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利用金属有机气相沉积技术生长InGaAsP/InP多量子阱结构,通过改变生长程序,得到了优化的陡峭量子阱界面.并利用光致发光(PL)和X射线双晶衍射对其界面质量分析,X射线双晶衍射表明界面起伏为一个原子层厚度,在10K温度下PL谱半峰高宽(FWHM)为7meV 相似文献
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以流动气体(N2,Ar2)作为反应环境,利用开放式激光熔蒸系统,通过改变制备参数熔蒸激光强度,流动气体种类及其流速,激光熔蒸时间,制备出一系列纳米硅样品.利用Raman光谱对在不同参数下所得到的样品表面形貌进行分析,可以看出,激光强度对生成的样品表面形貌有最直接的影响,并决定生成粒子的大小,而流动气体的种类则影响着沉积粒子的分布及其大小.流动的气体防止生成的纳米硅在开放系统中被氧化,而激光熔蒸时间对样品表面形貌的作用则表现的不是很明显. 相似文献
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农膜中光下转换材料(光转换添加剂CaS∶Cu,Eu)使用高温固相反应法制备,运用X射线光电子能谱(XPS)和光荧光技术,对不同工艺条件下制备的材料进行研究,获得荧光材料工艺与稳定性、转光效率的信息,为光转换添加剂及其相关产业的发展提供参考. 相似文献
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硅衬底硫化锌薄膜发光器件的研制 总被引:4,自引:1,他引:4
用双舟热蒸发技术在硅衬底上制备硫化锌电致发光薄膜.用XRD、XPS技术和电致发光谱分析技术.研究该薄膜的微结构与发光特性.发现硅衬底上硫化锌薄膜与硫化锌粉末在晶体结构上存在差异,掺入的稀土元素铒呈三价.电致发光谱为Er^3 的发光谱线.硅衬底硫化锌发光薄膜器件可与硅器件工艺兼容. 相似文献
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多孔硅荧光谱双峰结构的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用阳极腐蚀法制备了多孔硅(PS),用原子力显微镜(AFM)照片对其表面和结构做了分析,观察到多孔硅纳米尺寸的微结构;并进行了多孔硅层(PSL)的光致发光谱(PL)测量,观察到PL谱峰的“蓝移”和双峰现象,符合量子尺寸效应和发光中心理论,红外吸收光谱进一步证明了发光中心的存在。 相似文献
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利用K·P方法计算了阱宽10.0nm的InGaAs/InP应变量子阱在1%压缩应变、无应变和1%伸张应变三种情况下的能带结构及其态密度.结果表明在阱宽较宽时,伸张应变在13.5~13.23meV能量范围之内子带较少,而在13.32~-38meV能量内,具有比无应变时较低的的态密度.从能带角度考虑,在伸张应变时,利用增大阱宽可以改善器件性能 相似文献