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磁控溅射法制备纳米级ZnS薄膜及其性能研究
引用本文:唐茜,黎兵,刘才,李愿杰,冯良桓,李卫.磁控溅射法制备纳米级ZnS薄膜及其性能研究[J].四川大学学报(自然科学版),2008,45(3):619-622.
作者姓名:唐茜  黎兵  刘才  李愿杰  冯良桓  李卫
作者单位:四川大学材料科学与工程学院,成都,610064
基金项目:国家自然科学基金(60506004);国家高技术研究与发展计划(2003-AA513010)
摘    要:用磁控溅射技术在玻璃衬底上获得了取向单一的纳米级ZnS薄膜. 研究了衬底温度对薄膜结构的影响. 得出400 ℃时沉积的薄膜结晶最好,为六方纤锌矿结构,在可见光范围内有较高的透过率,其光能隙为3.81 eV.

关 键 词:ZnS  纳米级薄膜

Study of Nano-magnitude ZnS thin films prepared by magnetron sputtering technique
TANG Qian,LI Bing,LIU Cai,LI Yuan-Yie,FENG Liang-Huan,LI Wei.Study of Nano-magnitude ZnS thin films prepared by magnetron sputtering technique[J].Journal of Sichuan University (Natural Science Edition),2008,45(3):619-622.
Authors:TANG Qian  LI Bing  LIU Cai  LI Yuan-Yie  FENG Liang-Huan  LI Wei
Institution:College of Materials Science and Engineering, Sichuan University;College of Materials Science and Engineering, Sichuan University;College of Materials Science and Engineering, Sichuan University;College of Materials Science and Engineering, Sichuan University;College of Materials Science and Engineering, Sichuan University;College of Materials Science and Engineering, Sichuan University
Abstract:
Keywords:ZnS  nano-magnitude thin film
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