氮化钛薄膜的制备及其机械性能的研究

氮化钛（TiN)薄膜独特的性能不仅在机械工业和商品的表面装饰行业上有着广泛的应用,而且在临床制品及人工器官领域也展示了潜在的应用前景。研究利用大功率偏压电源的多弧离子镀技术,采用工业镀工艺,在Ti-6Al-4V合金材料表面制备了TiN薄膜。用X射线光电子能谱检测证明了所制备的薄膜确为TiN.机械性能测试表明：具有TiN涂层样品的显微硬度大大高于Ti合金基材,同时耐磨性能也明显得到改善。     

类金刚石碳膜和氮化钛的摩擦学性能研究

报道了在相同条件下用磁控溅射方法在硅片上制备类金刚石膜和氮化钛薄膜的研究结果,比较了两种镀膜在机械性能和结构上的效果.实验结果表明,氮化钛薄膜虽有很高的表面硬度,但其摩擦系数、表面粗糟度比类金刚石膜要高得多.而类金刚石膜虽有很低的摩擦系数和光滑的表面,但表面硬度比氮化钛薄膜小.因此,结合两种膜的优点有可能制备高硬度、耐磨性强、表面光滑的新型复合材料.     

氮化钛薄膜的制备及其机械性能的研究

氮化钛（TiN）薄膜独特的性能不仅在机械工业和商品的表面装饰行业上有着广泛的应用,而且在临床制品及人工器官领域也展示了潜在的应用前景.研究利用大功率偏压电源的多弧离子镀技术,采用工具镀工艺,在Ti-6Al-4V合金材料表面制备了TiN薄膜.用X射线光电子能谱检测证明了所制备的薄膜确为TiN.机械性能测试表明具有TiN涂层样品的显微硬度大大高于Ti合金基材,同时耐磨性能也明显得到改善.     

磁场对麦瓦(MEVVA)离子源电荷密度分布的影响

为解决麦瓦(MEVVA)离子源束流的径向分布均匀性问题,采取了加入会切磁场的方法.会切磁场的安放位置不同得到束流分布均匀性的程度不同.另外,如安放一纵向磁场对分布的均匀性也有改善,但不如在合适位置安放会切磁场的效果好.     

银离子注入对TiN薄膜和热解碳抗菌性能的影响

用格兰氏阳性金黄葡萄球菌和格兰氏阴性大肠杆菌,研究了银离子注入TiN薄膜和热解碳的抗菌性.银离子注入能量为70 keV,注入剂量为5×1014~5×1016ions/cm2.对样品表面和近表面层进行了扫描电镜(SEM)、背散射(RBS)和俄歇分析(AES).结果表明,银离子注入后TiN薄膜和热解碳均具有抗菌性,其注入热解碳的抗菌率比注入TiN薄膜的抗菌率高.微观分析的结果表明材料的表面形貌、结构和银的分布是影响抗菌性的主要原因.     

CrN/ZrN多层梯度薄膜的合成

利用直流磁控溅射技术,应用双靶轮流反应溅射工艺,制备了CrN/ZrN多层梯度薄膜.采用XRD,AES,XPS和纳米硬度仪等测试方法,对CrN/ZrN多层梯度薄膜的微观结构和纳米硬度进行了研究.结果表明:在N2反应气体环境下通入更具活性的NH3气体所合成的薄膜结构中ZrN和CrN结晶趋向多元化共存,其纳米硬度明显提高.在0.6mL/min(sccm)的N2流量和0.15mL/min的NH3流量条件下,薄膜纳米硬度达到35GPa.