用红外二向色性测定高聚物取向度——第一报 聚丙烯薄膜的一维取向

对用红外偏振光谱测定聚丙烯薄膜的取向(单轴拉伸)进行了初步的探讨和研究,并和双折射法及X-射线衍射的结果进行了比较,三者的趋势是一致的,是线性相关的。聚丙烯的1256cm~(-1)、973cm~(-1)谱带是结晶和非结晶的混合谱带,在不同的偏振红外光下反映了聚丙烯薄膜分子链总的取向状况,所得的结果和双折射法获得的结果线性相关。聚丙烯的997cm~(-1)、840cm~(-1)谱带是结晶谱带,在不同的偏振红外光下反映了聚丙烯薄膜晶区分子链的取向状况,其结果和x-射线衍射所得到的结果线性相关。实验结果说明,用偏振红外光,根据聚丙烯薄膜结晶谱带或混合谱带的变化情况,可以了解聚丙烯薄膜晶区或整个分子链的取向情况。     

钴、锰掺杂氧化锌薄膜的制备和特性研究

在200～500℃的衬底温度范围内,用电子束蒸镀法在Si衬底上制备了沿[002]取向的Zn0.80Co0.15Mn0.05O薄膜。这些薄膜都具有室温铁磁性,薄膜磁性随衬底温度的增大,在400℃出现极大值。X射线分析则表明,除200℃制备的薄膜结晶和取向较差外,其它温度的薄膜都沿C轴高度取向,(002)面间距和衍射峰半高宽(FWHM)接近相等。讨论了衬底温度对薄膜晶体结构和磁性的影响。     

高取向聚合物分子取向度与结晶度的各向异性

聚合物分子具有内部各向异性的物理特性,从而导致聚合物整体在大分子取向时呈现各向异性.为克服形态学超分子结构在评价这一特性时带来的误差,作者通过胶凝/结晶作用,制取超拉伸聚乙烯和聚丙烯薄膜,使之具有近乎完美的分子取向度及结晶度的形态,可以使得测量结果更为精确。利用广角X射线衍射(WAXD),直接测定了高取向聚乙烯和聚丙烯的结晶格子模量。在此基础上,测量并讨论了高取向聚合物结晶格子模量与杨氏模量、取向度、结晶度、温度之间的相互关系,以及在晶体色散研究中的一些现象与机理,从而澄清了聚乙烯与聚烯内部各向异性的几个特征。同时还研究了超拉伸聚乙烯的动态弹性模量、动态损耗模量和凝胶薄膜的力学性能。     

沉积温度影响有机太阳能电池阳极薄膜结晶性能

采用射频磁控溅射工艺,以氧化锌铝（AZO）陶瓷靶作为靶材,通过优化工艺参数在玻璃基板上制备了具有c轴择优取向的AZO透明导电薄膜.基于X射线衍射（XRD）测试表征,研究了沉积温度对薄膜结晶性能的影响.实验结果表明：AZO薄膜的结晶性能与沉积温度密切相关,较低温度时,随着沉积温度的升高,薄膜的结晶性能得到提高,但是沉积温度进一步升高时却有所变差.当沉积温度为400℃时,AZO薄膜的结晶性能最佳,c轴取向良好,晶粒尺寸接近40 nm.     

激光频率对用PLD法生长氧化锌薄膜特性的影响

用脉冲激光沉积法(PLD)在硅(100)衬底上制备了c轴取向的高质量的ZnO薄膜.分析了不同激光频率下薄膜的结晶状况,通过对薄膜的PL谱的测试,分析了不同激光频率下薄膜的发光特性状况,同时进行了薄膜结构的测试.结果显示:激光频率为3 Hz的样品结晶质量较高,具有很高的c轴择优取向,同时发光性能达到相对优化.     

TiN缓冲层厚度对立方AlN薄膜显微组织结构的影响

为了提高亚稳立方Al N薄膜的外延质量,采用激光分子束外延法,以Ti N为缓冲层在Si(100)衬底上制备立方Al N薄膜,主要研究了Ti N缓冲层厚度对立方Al N薄膜结晶质量和表面形貌的影响。结果表明,以Ti N为缓冲层可制备出高取向度的立方Al N薄膜,当缓冲层沉积时间为30 min时,立方Al N薄膜的结晶质量最好,表面最平整。     

射工艺对LaNiO3薄膜结构的影响

采用射频磁控溅射法在Si（100）衬底上制备了LaNiO3薄膜。通过原位加热或后续热处理使薄膜晶化。借助X-ray衍射分析、电感耦合等离子体发射光谱、原子力显微镜等手段研究了溅射工艺对薄膜显微结构的影响。实验结果表明,溅射时是否加热对薄膜的结晶取向影响很大,而氧分压则影响La/Ni比。衬底不加热时,通过后续热处理得到多晶的随机取向薄膜,而当溅射时原位加热300℃,则得到有明显（100）择优取向的薄膜。     

磁控溅射法制备纳米级ZnS薄膜及其性能研究

用磁控溅射技术在玻璃衬底上获得了取向单一的纳米级ZnS薄膜. 研究了衬底温度对薄膜结构的影响. 得出400 ℃时沉积的薄膜结晶最好,为六方纤锌矿结构,在可见光范围内有较高的透过率,其光能隙为3.81 eV.     

射频磁控溅射制备c轴取向LiNbO3薄膜研究

采用射频磁控溅射技术,用富Li的LiNbO3靶材在Si(100)和Si(111)基底上制备了LiNbO3薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)对LiNbO3薄膜的结晶程度、晶体取向和表面形貌及薄膜与基底结合处的界面结构进行了研究.结果表明:样品在空气中经1 000℃退火1 h处理后,薄膜与Si基底界面处有SiO2生成,得到的LiNbO3薄膜结晶性好,具有高c轴取向,晶粒排列致密且粒径尺寸均匀.     

HgCdTe/CdZnTe的MOVPE生长形貌特性

描述了碲锌镉(CZT)衬底性质对碲镉汞(MCT)薄膜结构的影响,碲锌镉晶片的取向、结晶完整性、缺陷浓度及对碲锌镉晶片的生长前处理都会影响碲镉汞薄膜表面特性,薄膜结构随碲锌镉衬底质量提高而改善。     

退火处理对等离子体显示器中氧化镁薄膜特性的影响

研究了电子束蒸发法制备的氧化镁薄膜在退火处理过程中特性的变化.研究表明:退火处理改善了薄膜的结晶性,降低了红外光谱中水分子吸收峰的强度,并使得低温或低通氧气量制备的氧化镁薄膜的可见光透射比下降,且这些薄膜在退火处理中极易产生裂纹.薄膜的结晶取向或结晶性是薄膜可见光谱变化和表面裂纹产生的主要原因,薄膜表面光洁度对可见光谱变化影响不大.     

偏氯乙烯-氯乙烯共聚物薄膜挤出成型中的动态结晶过程

对偏氯乙烯－氧乙烯共聚物（ＶＤＣ－ＶＣ）薄膜生产过程进行了分步模拟，通过Ｘ光衍射、ＤＳＣ分析，揭示了生产环节中温度、应变、对薄膜结晶的影响。实验表明，骤冷保持了管膜的无定形状态；在３６℃温水浴中停留时间的增加使晶粒尺寸增长；随拉伸速度增加，初期结晶速度加快，但在结晶后期达到的结晶度变化不大；当拉伸比大于３时，应变诱导结晶形成较快，拉伸昌比等温结晶形成的晶粒尺寸小得多；正常生产的薄膜在室温下存放晶粒     

低温生长纳米ZnO薄膜的结构

采用气体放电活化反应蒸发技术(GDARE),以玻璃为衬底,在较低的温度下沉积纳米ZnO薄膜,用二次蒸镀法克服薄膜生长饱和问题、有效增加膜厚及改善薄膜质量。讨论了GDARE法低温下沉积纳米ZnO薄膜的生长过程及成膜机理。由原子力显微镜(AFM)和X-射线衍射谱(XRD)分析薄膜表面形貌和晶体结构,研究结果表明,二次蒸镀法沉积的双层纳米ZnO薄膜具有更好的结晶质量及长期稳定性,薄膜沿C轴高度取向生长,内应力较小,晶粒尺寸均匀,平均粒径约35nm,表面粗糙度降低。     

双向拉伸PET薄膜生产技术与发展方向

聚酯薄膜(也称PET薄膜)在工业和日常生活中应用范围越来越广,为了响应节能环保的号召,聚酯薄膜的生产技术在不断完善,为了制作出消耗原材料更少、质量更优的PET薄膜,生产厂商尝试了多种制作工艺,最终被广泛应用的是双向拉伸技术。这一技术能保证制作出的PET薄膜厚度均匀,由于制作过程的影响,最终的成品拉伸性能良好。本文主要介绍了现在双向拉伸技术的情况,主要包含生产工艺和生产设备两个方面,并分析了未来的方向。     

金属与金属氧化物复合靶制备Bi4Ti3O12薄膜

报道了金属与金属氧化物复合靶的射频溅射法，制备Ｂｉ４Ｔｉ３Ｏ１２（ＢＴＯ）铁电陶瓷薄膜的方法，研究了ＢＴＯ薄膜的晶体结构，表面形貌以及断面。实验表明采用复合靶能够制备质量好、成分均匀的ＢＴＯ薄膜，其结晶取向与基片材料有关，且退火工艺对膜的质量有影响。     

在（001）Y-ZrO2上沿a/b轴取向生长Bi3.15Nd0.85TiO12铁电薄膜

用sol-gel工艺在（001）钇稳定ZrO2（YSZ）单晶衬底上制备了层状钙钛矿型Bi3.15Nd0.85Ti3O12（BNdT）铁电薄膜。X射线衍射结果显示,薄膜沿a/b轴择优取向生长,择优取向度约48%;透射电镜观察到薄膜厚约385 nm,其中晶粒呈柱状生长,晶粒横向尺寸100-200 nm。分析发现,薄膜在结晶过程中快速升温有助于晶粒沿a/b轴取向生成核。     

CdS多晶薄膜的制备及其性能的研究

采用化学池沉积法,同时在３种衬底上沉积ＣｄＳ薄膜,利用电镜,透射光谱,Ｘ射线衍射和微电流高阻计等方法对沉积膜进行了测试分析,算出ＣｄＳ薄膜的能隙宽度Ｅ０和电导激活能Ｅα。结果表明：沉积膜表观均匀,密实,结晶取向性以ＳｎＯ２玻片衬底为佳;     

衬底温度对铝掺杂氧化锌薄膜生长及其微结构性能的影响

以铝掺杂氧化锌(Zn O:Al)陶瓷靶作为溅射材料,采用RF磁控溅射技术,在玻璃衬底上制备了Zn O:Al半导体薄膜,通过X射线衍射(XRD)测试研究了衬底温度对Zn O:Al薄膜生长特性及其微结构性能的影响.研究表明:衬底温度对薄膜生长和微结构均具有明显的影响;随着衬底温度的升高,薄膜(002)晶面取向度和平均晶粒尺寸表现为先增大后减小的变化趋势,而半高宽、微应变和位错密度则呈现出先减小后增大的变化趋势.当衬底温度为650 K时,Zn O:Al薄膜具有最高的(002)晶面取向度、最大的晶粒尺寸、最窄的半高宽、最低的微应变、最小的位错密度,其结晶性能和微结构性能最佳.     

PLD制备LiMn2O4薄膜及参数对薄膜微观结构的影响

用脉冲激光沉积（PLD）,分别在不锈钢和单晶硅（111）衬底上生长了LiMn2O4薄膜,并对所生长LiMn2O4薄膜的结构进行了研究。结果发现,生长在不锈钢衬底上的薄膜具有粗糙的表面和随机的结晶取向,生长在单晶硅衬底上的薄膜具有相对光滑的表面,并具有明显的（111）方向上的择优取向。还研究了脉冲频率和总脉冲数对薄膜生长的影响,结果显示,在相同的沉积条件下,对于不同衬底,LiMn2O4薄膜的生长率不同;脉冲频率对薄膜生长的影响明显,在相同总脉冲数情况下,脉冲频率大,薄膜生长率明显增大。     

HDPE/SBS共混改性吹塑薄膜取向性的研究

采用相差显微镜和电子显微镜观察了HDPE/SBS共混改性吹塑薄膜的取向,并用双折射、广角X光衍射和红外光谱等仪器测量和分析了随SBS含量的变化,对共混改性薄膜取向性的影响。结果表明:SBS的加入减缓了HDPE/SBS吹塑薄膜的取向程度,并且发现随SBS含量的增加,共混体系中各组分的取向变化趋势是不一样的,其中PE部分的取向程度逐渐减少,SBS中的PS段的取向程度反而有所增加,而PB段的取向程度几乎没有变化。此外,对SBS缓解薄膜取向的机理进行了探讨,并讨论了薄膜的取向与机械性能的关系。