AFM电场辅助纳米加工焦耳热分析

原子力显微镜是一种重要的纳米加工工具,在强电场的辅助下,可以实现凸起或凹陷的纳米结构加工,为纳米器件的制造提供技术支持。电场的使用不可避免地引入了电流,从而使得加工过程中存在焦耳热的影响。原子力显微镜电场辅助纳米主要加工包括阳极氧化与场蒸发沉积两种。阳极氧化加工生成的纳米结构为绝缘物质,该物质阻断阳极氧化加工的进一步进行,因此加工电流随着加工的进行逐渐衰减,焦耳热的影响较小;而场蒸发沉积加工得到的纳米结构为导电物质,所产生的焦耳热可以烧蚀样品表面,形成纳米沟痕。本文通过分析加工中焦耳热的作用,为开展精确的原子力显微镜电场辅助加工提供借鉴。     

让美丽与智慧共同绽放——第十一届“中国青年女科学家”颁奖典礼

在"中国青年女科学家"的颁奖典礼上,我们遇见了10位优秀的青年女科学家,她们向世人证明,科学家也可以很时尚很美丽!走近"中国青年女科学家"奖2015年1月16日,第十一届"中国青年女科学家"颁奖典礼在京举行。有10位优秀的青年女科学家从183位候选人中脱颖而出,获此殊荣。"中国青年女科学家奖"由中华全国妇女联合会、中国科学技术协会、中国联合国教科文组织全国委员会及欧莱雅中国于2004年联合设立,是欧莱     

三维打印器件后处理液研究

分析了不同的填充强化剂(后处理A液)、不同的后处理B液基料、后处理B液中水性环氧乳液的掺量及后处理液浸泡时间对石膏基打印器件耐水性、抗压强度、尺寸偏差、表面微观结构的影响.结果表明:经纳米硅超硬固化剂处理后的打印器件抗压强度大幅提高,纳米硅超硬固化剂最适宜作为后处理A液;水性聚氨酯乳液PU-202B最适宜作为后处理B液的基料;后处理B液中加入水性环氧乳液,处理后打印器件的抗压强度增加、吸水率降低,但水性环氧乳液含量增加到一定程度后会出现尺寸偏差;后处理A、B液最佳浸泡时间分别为130 s和35 s;先浸泡后处理A液、后浸泡后处理B液的打印器件具有抗压强度高、吸水率小、表面较光滑、不脱粉等优良性能.     

放顶煤工作面综合防灭火技术研究与应用

对江苏大屯煤电公司龙东矿放顶煤工作面的防灭火实用技术进行了阐述。重点分析了放顶煤开采在掘进、回采、停采时期的煤炭自然发火的原因和所采取的针对性防治技术。     

π-σ-π型双稳态分子器件的分子内电子转移及外电场效应

将由联苯阴离子和中性萘之间通过刚性环己烷所连接的经典的电子转移体系作一构象修正，得到一个新的π-σ-π型分子．UHF/6 -31G^**研究表明，新体系具有较高的能垒和很小的电子转移藕合，而且其藕合几乎完全通过环己烷桥上的化学键实现．外电场效应的研究进一步发现，该体系的电荷可稳定地定域在联苯片段或萘片段上，仅当出现外部刺激(如电、光等)，其电荷定域态才会迅速转变．因此，认为该体系可以作为双稳态分子器件材料的原型分子．     

顶凌覆盖节水增产技术研究

通过1998年、2000年的试验研究，系统分析了顶凌覆盖技术在高寒区节水增温保温、增产增收的机理及其应用效果。提出该技术可以缓解低温干旱特别是春旱对农业生产的困扰，是一项可以抗旱保春播增产增收的实用技术，在高寒地区具有较高的推广价值。     

同步设计方法在CPLD中的应用研究

同步设计和异步设计是时序电路设计中的两种基本类型。通过在CPLD器件中同步设计方法和异步设计方法的应用对比,可知同步设计方法所得电路的工作频率较高且电路中不易产生竞争-冒险现象,因此在复杂可编程逻辑器件的设计中采用同步设计方法是保证电路高效、可靠工作的有效措施。     

基于只读存储器硬件产生循环冗余校验码

介绍了只读存储器在电路设计中的特殊使用，主要介绍采用了只读存储器硬件产生循环冗余校验码的机制和实现方法。     

多点柔性墩连续顶推技术在梁桥中的应用

结合工程施工实践,介绍了多点柔性墩连续顶推施工技术.