改进Stber法合成粒径精确控制的二氧化硅纳米粒子(英文)

改进了Stber方法合成粒径介于90 nm至200 nm之间的且粒径精确可控的纳米二氧化硅粒子。利用透射电镜(TEM)和动态光散射技术(DLS)研究了原硅酸乙酯的用量、溶剂、催化剂的用量以及搅拌速度对二氧化硅粒子大小及分散性的影响。结果显示这些因素对粒子的粒径以及粒径分布具有重要影响。利用该改进的方法合成的200cm以下的二氧化硅粒子具有极窄的粒径分布,透射电镜显示某一粒径分布下的粒子粒径分布均匀,粒径变化可控制在20 nm以下。     

改进Stǒber法合成粒径精确控制的二氧化硅纳米粒子

改进了Stǒber方法合成粒径介于90nm至200nm之间的且粒径精确可控的纳米二氧化硅粒子。利用透射电镜（TEM）和动态光散射技术（DLs）研究了原硅酸乙酯的用量、溶剂、催化剂的用；止以及搅拌速度对二氧化硅粒子大小及分散性的影响。结果显示这些因素对粒子的粒径以及粒径分布具有重要影响。利用该改进的方法合成的200nm以下的二氧化硅粒子具有极窄的粒径分布，透射电镜显示某一粒径分布下的粒子粒径分布均匀，粒径变化可控制在20nm以下。     

改进StÖber法合成粒径精确控制的二氧化硅纳米粒子(英)

改进了Stber方法合成粒径介于90 nm至200 nm之间的且粒径精确可控的纳米二氧化硅粒子.利用透射电镜（TEM）和动态光散射技术（DLS）研究了原硅酸乙酯的用量、溶剂、催化剂的用量以及搅拌速度对二氧化硅粒子大小及分散性的影响.结果显示这些因素对粒子的粒径以及粒径分布具有重要影响.利用该改进的方法合成的200 nm以下的二氧化硅粒子具有极窄的粒径分布,透射电镜显示某一粒径分布下的粒子粒径分布均匀, 粒径变化可控制在20 nm以下.