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Ge纳米结构的制备技术与发光特性研究进展
引用本文:张雷,彭英才,马蕾,徐卓,王侠.Ge纳米结构的制备技术与发光特性研究进展[J].河北大学学报(自然科学版),2008,28(1):101-106.
作者姓名:张雷  彭英才  马蕾  徐卓  王侠
作者单位:河北大学,电子信息工程学院,河北,保定,071002
摘    要:Si基纳米发光材料与器件的研究是目前半导体光电子技术领域中的一个活跃前沿.除了Si纳米晶粒、Si量子点和Si/SiO2超晶格等Si纳米结构之外,属于同族元素的Ge纳米结构也因其所具有的优异特性,而呈现出良好的发光性能.评述了Ge纳米结构的制备方法与发光特性在近年内取得的研究进展.

关 键 词:Ge纳米结构  光致发光  电致发光  与氧相关的缺陷  量子限制效应  
文章编号:1000-1565(2008)01-0101-06
修稿时间:2007年1月10日

Progress of the Fabricated Methods and Luminescent Properties of Ge Nanostructures
ZHANG Lei,PENG Ying-cai,MA Lei,XU Zhuo,WANG Xia.Progress of the Fabricated Methods and Luminescent Properties of Ge Nanostructures[J].Journal of Hebei University (Natural Science Edition),2008,28(1):101-106.
Authors:ZHANG Lei  PENG Ying-cai  MA Lei  XU Zhuo  WANG Xia
Abstract:Recently,the study of the Si-based luminescent materials and devices has attracted much attention of semiconductor photoelectric technology.Except Si nanostructures,such as Si nanocrystals,Si quantum dots,Si/SiO2 superlattice,Ge nanostructures also exhibit efficient luminescence properties.In the paper,we mainly review the research progress of the fabricated mathods and their luminescent properties of various Ge nanostructures in recent years.
Keywords:Ge nanostructure  photoluminescence  electroluminescence  defects relative to oxygen  quantum confinement effect
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