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无杂质空位诱导InGaAs/InP量子阱结构的光荧光研究
引用本文:张晓丹,赵杰,王永晨.无杂质空位诱导InGaAs/InP量子阱结构的光荧光研究[J].天津师范大学学报(自然科学版),2001,21(3):33-35,45.
作者姓名:张晓丹  赵杰  王永晨
作者单位:天津师范大学物理与电子信息学院
基金项目:国家自然科学基金资助项目(69886001)
摘    要:用光荧光谱(PL)方法研究了无杂质空位诱导(IFV)InGaAs/InP多量子阱(MQWs)结构的带隙蓝移,实验中选用Si3N4作为电介质层,用以产生空位,并经快速热退火处理,产生扩散,实验结果表明,带隙蓝移同退火温度和退火时间有关,最佳退火条件的800℃,10s。同时二次离子质谱(SIMS)的分析表明,电介质盖层Si3N4和快速热退火(RTA)导致量子阱中阱和垒之间元素互扩,这种互扩是导致带隙蓝移的主要原因。

关 键 词:无杂质空位诱导无序  量子阱  光荧光谱  二次离子质谱  InGaAs/InP  光电集成电路  生长工艺
文章编号:1671-1114(2001)03-0033-03

Study on Photoluminescence of InGaAs/InP MQWs by Impurity-Free Vacancy Disordering
ZHANG Xiao dan,ZHAO Jie,WANG Yong chen.Study on Photoluminescence of InGaAs/InP MQWs by Impurity-Free Vacancy Disordering[J].Journal of Tianjin Normal University(Natural Science Edition),2001,21(3):33-35,45.
Authors:ZHANG Xiao dan  ZHAO Jie  WANG Yong chen
Abstract:
Keywords:impurity  free vacancy disordering  quantum well  photoluminescence  secondary ion mass spectrum
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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