几种与X射线吸收谱有关的技术

扼要介绍几种与XAFS有关的技术，原子的XAFS（AXAFS），这是由吸收原子的外层价电子的散射造成的，主要用来研究原子外层的电子结构及近邻环境的关系，近边结构X射线显微镜，这是将NEXAFS与X射线显微镜相结合的成像技术，除了利用相同元素在近边区吸收的差异可清晰成像的技术以外，还可作出生物分子中各有机分子或天然元素的定量分布图，光声X射线吸收精细结构，这是通过在吸收边两侧测量光声信号获得XAFS的技术，利用相位的延滞，可测得薄膜的厚度，与其它技术联合形成综合谱，DAFS是XRD与XAFS的综合谱，可研究在特定的位置上特定价态原子的近邻结构，XAFS还可以与X射线Raman,X射线粉末衍射，光电子能谱等技术联合用于结构研究。     

X射线粉末衍射数据库(FXDB)及其检索程序(FXSM)

在国内外,一般均以晶面间距d为基础建立X射线粉末衍射数据库的.由于d的误差△d及△d/d随d值大小改变,在检索对比时不甚方便.本文以相对于CuK_α辐射的衍射角2θ为基础建立数据库,FXDB分单文件库,专题单文件库及工作三文件库三个层次.     

钇钡铜氧高T_c超导体的实验研究

对(Y+Ba):Cu为1～2的Y-Ba-Cu-O系列超导材料进行了广泛的实验研究.发现在这一实验范围内Y为15%～40%的任一配比经过通氧烧结后都是欠氧、超导的.观察了不同名义成分的超导体结构,发现它们都含有YBa_2Cu_3O_7的简单正交结构超导相(A相),而差异则体现在另一相(B相)的组分中,即后者似乎起了“吸杂中心”的作用.当Y的含量过多时,在B相上还会发现由Y_2O_3小粒子组成的C相.这些结果可用以解释一系列的实验现象.     

固相反应形成硅化钛薄膜性质的研究

在超大规模集成技术中,有关自对准硅化钛MOS器件工艺的研究正在日益深入.这一工艺通过对淀积的难熔金属膜进行适当的热处理,形成自对准的MOS器件的栅互连电极与源漏区接触.在Ti/Si系统热处理过程中,氧玷污是一个影响硅化钛形成及其性质的重要因素.本工作提出了用表面覆盖层抑制氧玷污而使形成优良硅化钛薄膜的方法,同时也试验了用快速退火技术形成硅化钛薄膜的工艺. 实验中采用的衬底材料为:P-(111)、P-(100)单晶硅和氧化层上淀积的n~+掺杂多     

X射线粉末衍射数据库(FXDB-2)及程序包

在FXDB-2中,掠射角θ代替了惯用的面间距d作为检索与匹配的基础。库内容除FXDB中的物相代号、化学元素、θ、I外,还有化学式及化学名等数据,并可进一步发展。各种基础数据分别存放在三类基础数据子库中。可在此基础上按要求组成各种专题分析子库,用于检索匹配。本文介绍了各子库的模式及各文卷的记录模式。程序包包括五个方面的程序块。本文介绍了各程序块的功能及03检索程序的框图与要点。     

多核钨原子簇的结构解析

利用ＥＸＡＦＳ结合ＩＲ等技术对５种含钨原子的多核原子簇的结构进行了研究．提出了一种在原子簇中的吸收原子有不同配位环境时的处理方法．依据表观配位数Ｎｊ′与原子簇中吸收原子总数的乘积即为各种吸收原子数与它真实的配位数Ｎｐｊ乘积之和的原则进行处理．用此法处理了２个样品     

钇钡铜氧涂层的超导性

研制了一种钇钡铜氧涂层,并研究了它的超导电性.电阻测量表明在92 K附近涂层电阻急骤下降,所有样品的零电阻温度均高于77K,有的达到88.2K.交流磁化率的测量也观察到在电阻转变温区有明显的抗磁性.X射线衍射实验证明以氧化铝陶瓷为基体的涂层材料为单相YBa_2Cu_3O_(9-■)欠氧钙钛矿结构.