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在新型的ＭＢＭＩ多束混合注入设备中、高真空条件下，在Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ基底上采用化学配比态的强流Ｎ＾＋离子束，动态混合真空弧Ｔｉ等离子体束的沉积膜，得到高结合力（Ｌｃ：１００Ｎ）超厚（１０－３０μｍ）的ＴｉＮ膜。 相似文献
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