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采用直流磁控溅射方法, 保持氩气流量不变, 控制氮气的体积分数为10%,125%,15%, 分别用Si(100)单晶和SrTiO3(100)单晶基片制备Fe N薄膜. 用X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)等方法对两种不同基片生长Fe N薄膜的结构及磁学性能进行表征. 结果表明: 在SrTiO3(100)单晶基片上得到了单相γ′-Fe4N薄膜, 与Si(100)基片上的样品相比, SrTiO3(100)更有利于诱导γ′-Fe4N薄膜的取向性生长; 当氮气的体积分数约为12.5%时, 制备单相γ′-Fe4N薄膜的晶粒结晶度较好, 且饱和磁化强度较高, 矫顽力比Si(100)为基片获得的Fe N薄膜样品低, 软磁性能较好. 相似文献
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先用溶液共混法获得Fe3O4纳米颗粒与氧化石墨烯(GO)混合溶液, 再通过阶梯热还原过程(从室温逐渐升至160 ℃)制备Fe3O4和还原氧化石墨烯(rGO)复合膜, 并用X射线衍射仪、 Fourier变换红外光谱和扫描电子显微镜表征不同Fe3O4质量分数的Fe3O4/rGO复合膜的结构和形貌, 用矢量网络分析仪测试复合膜的电磁参数. 实验结果表明, 当Fe3O4质量分数为40%时, 复合膜的吸波效能为17.30 dB, 频率为10.72 GHz, 厚度为2 mm, 低于-10 dB[KG*8]的有效吸收带宽为3.28 GHz. 相似文献
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先用溶液共混法获得Fe3O4纳米颗粒与氧化石墨烯(GO)混合溶液, 再通过阶梯热还原过程(从室温逐渐升至160 ℃)制备Fe3O4和还原氧化石墨烯(rGO)复合膜, 并用X射线衍射仪、 Fourier变换红外光谱和扫描电子显微镜表征不同Fe3O4质量分数的Fe3O4/rGO复合膜的结构和形貌, 用矢量网络分析仪测试复合膜的电磁参数. 实验结果表明, 当Fe3O4质量分数为40%时, 复合膜的吸波效能为17.30 dB, 频率为10.72 GHz, 厚度为2 mm, 低于-10 dB[KG*8]的有效吸收带宽为3.28 GHz. 相似文献
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