CuInSe<Subscript>2</Subscript> thin films obtained by pulse-plating electrodeposition technique with novel pulse wave

CuInSe₂ films were electrodeposited onto indium tin oxide (ITO) substrate in constant current mode using bell-like wave modulated square wave in aqueous solution. The films obtained at different pulse frequencies were characterized by scanning electron microscopy (SEM), X-ray energy dispersive spectroscopy (EDS) and X-ray diffraction (XRD). UV-Vis-NIR absorption spectro- scopy was used to study the optical properties of these films. The results showed that the chalcopyrite phase CuInSe₂ films with a smooth surface and stoichiometric composition could be obtained at appropriate pulse frequency. The crystallinity of CuInSe₂ films could be further improved after annealing treatment. Despite this, we also found that the films obtained using the pulse-plating electrodeposition technique had a faster deposition rate and better film adhesion ability than that using the traditional CIS elec-trodeposition technique, which is significant to the low-cost CIS thin film solar cell production.     

Cu衬底上ZnO纳米结构及其光催化性能分析

采用两步电化学沉积法在Cu衬底上沉积得到ZnO纳米结构薄膜。用X-射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）对其结构及形貌进行表征,发现先在Cu衬底上沉积一层Zn致密膜,更有利于在其表面上得到附着力强、形貌较好的ZnO纳米结构膜。系统考察了沉积温度和沉积时间等工艺参数对ZnO纳米结构的影响。结果表明,沉积温度和沉积时间对晶体结构和形貌有显著影响,通过对工艺进行适宜控制可以得到结晶性良好的六方纤锌矿型ZnO纳米结构膜。以罗丹明B为目标有机污染物,分析了ZnO膜的光催化性能,表明所制备的ZnO膜可以作为光催化剂,其光催化效率可达到72.4%。     

硅基半导体中埋置硅量子点的低温生长与发光研究

在硅基半导体中埋置的硅量子点因量子限域效应而具有光致发光的性能,是一种实现硅基光电集成很有前途的材料.文章介绍了此类复合薄膜的可控生长,并对其发光进行了研究.     

硒化法制备铜铟铝硒薄膜及其性能研究

采用中频交流磁控溅射方法制备了CIA前驱膜,并采用固态硒化法进行处理,获得了CIAS吸收层薄膜。采用SEM和XRD观察和分析了薄膜的成分、组织结构和表面形貌。结果表明,通过调节CIA前驱膜的Al含量可制备得到Cu/(In Al)原子比接近1,且Al/(In Al)比例可调的CIAS薄膜。CIAS薄膜由Cu(In1-xAlx)Se2固溶体相组成,Al主要是以替代In的固溶形式存在。     

羰基钼化学气相沉积成膜机制及相关因素研究

利用金属有机气相沉积 (MOCVD)方法 ,在经过预沉积和表面研磨处理的Al2 O3 陶瓷基片上制备多晶钼膜 .通过该薄膜的表面形态及其结构的观察分析 ,讨论了该薄膜的形成机制 .结果表明 ,基片的表面形态是影响薄膜生长成核机理的重要因素 ,基底表面的状态设计是提高成核密度 ,获取优质薄膜的有效方法     

影响TiN掺金镀装饰膜质量的工艺因素

分析了用多弧离子镀和磁控溅射方法镀制 Ｔｉ＋ Ｔｉ Ｎ＋ Ａｕ 装饰膜的工艺中, 影响膜层质量的主要工艺因素实践表明, 在基材经过严格的前处理后, 只要对镀膜工艺进行合理的控制, 就能制出既有 Ｔｉ Ｎ 的硬度和耐磨性、又有黄金色泽的装饰膜层     

微波辐射制备TiO2薄膜及其光催化活性

采用微波辐射法由溶胶制备出TiO2薄膜,考察了加热方式、微波功率、辐射时间等因素对甲基橙降解的影响。结果表明．与传统加热法相比较,微波干燥制备的TiO2薄膜对甲基橙有更高的光催化活性;微波辐射加热时间为4min,微波功率为中低火时,制得的光催化剂催化活性较高;且TiO2薄膜性能稳定可重复利用。     

Physico-Chemical Properties of a Water-Insoluble Silk Fibroin Film

The conventional silk fibroin(SF)films obtained by casting from SF aqueous solution are amorphous,and easily dissolved in water.This defect limits the practical use of SF films in biomedical field.A new water-insoluble silk fibroin film(an SF-FA film)could be simply prepared by casting from SF formic acid solution.The physical properties and moisture permeability of SF-FA films were examined.The results show that the SF-FA film swollen in water exhibits outstanding pliability.The weight loss of SF-FA films ...     

zr掺杂对Ti02光学性质的影响

利用电子束沉积方法在玻璃基底上制备了TiO2薄膜及zr掺杂TiOz薄膜．采用拉曼光谱仪和分光光度计对膜的结构和吸收光谱进行了表征;研究结果表明：退火温度为773K时,沉积得到的Ti02薄膜为锐钛矿结构的薄膜;Zr掺杂锐钛矿型TiO2,导致带隙减小,掺杂后在350—450nm附近的光吸收系数增大,TiO2的吸收带产生红移,增强了TiO2的光催化活性;1％掺杂量对光的吸收系数于大5％的掺杂量．     

Fe-P非晶态合金电镀工艺和镀层性能研究

测量了以氯化亚铁、次磷酸二氢钠为主盐的电镀Fe－P非晶态合金电解液的性能，包括阴极电流效率、镀液分散能力、覆盖能力和阴极极化曲线。研究了次磷酸二氯钠含量、镀液pH值、添加剂对镀液性能的影响。Fe~（2+）离子的氧化造成镀液不稳定是镀铁及铁合金的一个重要问题，对影响Fe~（2+）离子氧化的因素进行了试验。分析了镀层化学成分，确定了镀层结构，通过差热分析和硬度测量研究了镀层结构的转变。直流电镀所得Fe－P非晶态合金镀层很脆，用交直流迭加电流电镀可以使镀层韧性得到很大改善。