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1.
当一束光照射在物质上,光子与物质发生动量交换,部分动量转移到物质,等效于对物质产生作用力,称为光学力.这一作用力非常弱,一般在pN甚至更小的量级,但一定条件下,仍足以捕获和操纵纳米、微米尺度的物体.在金属纳米结构中,由于表面等离激元共振效应,诱导的局域电场可以产生增强的光学力,可以在亚波长尺度实现光操纵,并且由此衍生出一个极具吸引力的研究方向——表面等离激元光学力.本文介绍了利用金属纳米结构进行表面等离激元光学力操纵的最新研究进展.  相似文献   
2.
研究了圈Cn的奇优美性及其奇强协调性,得到了圈Cn在n=2k时的奇优美标号算法及其在n=4k时的奇强协调标号算法,从而证明了圈Cn在n=2k时是奇优美图以及在n=4k时是奇强协调图的结论.  相似文献   
3.
给出了图C2n的定义,并对其优美标号进行研究,得到了当n=4k(k≥2)时图C2n是优美图的结论。  相似文献   
4.
针对当前铜线拉拔过程中,铜线拉丝速度提高,模具磨损加重的问题,通过对铜线拉丝模具的几何尺寸和金属丝塑性变形的数学分析,基于经典的上界定理,建立数学模型,求解在铜线拉拔过程中,具有最小功率下铜线拉丝模具压缩区的最佳锥角,并估计其误差。采用拼合的凹模模拟铜杆拉拔过程,测得拉拔因子,同时就模具的材质、润滑条件和拉拔力对最佳锥角的影响进行了讨论。研究表明,当铜线截面压缩率为20%~25%之间时,铜线拉丝模具压缩区的锥角2α控制在17°~20°的范围中为最优,此时铜线拉拔过程可有效减少模具磨损,延长了模具寿命。  相似文献   
5.
6.
垂直喷淋式MOCVD反应器中射流影响的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
针对垂直喷淋式MOCVD反应器的射流现象进行数值模拟研究.通过改变反应腔高度、喷口间距、喷口速度、托盘转速等,对反应器内的流场、温度场、浓度场随上述参数的变化进行详细探讨,进一步探索MOCVD反应器中射流影响的规律.通过模拟发现:(1)在喷口下方的反应腔空间,射流速度、温度和浓度均存在周期性波动,此波动由衬底中心到衬底边缘逐渐衰减;(2)衬底中心处的垂直射流速度大于周边的速度,中心浓度高于边缘浓度,中心温度低于边缘温度;(3)增加反应腔高度,减小喷口间距,减小喷口速度、增加衬底转速,均有利于衬底上方轴向速度和反应前体浓度沿径向分布的平缓.  相似文献   
7.
简单介绍了Wi-Fi技术的定义和优势;结合山西工程技术学院图书馆的建筑特点和已有局域网的架构,对AP的位置进行了规划,确定了AP设备的选型和网络建设所采用的拓扑结构。施工过程中对AP和整个Wi-Fi网络进行了测试,发现了一些问题并提出了相应的对策,实现了Wi-Fi网络的初步应用。  相似文献   
8.
本文通过对平底夹套加强结构设计,提出此类结构设计的解决方案。  相似文献   
9.
10.
介绍了OPAC及在我国的现状,指出了我国OPAC的发展方向;基于INTERNET和WWW方式,支持Z39.50协议,强化主题信息,检索内容更为广泛,具备多种检索机制,支持自然语言检索,参考咨询功能更强,具备馆际互借功能。  相似文献   
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