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1.
La0.7Ca0.3MnO3巨磁阻薄膜具有广泛应用前景的磁学材料,薄膜样品在外磁场下观察到较大的负巨磁阻效应。运用高分辨电子显微镜研究了巨磁阻薄膜的生长机制,确定了薄膜好的外延生长关系,并对薄膜界面的结构与缺陷进行了探讨。  相似文献   
2.
《计算机在材料工程中的应用技术》是本科生的一门重要的课程,对于本科生更好地掌握计算机技术,更好地处理材料科学中的数据,都起到很大的帮助。学生在学习这门课程中,通常没有足够的兴趣,本论述通过总结和归纳教学过程中出现的问题,提出解决方案,更好地服务教学实践,为这门课程的讲授提供相应的参考。  相似文献   
3.
在碱性条件下,采用低浓度阳离子表面活性剂,利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用,在溶液中形成分子自组装体,从而形成有序排列的介孔SiO2材料·水热和室温碱性条件下,表面活性剂与硅源的粒子数比为006∶1·由HRTEM分析,小角度XRD分析,TGDTA分析及FTIR分析等研究表明:在较低的表面活性剂浓度下,通过分子自组装体做模板剂,最终反应物经一定工艺处理,可形成六方结构介孔SiO2·水热条件下使分子的作用增强,提高介孔骨架中硅原子的聚集度,由于铝原子的引入取代部分硅原子导致晶格增大,并使有序介孔结构保持完好·介孔SiO2孔道大小3~...  相似文献   
4.
铝/铜复合界面金属间化合物   总被引:1,自引:0,他引:1  
冷轧复合板轧制后要进行一定的热处理以加强界面的结合强度,但同时也带来一定的问题如在界面形成不利于界面结合的化合物,本文对冷轧制备的铝/铜层状双金属片进行了研究,得到了不同退火温度和退火时间下扩散热处理后界面金属间化合物相的生长规律,初步建立了金属间化合物形成的动力学模型.  相似文献   
5.
针对目前大多数CAD系统中图形库存在的通用性差、开发效率低、可维护性和可移植性差等方面的问题,提出建立和管理开放式CAD图形库的方法.按此法建造的CAD图形库可相对整个CAD系统独立,对各级用户具有良好的透明度,便于进行二次开发,便于维护和扩充,从而提高设计效率.  相似文献   
6.
在压力为4.5—6.0GPa,温度为1500—1900℃的条件下.采用六角氮化硼为原料,选用特定触媒.控制生长条件,台成出高纯片状立方氮化硼单晶.用扫描电镜研究了单晶的生长特点,通过对其振动光谱的测试分析了其内部的微观结构特征.  相似文献   
7.
利用透射电子显微镜(TEM)及高分辨电子显微镜(HREM)研究了庞磁电阻材料La0.7Ca0.3MnO3(LCMO)中的取向畴结构.电子衍射结果表明,块体LCMO材料中只存在正交相(Pnma),其衍射指数满足消光条件:0kl,k+l=2n+1;hk0,h=2n+1;h00,h=2n+1;0k0,k=2n+1;00l,l=2n+1.在晶粒中可观察到两种典型的取向畴形貌,分别为无定形和楔形.高分辨观察结果还发现,LCMO畴界均为不平直界面,由一些低能量高指数界面组成.  相似文献   
8.
La0 7Ca0 .3MnO3巨磁阻薄膜是具有广泛应用前景的磁学材料 ,薄膜样品在外磁场下观察到较大的负巨磁阻效应 .运用高分辨电子显微镜研究了巨磁阻薄膜的生长机制 ,确定了薄膜良好的外延生长关系 ,并对薄膜界面的结构与缺陷进行了探讨 .  相似文献   
9.
利用X射线衍射仪(XRD)和透射电子显微镜(TEM)及高分辨电子显微镜(HREM)研究了层状巨磁电阻材料La1.2-xNdxSr1.8Mn2O7(x=0.2)的显微结构.研究结果表明,Nd掺杂氧化物La1.2Sr1.8Mn2O7仍具有四方对称性,即掺杂Nd没有改变原有的晶体结构.通过HREM观察发现,Nd掺杂氧化物La1.2Sr1.8Mn2O7含有较多的缺陷,其中包括与其他RP相形成的共生结构、(101)剪切结构以及一些比较复杂的缺陷结构.  相似文献   
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