外束PIXE束流均匀性测量与改善 |
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引用本文: | 胥密,党永乐,王广甫,褚莹洁,仇猛淋,郑力,殷鹏.外束PIXE束流均匀性测量与改善[J].北京师范大学学报(自然科学版),2018,54(4):472-475. |
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作者姓名: | 胥密 党永乐 王广甫 褚莹洁 仇猛淋 郑力 殷鹏 |
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作者单位: | 北京师范大学核科学与技术学院,100875,北京;中国核电工程有限公司,100840,北京;北京师范大学核科学与技术学院,100875,北京;北京师范大学核科学与技术学院,100875,北京;北京市辐射中心,100875,北京 |
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基金项目: | 北京市自然科学基金;中央高校基本科研业务费专项 |
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摘 要: | 外束PIXE束流均匀性是对非均匀性样品进行PIXE定量分析的基础.利用IP板对北京师范大学GIC4117 2×1.7 MV串列加速器外束PIXE束流均匀性进行了测量.通过在准直光栏前改用5μm的铝箔散焦膜,并用刀口厚度仅为0.1mm的铝准直光栏代替原有的碳准直光栏,改善前外束PIXE束流中心直径3.6mm内的离散程度为-65%~50%,改善后为-4.9%~2.8%.改善后的PIXE可直接用于Tisch安德森8级气溶胶采样器样品的元素定量分析,以及PIXE公司的分级式撞击采样仪第1~7级样品的元素定量分析.
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关 键 词: | 外束PIXE 束流均匀性 光栏 IP板 |
Beam uniformity measurement and improvement of external beam PIXE apparatus |
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Institution: | School of nuclear science and technology,Beijing Normal University,100875,Beijing;
China Nuclear Power Engineering Co,100840,Beijing;
Beijing radiation center,100875,Beijing |
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Abstract: | |
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Keywords: | |
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