钢水测氧过程锆管温度场的有限元分析

采用ANSYS软件对钢水测氧过程中测头插入钢水10 s瞬间锆管热传导过程进行模拟分析.结果表明,模拟锆管达到稳定温度的时间与实测得的温度/电动势曲线的响应时间基本相符.对不同壁厚和内径的锆管插入钢水后温度达到稳定的时间进行比较,得出厚度、内径与锆管管头、管壁内温度达到稳定时间之间的相关关系.     

一种新型冷轧辊用钢的组织演变

本文以一种新型冷轧辊用钢为研究对象,借助金相显微镜和扫描电子显微镜分析了试验钢在正火、球化退火、淬火、回火过程中的组织演变,研究了碳化物的成分变化和溶解析出行为。结果显示,试验钢正火后得到马氏体+部分颗粒状和少量块状碳化物的显微组织;球化退火后的显微组织为铁素体基体上分布有大量颗粒状碳化物+少量块状碳化物,球化退火组织评定为为2~3级;淬火后的组织为马氏体+部分颗粒状和少量块状碳化物;三次回火后的组织为回火马氏体+部分颗粒状和少量块状碳化物。试验钢中的块状碳化物在整个热处理过程中始终存在,1100℃以下奥氏体化时只发生边缘部分的少量溶解。颗粒状碳化物主要为M23C6型,在热处理过程中存在明显的溶解和析出行为,1100℃以下奥氏体化时部分溶解。     

摩托车齿轮离子软氮化后再淬火的研究

本文结合重庆望江机器厂三轮摩托车壳齿轮、变速箱主轴等零件,研究了35CrMo、45钢离子软氮化及再加热淬火工艺对其组织和性能的影响;进行了离子软氮化、离子软氮化后再淬火(下称复合热处理)、高温气体氰化三种工艺条件下的接触疲劳强度、弯曲疲劳强度、耐磨损性以及热处理变形的对比试验,得出了复合热处理后的零件具有优越的机械性能。另外,我们对强化机制及金相组织也作了初步的研究。     

42CrMo钢等离子渗氮速度的研究

作者在对42CrMo钢进行等离子渗氮工艺试验的基础上,参考有关数学关系,利用电子计算机处理实验数据,初步建立了扩散层、化合物层、温度控制的数学模型,实现了微处理机控制等离子渗氮参数。实验还得出CO_2对等离子渗氮有加速作用的结论。     

组氨酸残基在焦磷酸:果糖-6-磷酸1-磷酸转移酶催化功能中的作用

应用焦碳酸二乙酯(DEPC)对焦磷酸:果糖-6-磷酸1-磷酸转移酶(PFP)进行化学修饰时,酶的活性迅速丧失,呈拟一级动力学反应.羟胺的复活作用及修饰后酶的紫外光谱变化表明,酶失活的原因是DEPC与酶的组氨酸残基形成了乙酯基组氨酸复合物.失活动力学表明,酶的活性位点结合1分子DEPC即丧失活性.活性位点的组氨酸残基的完整性是酶活性的必要条件之一.底物F6P、产物果糖1,6-二磷酸(FBP)、P i及激活剂果糖2,6-二磷酸(F2,6BP)均可保护酶免被DEPC失活,底物PP i却没有保护作用.组氨酸残基在酶的催化功能中可能与F6P,FBP及P i的结合过程有关,而与PP i无关.     

42CrMo钢高压油马达转子离子软氮化的研究

本文针对武汉船用机械厂高压油马达转子软氮化问题,在对比了不同软氮化介质和方法的基础上,重点研究了 Co_2+NH_3离子软氮化气氛比例、炉内压力、渗氮温度对42CrMo 钢渗层形成速度、化合物层相组成、耐磨损性的影响,认为此法优于一般气体软氮化和其它离子软氮化法。     

塑料模具表面PAMOCVD处理对耐蚀性的影响

采用金属有机物ＴＰＴ［（Ｃ３Ｈ７Ｏ）４Ｔｉ］及ＴＥＴ［（Ｃ２Ｈ５Ｏ）４Ｔｉ］作为供钛源,对几种塑料成型模具钢材料进行ＰＡＭＯＣＶＤ处理。由于表层形成一层ＴｉＮ,Ｔｉ２Ｎ,ＴｉＣ等化合物层,故提高了塑料模具钢的抗腐蚀性及耐磨性。该模具钢与昂贵的不锈钢类材料相比,寿命提高,成本降低     

PCVD TiN工艺参数对膜基结合强度的影响

作者用4Cr5MoVlSi及3Cr2W8V两种热模具钢试样进行了等离子体增强化学气相沉积(PCVD)TiN的工艺试验,探讨了PCVD TiN工艺参数对膜基结合强度、硬度和结构的影响。结果表明,在比常规化学气相沉积(CVD)方法低得多的温度下,就能得到TiN沉积层。还用X射线衍射法对沉积层的结构进行了分析;用划痕法对不同工艺参数下得到的TiN沉积层与基体的结合强度(用临界负荷表示)进行了研究。     

菠萝焦磷酸:果糖-6-磷酸1-磷酸转移酶的分离纯化及性质研究

应用硫酸铵分级分离、DEAE-纤维素、Sephadex G-200、磷酸纤维素柱层析分离纯化了菠萝叶片焦磷酸:果糖-6-磷酸1-磷酸转移酶(PFP).凝胶过滤和非变性聚丙烯酰胺梯度电泳测定酶的分子量为132kD和140kD,SDS-聚丙烯酰胺电泳分析得到一条分子量为66kD的蛋白主带,表明该酶可能是由同种亚基组成的二聚体.此外,还对该酶的部分酶学性质进行了初步研究.     

PCVD法渗6.5%Si的动力学问题研究

提高硅铜片磁性能的最佳途径是提高钢片的硅含量。本研究采用等离子体化学气相沉积(PCVD)法，在(0．1～0．3)mm厚的普通硅钢片表面上涂硅，然后进行短时间高温扩散处理。结果表明：硅钢片的Si含量可达到6．5％，磁性能有很大改善。在(460-600)℃范围内渗硅，其它条件不变，渗硅速度随着温度的升高而降低，这是由等离子体反应的特殊动力学和热力学性质所决定。