全文获取类型
收费全文 | 682篇 |
免费 | 10篇 |
国内免费 | 20篇 |
专业分类
系统科学 | 1篇 |
丛书文集 | 49篇 |
教育与普及 | 26篇 |
理论与方法论 | 6篇 |
现状及发展 | 5篇 |
综合类 | 625篇 |
出版年
2024年 | 2篇 |
2023年 | 6篇 |
2022年 | 5篇 |
2021年 | 6篇 |
2020年 | 10篇 |
2019年 | 4篇 |
2018年 | 3篇 |
2017年 | 6篇 |
2016年 | 6篇 |
2015年 | 12篇 |
2014年 | 29篇 |
2013年 | 21篇 |
2012年 | 20篇 |
2011年 | 16篇 |
2010年 | 17篇 |
2009年 | 30篇 |
2008年 | 35篇 |
2007年 | 34篇 |
2006年 | 31篇 |
2005年 | 27篇 |
2004年 | 33篇 |
2003年 | 29篇 |
2002年 | 30篇 |
2001年 | 24篇 |
2000年 | 39篇 |
1999年 | 21篇 |
1998年 | 16篇 |
1997年 | 19篇 |
1996年 | 23篇 |
1995年 | 23篇 |
1994年 | 25篇 |
1993年 | 21篇 |
1992年 | 21篇 |
1991年 | 20篇 |
1990年 | 14篇 |
1989年 | 15篇 |
1988年 | 10篇 |
1987年 | 5篇 |
1986年 | 3篇 |
1985年 | 1篇 |
排序方式: 共有712条查询结果,搜索用时 31 毫秒
21.
合成了2_甲基_3_三氯锡基丙酸甲(乙)酯与吡啶.二正丁基亚砜及水扬醛缩邻甲基苯胺等单齿配体的配合物,并通过元素分析,IR.NMR等进行了表征,结果表明配合物为六配位的有机锡化合物. 相似文献
22.
报道了溴化十六烷基三甲胺CTMAB与乳剂OP共存时,在硫酸、盐酸介质中,用苯芴酮分光光度法测定铜合金中锡的研究.该混配颜色化合物的λmax 505nm,εmax 5.24×106 L·mol-1cm-1,锡的检量范围0~50μgmL-1,服从朗伯—比尔定律,具有较高的灵敏度、选择性,重现性、稳定性也较好,适用于工厂中铜合金锡的检测. 相似文献
23.
何建华 《青岛大学学报(自然科学版)》1997,(A00):26-28
用地时间谱仪测量了入射能量分别为170和174MeV^40.48Ca+^124Sn转移反应产物的角分布,实验得到的反应截面及产额分布与理论计算进行了比较。基于连续单核子转移反应机制的理论计算不能再现实验特征,需要在计算中包括核子对与α结团转移机制。 相似文献
24.
热处理对直流磁控溅射ITO薄膜光电学性质的影响 总被引:2,自引:4,他引:2
利用直流磁控溅射在石英衬底上沉积透明导电的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,在相同条件下制备了两种不同溅射时间(30、10min)的样品,样品在400℃的大气中进行1h退火处理.利用分光光度计测量薄膜的正入射透射光谱,并拟合透射光谱得到薄膜的折射率、消光系数及厚度;用Van der Pauw方法测量薄膜电学性质,包括载流子浓度、载流子迁移率和电阻率.实验结果显示退火处理对ITO薄膜的光学、电学性质有重要影响,退火样品在可见光区域的透过率明显提高,且光学吸收边向长波方向移动;然而,退火前薄膜的电学性能更好. 相似文献
25.
烯基锡化合物是取代烯烃的重要合成原料和中间体,在有机合成中有着十分广泛的应用.文章综述了区域和立体选择性地合成Z型或E型的烯基锡化合物的方法. 相似文献
26.
三苯基锡印迹聚合物的合成及吸附性能 总被引:1,自引:1,他引:1
以壳聚糖为聚合物单体,以三苯基锡(TPT)为模板分子,制备在空间结构和结合位点上与TPT完全匹配的TPT模板交联壳聚糖分子印迹聚合物(TMlPCLC),研究该分子印迹聚合物的吸附、交联和洗脱条件。以及对TPT的吸附能力.结果表明,所合成TMIPCLC对TPT具有良好的吸附选择性。 相似文献
27.
28.
基于拉曼光谱和光学二次谐波的二硒化锡结构研究 《山东科学》2017,30(1):26-32
二维层状半导体材料,尤其是少数原子层时,其光电性质与晶格结构密切相关,采用合适的表征方法是关键。本文通过使用机械剥离的方法,得到了不同层数的二硒化锡,并利用光学二次谐波和拉曼光谱的表征研究了其晶体结构的性质。通过二次谐波准确确定了二硒化锡的晶轴,分析了厚度对二次谐波的影响,为确定材料的晶格结构提供了一种纯光学的手段,同时为发现二硒化锡其他非线性光学性质提供了可能性。通过拉曼光谱,发现二硒化锡层间振动模式对厚度和温度变化均较为敏感,表明二硒化锡可应用于大范围内温度的原位监测。 相似文献
29.
无应变锗锡(GeSn)合金在Sn的摩尔组分高于8%时能够转变为直接带隙材料,适合于制备硅基光电子器件.分子束外延(MBE)在高纯度GeSn制备、Sn组分和异质界面的精确调控上具有巨大的优势.然而,由于Sn在Ge中的固溶度低(<1%)、Ge与α-Sn晶格失配大(约14.7%),高Sn组分、应变弛豫直接带隙GeSn薄膜材料的MBE制备仍是一个巨大的挑战.本文综述了MBE制备高Sn组分GeSn薄膜及弛豫GeSn薄膜压应变的相关研究.首先介绍了低温MBE技术外延高Sn组分GeSn薄膜的方法及生长应变弛豫GeSn薄膜的挑战.之后给出GeSn薄膜的快速热退火行为与厚度的依赖关系,基于临界厚度模型捋清了退火过程中GeSn薄膜的应变弛豫与Sn偏析的竞争机制;最后介绍了快速热退火对GeSn薄膜发光特性的影响,提出采用快速热退火制备应变弛豫的Sn组分渐变GeSn异质结,通过载流子自限制增强MBE生长GeSn薄膜的光致发光强度. 相似文献
30.
本文采用氧化增重法(TGA),研究了添加少量仲钨酸铵(APT)对Ag-Sn合金粉末的氧化作用,用X射线衍射仪、电子探针和金相观察分析了粉末氧化前后相的转变、氧化物的分布、形貌。结果表明,Ag-Sn APT混合粉末的氧化规律服从Wagner理论;APT的分解产物及形成的新相Ag_2WO_4作为活性氧原子源,促进Sn的氧化;添加剂APT在0~2.26wt-%成分范围内和相同温度、相同氧化时间条件下,氧化速率随添加量增加而加快;随氧化温度的提高,氧化速率加大,如在800℃下的氧化速率大于700℃下的氧化速率。 相似文献