A/OMBR组合工艺处理酞菁染料KN-G废水

采用厌氧-好氧膜生物反应器组合(A/O MBR)工艺,处理含酞菁染料KN-G废水.研究A/O MBR对酞菁印染废水的降解能力,以及在添加微量元素Mn和不同的进水pH值条件下的降解特性.结果表明:A/O MBR工艺对酞菁染料KN-G印染废水的化学需氧量去除率可达到90%以上,脱色率为63%;添加微量元素Mn,A/O MBR系统对酞菁染料KN-G染料的脱色率下降.当进水pH值为3.0时,平均脱色效率最高达到80%,在酸性条件下酞菁染料的脱色率优于碱性条件.     

2,3,9,10,16,17,23,24-八甲氧基酞菁的合成及表征

以邻苯二甲醚为初始原料,合成六种2,3,9,10,16,17,23,24-八甲氧基金属酞菁配合物,并对产物进行了红外(IR)、紫外可见(UV/ Vis)光谱表征以及可溶性分析.对比发现各种酞菁IR光谱几乎相同,但是UV/ Vis光谱中甲氧基锌酞菁红移最大,而甲氧基钴酞菁溶解性最好.     

用椭圆偏振光谱法研究取代基对酞菁薄膜光学常数的影响

利用M-2000UI型宽光谱可变入射角椭偏仪研究十六氟铜酞菁(F16CuPc)和铜酞菁(CuPc)薄膜的光学性质. 在248～1 650 nm使用逐点拟合的方法对测得椭偏光谱进行分析, 获得两种薄膜的折射率、消光系数、复介电常数和吸收系数. 讨论了外环氟取代基对酞菁光学性质的影响, 结果表明, 共轭酞菁大环上的外围取代基对薄膜的响应波长和非正常色散影响较大. 分析了两种酞菁的电子结构及吸收谱成因, 并由吸收边外推得到两种材料的光学禁带宽度(Eg).     

基于八羧基酞菁铝近红外荧光检测铜（Ⅱ）离子

探讨了八羧基酞菁铝的分子光谱性质,利用八羧基酞菁铝的荧光光谱（最大激发波长620nm,最大发射波长698nm）近红外特性,建立了一种荧光猝灭法检测Cu2＋的新方法。考察了各种因素的影响,实验表明：在优化条件下,（pH 4.5、八羧基酞菁铝浓度5.0×10^-6mol.L^-1、反应时间5min、反应温度为室温）该方法的线性范围2.5×10^-6mol.L^-1～3.0×10^-5mol.L^-1（R=0.9974）,检出限8.3×10^-7mol.L^-1.利用该方法测定了实际水样中Cu^2＋的含量。     

酞菁铜纳米线的模板合成与表征

采用物理方法将酞菁铜引入到氧化铝模板中,成功制备了酞菁铜纳米线.表征结果表明,酞菁铜纳米线直径约为75 nm,呈现β晶形结构.纳米线的形成经历了成核到纳米粒子,由纳米粒子高温晶化组装成纳米线的过程.     

Electron structures and non-linear optical properties oftertbutyl-nitro-phthalocyanines

The electron structures and the non-linear optical properties of phthalocyanines and asymmetrically substituted phthalocyanines are studied with the AM1 method. The results show that thetertbutyl-nitro-phthalocyanines have much higher second order non-linear optical coefficients.     

2,9,16,23-四羧基金属酞菁的合成及电子光谱研究

以偏苯三甲酸酐、MCl2(M=Co,Zn,Ni,Cu,Fe)、尿素及钼酸铵为原料,采用熔融法合成了2,9,16,23-四羧基金属酞菁.通过红外光谱、紫外-可见吸收光谱及荧光光谱对其进行了表征,讨论了反应温度对2,9,16,23-四羧基金属酞菁产率的影响.结果表明:配合物的紫外-可见吸收光谱发生红移,中心金属离子对荧光效应影响不大;反应温度在225℃左右时,2,9,16,23-四羧基金属酞菁的产率最大.     

酞菁蓝B合成方法改进

以苯酐、尿素、氯化亚铜为反应物合成颜料酞菁蓝B，用硝基苯代替工业常用的三氯苯作溶剂，通过改变溶剂、氯化亚铜的用量和反应时间，优化反应条件，酞菁蓝B的收率达到93％，纯度为95％。     

酞菁与1-溴代十六烷的自组装

用扫描隧道显微镜研究了酞菁与1-溴代十六烷的自组装行为.通过改变酞菁与1-溴代十六烷的物质的量比(1∶1,1∶2,1∶3,1∶3.5,1∶4,1∶5),获得了不同的组装结构.结果表明,二者物质的量比在1∶4~1∶3之间时,容易获得稳定均匀有序的自组装结构.用硝酸银的二甲亚砜溶液作指示剂,证明酞菁与1-溴代十六烷的相互作用是分子间作用,加热并不是获得有序自组装结构的必要条件,关键在于使样品的溶剂完全挥发.