均匀性模式及其在试验设计中的应用

均匀性是一个几何概念,通常采用不同的偏差来度量设计的均匀性.但偏差的度量侧重于总体,即考虑所有投影子设计的均匀性总和,而根据效应排序原则,低维投影均匀性应该比高维投影均匀性更重要,基于这一思想许多学者提出了类似于字长型的均匀性模式的新概念,并用它来度量设计的各阶投影均匀性.该文对均匀性模式的文献进行了综述,并给出均匀性模式及相关的最小低阶投影均匀性准则的统一定义.该文还对最小低阶投影均匀性准则与其他各种设计筛选准则之间的联系及其在补设计中的应用等进行了综述,这些联系表明最小低阶投影均匀性准则与因子设计中的广义最小低阶混杂准则、正交性准则、V准则、最近平衡性准则、设计效率准则、E(s2)准则之间是相互等价的,这些准则彼此之间可以互相支持,因此揭示了均匀设计和因子设计之间的内在关系.此外,该文还对现有文献中均匀性模式的下界进行了综述,并将达到下界的MPU设计案例罗列出来以方便实际工作者使用.     

均匀性的一个新度量准则——对称偏差

度量均匀性的偏差在小样本时具有方向性。本文给出了一个度量设计均匀性的新准则－对称偏差，它克服了偏差的上述缺点。利用该准则，给出了一些均匀设计表。     

改进的均匀设计在调优试验设计中的应用

将均匀设计应用于调优试验设计,提出一种从中心条件出发的试验布点安排,用一仿真例子说明应用步骤,通过对比原来的调优试验设计和应用了均匀设计的调优试验设计,表明在保持试验设计的均匀性和精度下,可以使原有的调优试验设计的局限得到突破.     

均匀性的一个新度量准则一对称偏差

度量均匀性的偏差在小样本时具有方向性．本文给出了一个度量设计均匀性的新准则－对称偏差，它克服了偏差的上述缺点．利用该准则，给出了一些均匀设计表．     

基于非球面工件曲率的打磨斑均匀性优化方法

为了解决非球面工件打磨过程中由于打磨点处曲率变化导致的打磨斑不一致的问题,研究了基于打磨工具下压量变化的打磨斑均匀性优化方法。首先建立打磨几何模型并对打磨斑面积计算方法进行推导;然后根据工件曲率变化调整下压量来优化接触面积的均匀性;最后基于ABAQUS有限元分析软件进行仿真,并比较调整下压量前后的面积均匀性效果。结果表明,通过调整不同曲率点的下压量可以获得均匀的打磨斑面积。因此调整工具下压量来控制打磨斑均匀性的方法可行。     

真空镀膜膜厚均匀性的理论分析

就真空镀膜机内几何配置对薄膜均匀性的影响进行了理论分析，得到了对实际工作具有参考价值的结论：调整真空室内的几何配置可以获得最佳的薄膜均匀性     

真空镀膜膜厚均匀性的理论分析

就真空镀膜机内几何配置对薄膜均匀性的影响进行了理论分析，得到了实际工作具有参考价值的结论，调整真空室内的几何配置可以获得最佳的薄膜均匀性。     

关于有限集点分布均匀性的度量方法

有限点均匀性的度量方法目前尚无一致公认的标准．本文讨论用偏差来度量点集均匀性的偏向性，进而讨论用其它方法度量均匀性的可行性     

三水平最小低阶投影均匀设计的设计效率

为了研究三水平设计投影均匀性与设计效率的关系，在中心化L₂-偏差度量下，建立了强度为2的三水平正交设计的均匀性模式与设计效率的解析联系，对于强度为3的三水平正交表，最小低阶投影均匀性准则与设计效率准则等价.对于三水平设计，获得了均匀性模式紧的下界，该下界可以衡量设计是否为最小低阶投影均匀设计.     

重塑黄土成样均匀性研究

为了改善重塑黄土成样的均匀性,提高成样效率和试验结果的可靠性,以宁夏同心下马关黄土为研究对象,成样方法、成样分层数和土样密度为因素,试验与统计分析相结合,研究了重塑黄土成样的均匀性。研究结果表明:成样均匀性随着成样分层数的增加而增加;同一成样分层,土样密度自上而下逐渐减小,在成样分层数较少时,顶部和底部的密度差异较大;成样均匀性与土样的密度有关,但密度的影响程度随成样分层数增大而减小;在成样分层数相同时,压样法较击样法的成样均匀性好,效率高;在成样分层数为5时,压样法可以获得很好的成样均匀性。     

均匀度解释混沌及生态现象的数学依据

定义了任意分布函数的均匀度,在此基础上提出了“均匀度的独立性”公理和“均匀分布最均匀”的命题,阐明了均匀度与熵的相似性,从而揭示了均匀度解释混沌的内在机理.根据独立性公理,k步期望均匀度是存在的,可以用k步平均均匀度估计.由于任意分布函数F可以看作是F^-1对均匀分布的变换,数值计算表明,分布函数的非线性程度是导致k步平均均匀度降低的原因.熵是描述分布的不确定性程度的量,也描述样本的分散程度,样本分散程度意味着样本均匀程度,反之亦然,分布的确定性程度意味着样本的集中程度,样本的集中程度意味着样本的不均匀程度,反之亦然,这是熵与均匀度的共同点.生态学中,大多数格局是集聚格局是由存在于自然界中的非线性变换所致.     

Beta分布参数的极大似然估计

利用均匀设计抽样（ＵＤＳ）方法，给出Ｂｅｔａ分布的参数极大似然估计（ＭＬＥ）。实例表明，此法是有效的。     

基于高斯模型的侧入式平板灯优化设计

为了提高侧入式平板灯亮度和均匀度,利用高斯分布函数的钟型曲线与光强分布为反相的特点,采用基于高斯模型优化网点分布的方法进行网点半径及间距设计;利用光损函数对LED灯珠进行排列,利用TracePro对光强幅度图进行分析,完成了圆形侧入式平板灯设计实验。实验结果表明,采用高斯模型优化的网点分布方法可使平均亮度达5 452 cd/m~2,均匀度提升至90%,优化后的模型表现出良好的性能优势,可以进行实际应用。     

均匀分布位置参数一种估计的渐近分布及应用

对区间长度为定值均匀分布位置参数的点估计量进行了研究,得到位置参数点估计量的渐近分布,讨论了渐近分布的相关性质,给出了位置参数的区间估计及其假设检验方法.     

基于试验设计理论的结构优化算法

介绍现代试验设计方法中的均匀设计和配方设计.借助试验设计原理,提出余表的构造方法及配方设计表的设计方案,得到一种新的优化算法.余表可用于确定优化过程中可能的迭代方向,借助配方设计表来探讨最佳初始迭代点的选择问题.以函数求极值问题验证该优化算法的可行性,并将其应用于体积约束条件下平面刚架的刚度优化问题,计算结果表明该算法可用于结构优化设计.     

U（0，1）分布随机变量与蒙特卡罗模拟

均匀分布是连续型随机分布中重要的一类，多数高级程序语言都提供了直接生成区间（0，1）上均匀分布（即U（0，1）分布）随机数的rand命令．利用rand随机数生成命令，可以实现积分模拟求解、非均匀随机变量模拟、泊松过程模拟等，笔者借助Matlab语言对此展开探讨．     

某些二维均匀设计表

本文首先利用Bundschuh和朱尧的偏差计算公式^[1],给出了某些二维情况下的均匀设计表的生成元,另外,提出了构造某些二维非平衡均匀设计方法及相应的均匀设计表。     

基于均匀设计和最小二乘支持向量机的电容层析成像传感器优化设计

提出一种采用均匀设计与最小二乘支持向量机相结合的电容层析成像传感器结构参数优化方法．该方法以敏感场均匀度为设计目标，采用均匀设计安排试验，试验因素包括ECT传感器的4个重要参数即：极板张角，绝缘管道材料相对介电常数，管道壁厚，以及屏蔽罩与电容极板间的间距．运用最小二乘支持向量机对试验结果进行回归分析，并用因素轮换法进行寻优计算，从而得出优化的传感器结构参数．结果表明：经过优化的电容成像系统具有较好的成像效果．该方法试验次数少，具有较强的实用性．     

遗传算法初始种群与操作参数的均匀设计

通过对遗传算法初始种群与操作参数设定问题的研究,认为初始种群的分布状态与算子操作参数的选取直接关系遗传算法的全局收敛性与搜索效率,对初始种群与各操作参数进行合理设定是应用遗传算法进行寻优计算的重要问题.同时,遗传算法的初始种群必须科学地表征解空间的信息,操作参数也必须兼顾多样性与快速性相互协调设置.基于优化设计思想提出应用均匀设计方法同时确定遗传算法的初始种群及其他操作参数的方法.利用均匀设计的等价准则提出一种简化计算的近似获得均匀初始种群的方法,仿真实例验证了这种方法的可行性、有效性.     

模拟退火方法的改进及其在地震剩余静校正中的应用

分析了模拟退火非线性反演方法随机寻优的特点,提出了一种改进的具有较高计算效率的模拟退火方法,该方法采用数论中的均匀试验设计方法来建立候选解在解空间的均匀分布,少量的目标函数计算就能了解目标函数解空间性质,减少了目标函数的计算次数.理论和实际计算表明该方法具有较高的计算效率.