涂层成份及结构的X射线光电子谱分析

以硬质合金作为衬底，分别采用了化学涂层（ＣＶＤ）和物理化学涂层（ＰＣＶＤ）的技术涂复Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）－ＴｉＮ硬质膜，应用Ｘ射线光电子谱分析（ＸＰＳ）技术，研究涂层表面化学成分、元素化学状态、物相组成及其随深度的变化。涂层表面由Ｔｉ，Ｎ，Ｃ，Ｏ和Ｃｏ组成；表面物相包括ＴｉＮ，ＴｉＯ＿ｘ及ＣｏＯ．随着深度的增加，Ｔｉ：Ｎ迅速变为１，而ＴｉＯ＿ｘ和ＣｏＯ含量急剧减少．     

等离子化学气相沉积硬膜技术研究

用等离子体化学气相沉积（ＰＣＶＤ）技术制备了ＴｉＮ、ＴｉＣ、Ｔｉ（ＣＮ）和（ＴｉＳｉ）Ｎ膜及其组合的多层膜。ＰＣＶＤ具有很好的覆盖性，ＰＣＶＤ－ＴｉＮ具有很好的耐磨、蚀性，膜与基体结合良好，因而用ＰＣＶＤ法在高速钢刀具、模具及轴承上沉积ＴｉＮ可大大提高其使用寿命。ＰＣＶＤ－ＴｉＮ和Ｔｉ（ＣＮ）膜无明显柱状晶，其显微硬度高于ＴｉＮ亦可用于高速钢刀具、模具上提高其使用寿命。ＰＣＶＤ－（ＴｉＳｉ）Ｎ，晶     

两种合金化Ti—Al合金的高温氧化行为

研究了２种合金化的Ｔｉ－Ａｌ合金Ｔｉ－４８Ａｌ－２Ｃｒ－２Ｎｂ和Ｔｉ－４７Ａｌ－１Ｃｒ－１Ｖ－２．５Ｎｂ（含金含量均为原子分数）在８００和９００℃的恒温氧化行为,分析探讨了它们的高温氧化特征及合金元素对其高温氧化性能的影响,研究发现：８００℃时,二合金化Ｔｉ－Ａｌ合金的抗氧化性能要比二元Ｔｉ－４８Ａｌ（以下简称为４８Ａｌ）合金的差;９００℃时,其抗氧化性能得到了很大改善,氧化反应速率锭低于二元４８     

用CVD法在陶瓷上沉积金色氨化钛装饰涂层

本实验实现了以 ＣＶＤ*法采用 ＴｉＣ１４、 ＮＨ３、 Ｎ２及 Ｈ２在陶瓷基体上产生金色的氨化钛涂层。适宜的沉积温度范围为８００～８５０℃。各气体反应物的流量比较小时，可以获得令人满意的、光亮的金色氨化钛涂层。陶瓷上沉积的金色涂层的组成接近化学计量的ＴｉＮ，即Ｎ／Ｔｉ原子比接近１：１。晶格常数ａ０＝４．２４１Ａ。光亮度达到亮金水平。由于氮化钛硬度高，金色氮化钛涂层比真金涂层具有较高的耐磨性，并且它的化学稳定性也高。     

大豆胰蛋白酶抑制剂SBTi—A2新类型Ti^d突变位点的初步研究

纯化的大豆胰蛋白酶抑制下Ｔｉ＾ａ和Ｔｉ＾ｄ分别经烷基化，ＣＮＢｒ裂解，痛ＰＡＧＥ电泳，Ｔｒｉｃｉｎｅ／ＳＤＳ－ＰＡＧＥ电泳分析，初步证明了Ｔｉ＾ｄ的突变位点发生在蛋白Ｎ端１－８４氨基酸残基上。     

塑料模具表面PAMOCVD处理对耐蚀性的影响

采用金属有机物ＴＰＴ［（Ｃ３Ｈ７Ｏ）４Ｔｉ］及ＴＥＴ［（Ｃ２Ｈ５Ｏ）４Ｔｉ］作为供钛源,对几种塑料成型模具钢材料进行ＰＡＭＯＣＶＤ处理。由于表层形成一层ＴｉＮ,Ｔｉ２Ｎ,ＴｉＣ等化合物层,故提高了塑料模具钢的抗腐蚀性及耐磨性。该模具钢与昂贵的不锈钢类材料相比,寿命提高,成本降低     

反义基因逆转肿瘤细胞多药耐药性诱导细胞凋亡的研究

探讨克服肿瘤细胞多药耐药（ＭＣＲ１）性的方法,提高化疗效。本采用多药耐药反义基因（ＭＤＲ１－ＲＳＰＳ－ＯＤＮ）逆转Ｋ５６２／ＡＤＭ肿瘤细胞的ＭＤＲ１,诱导肿瘤细胞凋亡ＭＤＲ１－ＡＳ ＰＳ－ＯＤＮ诱导Ｋ５６２／ＡＤＭ细胞株细胞产生大量ＤＮＡ断片,ＦＡＣＳ检测发现几乎全部ＭＲＤ＾＋Ｋ５６２／ＡＤＭ细胞发生凋亡。其结果表明ＤＭＤＲ１－ＡＳ ＰＳ－ＯＤＮ能有效、特异地抑制ＭＤＲ１基因表达,逆转肿瘤细胞的     

离子注入-直流辉光放电等离子体制备Ti6Al4V-TiN-TiC生物梯度材料

本文采用离子注入、等离子体氮化和等离子体ＣＶＤ相结合的技术,制备梯度材料,解决了常规气相沉积方法难以实现金属基体到陶瓷涂层薄膜的梯度化问题．制备了附着性好、血液相容性好的Ｔｉ６Ａｌ－ＴｉＮ－ＴｉＣ生物梯度材料．     

电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究

利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了ＴｉＮ,ＴｉＡｌＮ薄膜,并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火。退火前后都做了Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）谱及硬度测量,发现退火后ＴｉＡｌＮ薄膜表面出现Ａｌ２Ｏ３层,该层的出现使ＴｉＡｌＮ薄膜的高温特性大大好于ＴｉＮ涂层,在机械工业中将会有广泛的应用前景。     

反义基因逆转肿瘤细胞多药耐药性和诱导细胞凋亡的研究

探讨克服肿瘤细胞多药耐药（ＭＤＲ１）性的方法,提高化疗效果。本文采用多药耐药反义基因（ＭＤＲ１－ＲＳＰＳ－ＯＤＮ）逆转Ｋ５６２／ＡＤＭ肿瘤细胞的ＭＤＲ１,诱导肿瘤细胞凋亡,发现ＭＤＲ１－ＡＳＰＳ－ＯＤＮ诱导Ｋ５６２／ＡＤＭ细胞株细胞产生大量ＤＮＡ断片,ＦＡＣＳ检测发现几乎全部ＭＲＤ＋Ｋ５６２／ＡＤＭ细胞发生凋亡。其结果表明ＤＭＤＲ１－ＡＳＰＳ－ＯＤＮ能有效、特异地抑制ＭＤＲ１基因表达,逆转肿瘤细胞的ＭＤＲ１,促进阿霉素诱导ＭＤＲ＋１Ｋ５６２／ＡＤＭ细胞凋亡,为其临床应用提供理论依据     

PCVD—TiN涂层及其钢基体的热处理

在Ｃｒ１２钢基体上用ＰＣＶＤ法沉积ＴｉＮ涂层后,再进行热处理强化基体的研究,结果表明,热处理后,ＰＣＶＤ－ＴｉＮ少层的显微硬度略有提高。Ｘ射线衍射分析表明,经过热处理后,ＰＶＣＤ－ＴｉＮ涂层的晶体结构更趋于完整,其晶面间距也更接近或达到ＴｉＮ晶面间距的标准值。     

大豆（G.max）胰蛋白酶抑制剂SBTi—A2新类型Ti^x的纯化及其…

用丙酮脱脂、稀酸处理、硫酸铵盐析和ＤＥＡＥ－５２纤维素柱层析等方法从大豆中分离纯化得一种新类型胰蛋白酶抑制剂Ｔｉ．ＳＤＳ－ＰＡＧＥ分析显示Ｔｉ＾ｘ．ＳＤＳ－ＰＡＧＥ分析显示Ｔｉ＾ｘ与已知的大豆蛋白酶抑制剂Ｔｉ＾ａ的相分对分子质量均为２１０００，且Ｎ－末端均为Ａｓｐ；亲和电泳分析显示Ｔｉ＾ｘ与Ｔｉ＾ａ；两者经ＣＮＢｒ裂解后电泳分析得到相同带型；纯化样品的氨基酸组成分析显示Ｔｉ＾ｘ比Ｔｉ＾ａ多了两个碱     

PEMSIP法刀具TiN涂层技术

ＰＥＭＳＩＰ法刀具ＴｉＮ涂层技术等离子体增强磁控溅射离子镀（ＰＥＭＳＩＰ）ＴｉＮ涂层技术是在磁控溅射离子镀（简称ＭＳＩＰ，中国发明专利，１９８８年国家发明二等奖）基础上研究出来的一种新型ＰＶＤ刀具涂层技术。在ＭＳＩＰ设备中引进电子发射源和活化源，使其...     

掺铁TiO2用于NO-2光催化降解研究

采用溶胶－凝胶法制备了掺杂铁的ＴｉＯ２粉未,并用ＸＲＤ、ＳＥＭ、ＵＶ－Ｖｉｓ漫反射光谱等技术手段考察了掺入铁ＴｉＯ２粒子形态的变化,以及掺杂与否对氧化降解ＮＯ２＾－的影响。研究结果表明,铁的掺入可影响ＴｉＯ２的结构相变及粒子大小,并且发现掺杂后ＴｉＯ２对ＮＯ２＾－的氧化活性显著提高,在掺杂量３．０％时具有最佳活性。     

葡萄抗感霜霉病品种三项生化指标的比较(简报)

葡萄抗感霜霉病品种三项生化指标的比较（简报）于凤鸣（河北农业技术师范学院园艺系,昌黎,０６６６０ＣＯＭＰＡＲＩＳＯＮＡＭＯＮＧＴＨＲＥＥＢＩＯＣＨＥＭＩＣＡＬＩＮＤＥＸＥＳＯＦＧＲＡＰＥＣＵＬＴＩＶＡＲＳＡＮＴＩ－ＩＮＦＥＣＴＩＯＮＳＴＯＤＯＷＮＹＭ...     

辅助加热PCVD—TiN薄膜的制备及影响因素

研究了反应气体对辅助加热ＰＣＶＤ－ＴｉＮ薄膜制备的影响,结果表明,提高反应气体中ＴｉＣｌ４的含量可以提高薄膜的沉积速率,而且对薄膜内的氯含量没有影响。提高反应气体中的Ｖ（Ｈ２）／Ｖ（Ｎ２）可以略低薄膜内的氯含量,在Ｖ（Ｈ２）／Ｖ（Ｎ２）＝２,ＴｉＣｌ４的体积分数为１０％左右时ＴｉＮ薄膜的硬度最高,随着反应气压的升高,沉只速率呈正比上升而显著硬度却下降。     

在制取电解MnO2（EMD）过程中Ti基合金阳极的钝化研究

用恒电位扫描法（ＬＳＶ）研究了八类Ｔｉ基合金阳极「纯Ｔｉ，Ｔｉ－Ｎｉ，Ｔ－Ｍｎ（涂层），Ｔｉ－Ｍｎ（合金），ｔｉ－Ｃ，Ｔｉ－Ｂ，Ｔｉ－Ｎｉ－Ｍｏ，Ｔｉ－Ｎｉ－Ｍｏ－Ａｒ」分别在４０％Ｈ２ＳＯ４（ａｑ）及ＩＭＭｎＳＯ４（ａｑ）中的能钝化行为，得到１６组数据，从实验结果阐明了ＥＭＤ工业中所用纯Ｔｉ阳极钝化现象的机理及Ｔｉ基金阳极优于纯Ｔｉ阳极的依据。     

中国野生大豆胰蛋白酶抑制剂的初步研究

采用分离提取，电泳回收，ＰＡＧＥ，ＳＤＳ－ＰＡＧＥ，亲和电泳和抑制活性测定等方法，对我国一年生和多年生野生大豆种子蛋白中的胰蛋白酶抑制剂进行了初步研究。在４５°Ｎ来源一的上生野生大豆中得到纯化的胰蛋白酶抑制剂。通过电泳迁移率，分子质量，末端分析和抑制活性等测定，证明中ＳＢＴｉ－Ａ２的Ｔｉ＾ｂ型。     

钛基合金离子注入表面改性层的研究

应用电子能谱、Ｘ射线衍射及透射电镜等对四种不同注氮工艺下的Ｔｉ－６Ａ１－４Ｖ 合金表面改性层的化学成分、显微组织及合金结构等进行了分析研究。结果表明：注 层中的氮离子分布随注入剂量的不同而异；在注层中形成了ＴｉＮ，Ｔｉ２Ａ２Ｎ 等新的 合金相，同时形成了层错、孪晶等缺陷．并从理论方面对改性层的强化机制进行了初 步探讨。     

Na_(3.3)Zr_(1.65-X)Ti_XSi_(1.9)P_(1.1)O_(11.5)系统的相组成及性能

通过高温（１１７３—１４７３Ｋ）固相反应．制备了钠快离子导体ＮＡ３．３Ｚｒ１．６５－ＸＴｉＸＳｉ１．９ Ｐ１．１Ｏ１１．５系统中Ｘ＝０－１．６５的一系列合成物，研究了该系统的相变情况，探明了在ｘ＝０．５－０．９ 的组成范围内可制得ＮＡＳＩＣＯＮ单相．其中电导性最好的是Ｘ＝０．６的合成物．在６２３ｋ时它的电导 率为１８．９Ｓ·ｍ－１，在４７３—６７３Ｋ温区里其电导激活能为４１．７ＫＪ／ｍｏｌｅ．