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用光荧光谱(PL)方法研究了无杂质空位诱导(IFV)InGaAs/InP多量子阱(MQWs)结构的带隙蓝移,实验中选用Si3N4作为电介质层,用以产生空位,并经快速热退火处理,产生扩散,实验结果表明,带隙蓝移同退火温度和退火时间有关,最佳退火条件的800℃,10s。同时二次离子质谱(SIMS)的分析表明,电介质盖层Si3N4和快速热退火(RTA)导致量子阱中阱和垒之间元素互扩,这种互扩是导致带隙蓝移的主要原因。 相似文献
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研究了单 (Si )双 (Si / As )离子注入半绝缘砷化镓 (SI-Ga As)电激活的均匀性 .结果表明 ,L ECSi-Ga As衬底中深电子陷阱能级 (EL 2 )均匀性分布好坏 ,对注入层电激活性有一定影响 .当 SI-Ga As中碳含量小于 5× 1 0 15cm- 3时 ,对注入层电激活影响不大 .采用多重能量 Si 注入 ,可改善栽流子纵向分布的均匀性 ,采用 Si / As 双离子注入可改善 L EC SI-Ga As衬底中 EL 2横向不均匀分布对电激活均匀性的影响 ,可获得注入层横向的电激活 . 相似文献
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研究了氖离子注入诱导 In Ga As/In P量子阱材料带隙变化的规律 .研究结果表明 ,由氖离子注入引起量子阱带隙蓝移 .蓝移的大小与量子阱的宽度 ,阱距表面深度 ,注入离子剂量 ,能量 ,及退火条件有关 .研究所得的参数对设计量子阱集成光器件有重要参考价值 相似文献
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用等离子体增强化学沉积(PECVD)方法制备了一种新的电介质薄膜—SiOP,用X射线光电子谱(XPS)和光荧光(PL)研究了膜的结构及膜对1.55μmInGaAsP/InP量子阱激光结构带隙的影响.XPS分析表明,该膜中存在SiO和PO键,P(2p)态键能为134.6eV.PL测量首次获得223.6meV的最大带隙蓝移.该技术在光子集成和光电子集成电路(PIC's,OEIC's)中有广泛的应用前景. 相似文献
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研究了氖离子注入诱导InGaAs/InP量子阱材料带隙变化的规律,研究结果表明,由氖离子注入引起量子阱带隙蓝移。蓝移的大小与量子阱的宽度,阱距表面深度,注入离子剂量,能量,及退火条件有关,研究所得的参数对设计量子阱集成光器件有重要参考价值。 相似文献
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