Si_3N_4与TiO_2/SiO_2减反射膜用在单晶硅太阳电池的对比研究

文章对比分析了Si3N4单层减反射膜与TiO2/SiO2双层减反射膜对单晶硅太阳电池性能的影响,发现Si3N4单层减反射膜单晶硅太阳电池短路电流Isc较高。并对这两种减反射膜的批量产品进行抽样检测,结果表明采用TiO2/SiO2双层减反射膜电池总体品质(主要从效率看)相当于或略优于Si3N4单层减反射膜太阳电池,说明TiO2/SiO2双层减反射膜仍比较适于单晶硅太阳电池。     

PECVD氮化硅薄膜工艺参数研究

根据太阳电池组件的结构和封装材料特性,设计出硅太阳电池片减反射薄膜的最佳厚度和折射率,利用泰勒公式进行优化PECVD制备氮化硅薄膜的工艺参数。通过实验,找出适合中电48所工业生产用管式PECVD制备氮化硅薄膜的工艺参数。     

高能氦粒子对N型磷掺杂硅半导体辐照效应的模拟研究

利用SRIM模拟软件对硅太阳能电池板的减反射膜和N型磷掺杂硅半导体进行了氦粒子辐照模拟实验,实验可知10Me V高能氦粒子对减反射膜几乎不会产生大的损伤,对减反射膜辐照损伤是长期的累积效应。高能氦粒子的辐照损伤主要集中在N型磷掺杂硅半导体内部,这种内部损伤是个短期内快速累积效应。每个辐照氦粒子会在硅半导体材料内部把自身的能量释放出来,导致硅半导体材料内部发生离化现象,造成损伤,这种损伤包括原子离位、原子反冲、原子替换、空位的形成等,会产生平均空位率为394个空位,产生的粒子平均离位率为427个离位原子,会导致大量原子发生级联碰撞。     

Glan-Thompson棱镜四层宽带减反射膜的设计与蒸镀

Glan-Thompson棱镜在光学领域有着重要的应用，透过率的高低和有效带宽的大小，直接影响着棱镜的品质．为了提高棱镜的透过率，拓宽有效使用带宽，利用薄膜特征矩阵的原理，设计了四层宽带减反射膜系，选用合适的光学薄膜材料，利用电子束蒸镀，借助于离子源辅助蒸镀，制作了高性能的宽带减反射膜．测试结果表明：平均剩余反射率小于1％，有效使用带宽达300nm，达到了设计要求．     

三结砷化镓叠层太阳电池的光学匹配设计与分析

电流匹配是两端式多结叠层太阳电池设计中的关键和难点;同时,合理的吸收光谱分布将有利于电流匹配的获得。文章采用TFC光学薄膜仿真软件,模拟与分析了三结砷化镓太阳电池的多层减反射膜、顶电池窗口层和顶电池等功能层的吸收谱、反射谱和透射谱,以及对太阳电池吸收光谱的影响,结合太阳电池性能分析,得出了几何结构优化设计,可确保较好的电流匹配。     

MgF2薄膜的制备方法及其应用

概述了MgF2薄膜的制备方法及其在各领域中的应用。通过对制备方法的对比研究和分析,得到:众多的方法中,真空蒸发具有较为简单的设备和方法;而应用最多的是电子束蒸发法。MgF2薄膜以其优异的性能已广泛应用于各行业中。     

空间太阳能电源

引言第一个空间太阳电池载于1958年发射的Vangtuard I,体装式结构,单晶Si衬底,效率约10%(28℃)。到了1970年代,人们改善了电池结构,采用BSF、光刻技术及更好减反射膜等技术,使电池的效率增加到14%。在70年代和80年代,地面太阳电池大约每5.5年全球产量翻番;而空间太阳电池在空间     

LiNbO_3晶体的减反射膜

LiNbO_3晶体是 YAG 倍频激光器倍频晶体之一。蒸镀一层 SiO_2的减反膜,其剩余反射率 R≤0.2%。文章对影响减反膜效果的因素进行了探讨,给出减反膜的性能测试结果。     

Glan-Thompson棱镜高性能宽带减反射膜的研制及性能测试

Glan-Thompson棱镜在光学领域有着重要的应用,透过比的高低和有效带宽的大小,直接影响着棱镜的品质.为了提高棱镜的透过比,拓宽有效使用带宽,借助于计算机辅助设计方法,设计了高性能多层减反射膜系;选用合适的光学薄膜材料,利用电子束蒸镀,借助于离子源辅助蒸镀,制作了高性能的宽带减反射膜.测试结果表明:平均剩余反射率小于0.5%,有效使用带宽在可见光区大于100 nm,在近红外大于200nm,达到了设计要求,提升了棱镜的品质.