脉冲激光沉积系统(PLD)的应用

该文重点介绍了作者实验室的PLD系统，并介绍一个实例：在不锈钢衬底上镀LiMn2O4薄膜。     

电子设计的新方法——EDA技术

EDA技术的发展给电子产品的设计和生产带来了巨大的变革，掌握EDA技术是现代电子设计师的必备技能，也是电子专业学生学习的重要内容。本文介绍了EDA技术的发展、涵义和特点，阐述了EDA技术作为一种全新的电子设计方法在现代数字系统设计中的重要地位及作用。     

现代EDA技术及其发展

信息产业是21世纪的战略性产业,而EDA技术在其中起着举足轻重的作用。阐述了EDA技术的含义及特点,介绍了EDA技术的主要内容及设计流程,对EDA技术今后的应用和发展前景进行了预测和展望。     

脉冲激光沉积类金刚石薄膜的厚度均匀性建模

在脉冲激光沉积类金刚石薄膜过程中,针对薄膜均匀性差的问题,提出偏轴沉积、脉冲激光扫描沉积、双光束沉积和多光束沉积等模式来改善薄膜的均匀性。初步建立了脉冲激光沉积类金刚石薄膜厚度均匀性模型,并分别进行了薄膜厚度分布的模拟,在模拟过程中,强调了在不影响薄膜性能的基础上改善薄膜均匀性,并讨论了沉积模式对薄膜颗粒物问题的影响。结果表明,采用多光束沉积薄膜,厚度均匀性得到极大改善,而且颗粒物问题也得到了改善。最后提出模型改良意见。     

脉冲激光沉积（PLD）铜薄膜过程的模拟研究

通过对PLD技术中的等离子体的产生及传播理论的分析，对等离子体的传播规律及基片平面上粒子浓度、速度的分布进行了模拟研究；讨论了PLD技术中等离子体的输运机理，为PLD薄膜制备提供了理论参考。     

脉冲激光制备ZnO薄膜的结构和光学特性

通过脉冲激光沉积方法在1.3 Pa氧氛围,石英衬底上制备了ZnO薄膜.用X射线衍射(XRD)谱,原子力显微镜(AFM),光致发光谱(PL)表征了薄膜的结构和光学特性.XRD谱显示在生长温度500℃时获得了六方结构的单晶薄膜;AFM显示出随着温度的提升,晶粒提升,而表面粗糙度变小;PL谱显示出强烈的紫外发射和蓝光发射.随着温度的提升,薄膜的结构和光学特性得到显著提高.     

基于GAL芯片的数字电路设计

简要阐述了可编程逻辑器件（ＧＡＬ）的原理及性能特点,并通过实例说明：（ＧＡＬ）芯片设计数字电路,具有电路设计简单、灵活性强、可靠性高。     

基于IIC总线的视频图像采集板

介绍一种基于IIC总线的视频图像采集板的设计方法，即将CCD摄像头输出的视频信号解码成数字分量信号Y：U：V＝4：2：2格式，然后在控制电路的控制下，输出标准的CIF、QCIF、SQCIF三种图像格式之一，并存入帧存储器，计算机模拟和示波器测试表明该设计是有效的，该图像采集板可用于基于PSTN（公共电话交换网）的可视电话系统的前端采集部门，也可根据所需图像质量选择三种图像格式之一用于监控系统。     

可编程逻辑器件PLD的故障检测与诊断

本文提出的可编程逻辑器件易测试方法，充分利用了ＰＬＤ本身固有的可编程特点，简化了器件故障诊断的难度；所有延时、逻辑故障全部可以检测，对延时故障和交叉点故障具有诊断功能，故障检测、诊断十分简便