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Photo-Fenton高级氧化技术处理土霉素废水的研究 总被引：1，自引：0，他引：1
以内蒙某土霉素制药厂的二级出水为研究对象(CODcr约为400mg/L),采用UV254/Fenton高级氧化技术对其进行深度处理.研究了光强、pH值、H2O2的投加量以及H2O2与Fe2+的摩尔比值对CODcr去除率的影响.结果表明:处理土霉素废水的最佳条件是光强为850μw/cm2,废水初始pH为3,H2O2与Fe2+的摩尔比值为1∶1,H2O2的投加量为400mg/L,反应时间为60min,此时CODcr为113.6mg/L,去除率为71.6%. 相似文献
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