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1.
用Guo-Krasnoselskii不动点定理给出半正二阶离散周期边值问题正解的存在性和多解性结果, 其中λ>0为参数, [1,T]z={1,2,…,T}, f: [1,T]z×[0,∞)→R连续且存在常数D>0, 使得f(t,u)≥-D, (t,u)∈[1,T]z×[0,∞), a: [1,T]z→(0,∞), 02(π/2T).  相似文献   
2.
利用电磁波传输理论,研究并推导出了电磁波斜入射时Salisbury屏后向反射率公式,使用三维网格法讨论了各个电磁参数、隔离层厚度、入射波频率等同后向反射率之间的关系.研究结果表明:在2~18GHz范围内,角度后向反射率有很大;在f=16GHz时,μ_(r1)和μ_(r2)取值的增加使得材料的磁损耗和储能能力加强,导致材料有很好的吸收效果;然而ε_(r1)和ε_(r2)取值增加时,由于表面反射效应增强,使得吸波效果下降;在2~18GHz频段内后向反射率均可达到4.5dB以上,能够满足军事和民用的要求.  相似文献   
3.
提出了一种型钢混凝土柱正截面承载力计算方法.与我国工程技术人员主要采用的日本叠加计算方法相比,此方法具有计算简单,节约材料,适应性强等特点,其计算结果与理论值很接近.  相似文献   
4.
苏州瑞红电子化学品有限公司:集成电路用正性光刻胶 由苏州电子材料厂与日本瑞翁和日本丸红公司合资成立的苏州瑞红电子化学品有限公司,成功研发出集成电路用正性光刻胶产品,并迅速形成产业.瑞红公司生产的集成电路用正性光刻胶,具有超高感度、高粘附性以及工艺宽容度大等显著特点,不仅填补了国内空白,还抑制了国外进口材料价格上升的趋势.目前,瑞红公司已成为我国微电子化学材料最大规模的专业生产企业,也是国内惟一能同时生产集成电路用光刻胶、液晶显示用光刻胶两种重点产品的企业,并占据了这两种产品50%以上的市场份额.  相似文献   
5.
研究了一个带有垂直传染、具有年龄结构的接种SIS流行病模型,得到了正平衡解存在性的充分条件。  相似文献   
6.
《河南科技》2007,(2):F0003-F0003
“‘宇航杯’叶面肥科普知识有奖问答”已公布十一期获奖名单,感谢广大读者的踊跃参与。我们按照答案的正确率,由高到底,从众多的读者来信中抽出每期的获奖者。虽然有些读者的答案并不完全正确,但是重在参与的精神仍然值得称赞。  相似文献   
7.
对多个处理且试验结果为多档次的临床试验,构建了其概率罐子模型。研究了模型中每个处理试验结果发生的概率。利用极大似然估计方法得到其估计量,并获得此估计量具有渐近正态性。  相似文献   
8.
本文发展了一种重正化群方法,精确而系统地研究包含周期和非周期格子的一维体系的物理性质.该一体系的构造序列是选A、B两块并按膨胀规则{A、B}→{A~(m11)B~(m12),A~(m12)B~(m22)}排列成的.作为特例,计算了(M_(11),M_(12),M_(21),M_(22))=(1,1,1,0)(1,1,1,1)(1,2,1,1)和(2,1,1,1)几种一维格子的电子带谱和态密度,结果表明,较之其他方法,该方法具有系统性,而且分析结果与其他类似。  相似文献   
9.
本文合成了1,3—二(正辛基亚磺酰)丙烷(DOSP),完成了1,3—二(正辛基亚磺酰)丙烷的四氢萘饱和溶液的反相纸层析的R_f图谱。  相似文献   
10.
引进了多重正关联BCK-代数,并讨论了它的一些性质,从而使上正关联BCK-代数与n级正关联BCK-代数得到真正的推广。  相似文献   
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