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1.
The organic thin-film field effect transistor was prepared through vacuum deposition by using teflon as di-electric material. Indium-tin-oxide acted as the source and drain electrodes. Copper phthalocyanine and teflon were used as the semiconductor layer and dielectric layer, respectively. The gate electrode was made of Ag. The channel length between the source and drain was 50 μm. After preparing the source and drain electrodes by lithography, the copper phthalocyanine layer, teflon layer and Ag layerwere prepared by vacuum deposition sequentially. The field effect electron mobility of the device reached 1.1×10ˉ6 cm2/(V@s), and the on/off current ratio reached 500. 相似文献
2.
不同类型双极晶体管的低剂量率辐射损伤增强效应损伤机制 总被引:1,自引:0,他引:1
文章研究了双极晶体管不同温度的低剂量率辐射损伤增强效应,发现NPN晶体管与PNP晶体管的低剂量率辐射损伤机翻是不相同的.最后文章讨论了其中可能的内在机制。 相似文献
3.
在完成超高频小功率晶体管的芯片和上部铝电极的制备工艺后,采用低能量氩离子束轰击芯片背面,能有效地降低其高频及低频噪声系数、提高其特征频率和电流放大系数。实验结果表明,晶体管低频噪声系数的下降与硅-二氧化硅界面的界面态密度的减小有关,而其高频噪声系数的下降是特征频率和电流放大系数增加的结果。 相似文献
4.
生物光色材料细菌视紫红质(bR)分子的光循环具有两个主要光活性态-基态B(568nm)和最稳中间态M(412nm)。用它们吸收带波长的光照射bR将分别引起分子的异构(B→M)和复构(M→B)光反应。本文首先研究了化学增强bR膜的互补调制饱和吸收,即多光束照射引起B、M各态粒子数比例变化,多光束之间互补调制输出光强。研究发现,当568nm和412nm双光束同时入射长M态寿命的bR膜时,存在阈值光强I 相似文献
5.
曾祥斌 《华中科技大学学报(自然科学版)》2006,34(7):85-87
采用电场增强金属诱导侧向晶化方法获得了结晶良好的多晶硅薄膜,并采用该工艺制备了p沟道薄膜晶体管器件,其迁移率为65cm2/(V·s),开关态电流比为5×106.采用拉曼光谱分析、X射线衍射、扫描电镜等微观分析手段对多晶硅薄膜进行了分析,结果表明加电场于两电极之间有促进多晶硅薄膜晶化的作用.采用EFE-MILC技术获得了大的晶粒尺寸,并用此技术制备了p沟多晶硅TFT.表明EFE-MILC技术是在低温下获得大晶粒尺寸p-Si薄膜和高性能p-SiTFT的好方法. 相似文献
6.
杨朝霞 《吉首大学学报(自然科学版)》2006,27(1):107-109
采用化学溶液沉积法,用价格低廉的原料成功地制备了Bi2Ti2O7介质膜.制膜过程简单,成本低廉,得到的薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数.用其制备的绝缘栅场效应管与相同尺寸的SiO2绝缘栅场效应管相比,前者具有较高的跨导和较低的开启电压. 相似文献
7.
AT89C51单片机控制的恒温水域温控系统 总被引:1,自引:0,他引:1
针对化工早期接点温度计恒温水域控温存在的缺点,本文介绍了一种基于AT89C51单片机为主控制器,结合AD590J集成温度传感器等组成的恒温水域温控系统。 相似文献
8.
针对电可擦除编程存储器(EEPROM)存储单元的读出电流需要被精确检测的问题,该文提出了一种对EEP-ROM存储单元进行工作电流检测的电路,该电路主要用电流镜来搭建,和读出电路中的灵敏放大器相连。在检测时用电流镜电路把灵放的读出电流镜像到电流检测的输出端。模拟结果显示,用这种检测电路来检测读出电流可以取得较高的精度(98.5%)。同时,电路本身结构简单,在实际中易实现。 相似文献
9.
从使用角度出发,在分析BJT的开关过程的基础上,重点讨论BJT的驱动保护技术,提出了一种兼有驱动、保护功能、通过性较强的设计方案,并给出部分实验结果。 相似文献
10.
对自行研制的低温晶体管于液氮温度下进行了低频噪声测量,结果表明:与室温相比1/f噪声显著增大,根据1/f噪声理论,并参照器件室温和低温下IB-VBE曲线的不同,认为在低温下EB结正向压降增大和载流子的冻折效应是使该器件1/f噪声等效输入电流功率谱密度变大的主要原因。 相似文献