首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   10篇
  免费   0篇
综合类   10篇
  2006年   2篇
  2005年   1篇
  2004年   1篇
  2002年   1篇
  2001年   1篇
  1997年   2篇
  1996年   2篇
排序方式: 共有10条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
以聚己内酯(PCL)为基底、羟基磷灰石(HA)为增强剂,采用溶液浇铸法制备HA/PCL复合材料,考察了浸渍于模拟体液(SBF)中的复合材料生物活性,并用X衍射(XRD)和傅立叶变换红外光谱(FT IR)对材料的结构和组成进行表征。结果表明:HA/PCL(wHA=0.30)复合材料在SBF中浸渍14 d后,即在其表面形成一层弱结晶的碳磷灰石(CHA)覆盖层,显示良好的生物活性。  相似文献   
2.
EDTA自组装单分子层仿生诱导生长羟基磷灰石涂层   总被引:3,自引:1,他引:3  
在钛基体表面自组装EDTA单分子层,经过CaCl2和Na2HPO4的预钙化处理,1.5倍模拟体液浸泡,仿生沉积得到羟基磷灰石涂层,并对其表面形貌、结构、组分和沉积机理进行分析.实验结果表明:模拟体液浸泡6d后即在钛基体表面得到均匀致密、球状的羟基磷灰石涂层.EDTA自组装、预钙化处理和1.5倍模拟体液提高了羟基磷灰石沉积的过饱和度,降低了形核能垒,促进了羟基磷灰石的生长.  相似文献   
3.
研究了具有电催化性能的Co-WC复合镀层的电沉积过程.讨论了镇液中WC微粒的浓度、温度、阴极电流密度、pH值及电沉积时间对复合镀层中WC体积百分含量的影响.结果表明:选择适当的电沉积条件可制备出WC微粒分散均匀的复合镀层,Ch-WC共沉积机理符合Guglielmi两步吸附模型,强吸附步骤为其速度控制步骤.  相似文献   
4.
报道固体超强酸TiO2/SO4^2-作为催化剂进行了酸与异戌醇酯化反应的合成路线和工艺条件,实验结果表明;使用合适条件制备的固体超强酸TiO2/SO4^2-在135 ̄142℃,酸与醇比为1:2和适量(3%wt)催化剂下,反应1.5小时,丁酸异戌酯产率可达90%左右。  相似文献   
5.
钛/羟基磷灰石涂层的电沉积过程及其结构特征   总被引:18,自引:1,他引:17  
采用电沉积方法在钛金属基底上形成磷酸钙盐涂层,涂层经低温碱液处理获取羟基磷灰石涂层。研究了电流密度、主盐浓度、电解液温度、沉积电量、低温碱液处理对涂层表面形貌的影响,并用SEM、ZRD和IR对涂层的组成和结构进行分析。结果表明:电沉积磷酸钙盐涂层经低温碱液处理后得到纯的羟基磷灰石涂层,羟基磷灰石晶体呈针状结构;随电流密度、主盐浓度的增加,晶粒变粗,随电解液温度的升高,晶体发生变化,出现鳞片状结构;涂层质量随沉积电量的增加而增长。  相似文献   
6.
采用溶胶-凝胶法在纯钛基底表面制备富钙S iO2薄膜,将所制备的样品进行模拟体液(1.5SBF)浸泡实验,并对浸泡前后薄膜表面的组成、结构与形貌变化进行了研究.结果表明,纯钛基底表面涂覆富钙S iO2的薄膜在1.5SBF中浸泡7 d后其表面可迅速形成由球状碳磷灰石(CHA)颗粒组成的沉积层.  相似文献   
7.
研究了具有电催化性能的Co-WC复合镀层的电沉积过程。讨论了镀液中WC微粒的浓度、温度、阴极电流密度、PH值及电沉积时间对复合镀层中WC体积百分含量的影响,结果表明:选择适当的电沉条件可制轩出WC微料瓣复合镀层。CO-WC共沉积机理符合CGuglielmi两步附模型,强吸附步骤为基速度控制步骤。  相似文献   
8.
从电极析氢反应的动力学参数、真实交换电流密度、标准活化自由能及电化学稳定性等方面研究了(Ni-Mo)-WC电极在碱性介质中的电催化析氢性能。实验结果表明,复合电极的电催化析氢性能高于基质合金电极,这主要归因于此表面积的增加。  相似文献   
9.
复合镀层(Ni-Mo)-WC和它的析氢催化性能   总被引:1,自引:1,他引:1  
在两种不同类型镀液中,用复合电沉积技术制备出(Ni-Mo)-WC复合电极.研究了其镀层形貌、组成和XPS光电子能谱.用这些电极在7mol/LKOH溶液中作析氢反应电极,结果表明它们对氢的析出反应具有优良电催化活性.文中还对它们的催化性能进行了评价.  相似文献   
10.
电解液中Ca(NO3)2的浓度为0.005~0.042mol/L,NH4H2PO4的浓度为0.0025~0.025mol/L,在pH3.7~5.5,100~200℃,0.1~0.8mA/cm2条件下,采用水热电沉积法制备得到羟基磷灰石涂层,探讨了不同工艺条件对涂层表面形貌和涂层质量的影响.实验结果表明:HA晶体尺寸随温度升高、溶液浓度增大、pH升高和沉积时间延长呈增大趋势,但随电流密度的变化不大;涂层质量随温度升高、溶液浓度增大、pH升高先增后减,随电流密度增大和沉积时间延长而增大.  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号