金刚石膜的六十项性状指标和百项相关成膜因素

为了表征金刚石膜性能的稳定性,本文给出了六十项性状指标和百项相关成膜因素、因果值A、制膜效果作为比较平台。发现沉积腔中气流有喘息、电弧转速有进动。磨耗比E值随测量过程而变。影响膜质的温度有22种。该平台为比较金刚石膜的稳定性找到了依据,不仅方便了技术交流、推动了膜品相的提高和制备技术的进步、还为标准的建立提供了方便和技术储备。     

金刚石膜中的黑色层状缺陷及非相关成因

对高功率直流电弧等离子体喷射法制备的金刚石膜中的黑色层状缺陷进行了研究。沉积过程中通过改变沉积速率；适量加氧、加水、加氮；采用高纯气体；调整漏气率；多台设备并联运行；单台设备反复运行和交换零部件多种手段，均未找到其成因。中对用黑厚时位式新理念的研究作了报导。证实夹层成因和膜制备过程中的上述因素间无密切关系。     

终成正果贵在坚持——对CVD金刚石膜研究工作的回顾

100kW级直流等子体喷射化学气相沉积金刚石膜设备的研制成功,使我们成为继美国两家公司之后第三家能独立开发此种设备的单位,具有独创性和实用性。由于多年来的不断努力,我们不仅一直位于该项技术领域的前沿,而且也取得了很好的市场效果。金刚石膜制备工作因贵在坚持而终成正果。通过忆往昔,看今朝,思明日,对以往工作的简单回顾,来纪念院庆30周年。     

用浮力法测量金刚石膜的密度

本文报道了一种测量金刚石膜密度的浮力法.这种方法的特点是快速、方便、准确和实用.     

砷化镓材料的激光微孔技术

激光打孔是砷化镓场效应晶体管生产中的一项新技术。该工艺能够提高器件的功率和截止频率。通过对砷化镓衬底上近万个激光微孔的观察和归纳分类,我们分析了其成孔机理及微观过程;总结出了成孔规律并得出了成孔结果。     

一种快速测定CVD金刚石膜磨耗比的方法

报道了CVD金刚石膜磨耗比的一种简易快速测量方法.该方法通过测量金刚石膜被磨耗的体积来求得磨耗比.其优点是不使用微量分析天平,因而降低了对实验环境条件的要求,省去了烘干和称重两项工序,测试快速简便.通过与质量法对比,所得数据比较准确可信.     

化学气相沉积金刚石膜的硬度

使用力驱动静态超微压痕测量仪器（Ｆｏｒｃｅ Ｄｒｉｖｅｎ Ｓｔａｔｉｃ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｕｌｔｒａ Ｍｉｃｒｏ－ Ｉｎｄｅｎ－ｔａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ ）－ ＵＭＩＳ－ ２０００ 对由直流等离子体喷射法沉积的金刚石膜进行测量。结果显示金刚石膜的硬度不仅与晶体生长方向和晶粒大小有关,还与厚度有关。生长面和与基底接触面的金刚石膜硬度也有区别。后者被认为由于随机取向的微小晶粒占优势,其硬度比生长面略高。在所进行的测量中,硬度值在９０ＧＰａ左右。     

激光对苏芸金杆菌的影响

试验以自土壤分离的苏芸金杆菌(Bacillus thuringiensis)Bt—37为出发菌株,选用He-Ne、CO_2和Nd-玻璃激光器,分别对芽孢悬液、营养体悬液和营养体阶段的菌落进行照射。发现三种激光对Bt-37菌株均有致死效应,但致死率各不相同。He-Ne和Nd-玻璃激光能促进菌体生长,芽孢、晶体生成提前:CO_2激光对菌体的生长有抑制作用,因而推迟芽孢、晶体生成时间。镜检机光照射后的存活菌落,未发现形态变异,芽孢、晶体生成时间与对照的差异,与用目视激光显微镜的观察结果相吻合。     

用金刚石膜的X射线衍射谱估算其热导率

讨论直流电弧等离子体喷射化学气相沉积的金刚石膜其热导率和晶面取向间的关系,并介绍了利用Ｘ射线衍射图谱估算以（１１１）取向为主的三向系金刚石膜热导率的方法