒子的能谱进行理论拟合，通过拟合将其同8Be基态和第一激发态衰变产生的α粒子能谱分开．理论拟合同实验谱图符合得很好．     

11B(p,3α)核反应α1谱的理论拟合

＾１１Ｂ（ｐ，３α）是一种干净惯性压缩核聚变的新途径，为测量其核反应截面，应用核反应理论，对反应中会随＾８Ｂｅ第一激发态产生的α粒子的能谱进行了理论拟合，通过拟合将其同＾８Ｂｅ基态和第一激发态衰变产生的α粒子能谱分析，理论拟合同实验谱图符各很好。     

GIC4117 2×1.7MV串列加速器高能注入靶室的改进

通过更换丝杠和更新电机控制系统增大了靶盘纵向扫描范围,解决了扫描过程中纵向电机经常停转问题,并使靶室可装载10 cm(4 in)片子;通过隔离外界干扰电信号、精确控制扫描面积和对二次电子抑制电极的改进使注量测量误差达到了实验要求.     

外束PIXE束流均匀性测量与改善

外束PIXE束流均匀性是对非均匀性样品进行PIXE定量分析的基础.利用IP板对北京师范大学GIC4117 2×1.7 MV串列加速器外束PIXE束流均匀性进行了测量.通过在准直光栏前改用5μm的铝箔散焦膜,并用刀口厚度仅为0.1mm的铝准直光栏代替原有的碳准直光栏,改善前外束PIXE束流中心直径3.6mm内的离散程度为-65%~50%,改善后为-4.9%~2.8%.改善后的PIXE可直接用于Tisch安德森8级气溶胶采样器样品的元素定量分析,以及PIXE公司的分级式撞击采样仪第1~7级样品的元素定量分析.     

阴极真空弧沉积中MEVVA源两种工作状态的比较

介绍了阴极真空弧沉积中,弧源在阴极接地和阳极接地２种不同工作状态下的工作特性,发现阳极接地时,因沉积靶室入口法的第二阳极作用。聚焦磁场对弧源放电稳定性的影响不如阴极接地时明显。因此可以加较高煌聚焦磁场,从而获得电流较大和较稳定的沉积离子束。     

用质子激发X射线能谱分析技术测量FVAPD装置合成薄膜均匀性

采用质子激发的X射线能谱分析(PIXE)方法对磁过滤阴极真空弧沉积(FVAPD)装置在Al板上合成Ti膜相对厚度进行了测量,给出了沉积靶室中不同位置大面积合成薄膜的均匀性.通过同背散射分析(RBS)测量结果的比较表明:利用在轻衬底上合成重元素薄膜的PIXE分析可以快速、无损和精确地测量FVAPD装置合成薄膜的均匀性.