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相似文献
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1.
本文报导在不同条件下电沉积Sb和Sb-Fe合金的极化曲线、镀层成分分析和镀层形貌等。实验结果表明,在合适的条件下可以电沉积结合力好、平整光亮、紧密的灰白色锑和锑铁合金。  相似文献   

2.
原子吸收光谱法测定低锑砷合金中的微量元素   总被引:1,自引:0,他引:1  
运用火焰原子吸收光谱法测定低锑砷合金中的微量元素,系统考察了原子吸收光谱法的测量条件,研究了基体元素的干扰及消除方法,在扰化的实验条件下,Cu,Ag在0-4mg.L^-1,Sb在0-80mg.L^-1的浓度范围内均符合比尔定律,相关系数(r)为0.9979-0.9987,检出限为0.005-0.180μg.mL^-1。用于低锑砷合金中微量元素Cu,Ag,Sb的测定,相对标准偏差为1.2%-2.4%  相似文献   

3.
锑—铁合金电沉积的研究:Ⅱ.方波电位法的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用方波电位法在合金镀液中电沉积锑和锑合金的复合镀层,并用扫描电镜进行镀层的综合性能检测。实验结果表明,在合适的电镀参数下可以镀层结合力好,晶粒细致紧密,光亮平滑,具有中等硬度和一定厚度的复合镀层。  相似文献   

4.
脉冲电沉积Ni-W合金镀层的微观结构及摩擦学性能   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用脉冲电沉积的方法制备了Ni-W合金镀层,在微观形貌上与用直流电沉积方法得到的镀层进行比较.通过XRD研究了W在镀层中的含量以及对Ni-W合金镀层组织结构的影响;分析了该镀层在油润滑及干摩擦条件下摩擦系数随载荷与速度变化的情况,并与硬铬镀层进行比较.同时,探讨了在油润滑及干摩擦条件下Ni-W合金镀层的摩擦磨损机理.结果表明:Ni-W合金镀层在干摩擦条件下具有很好的耐磨性能.  相似文献   

5.
采用恒电流沉积法,在含有NdCl3的酸性镀液中获得了不同Nd含量的Fe-Nd-P合金镀层.利用电子显微分析、能谱分析研究了镀层的形貌及成分.测得从H3PO3镀液中获得Fe-Nd-P合金镀层中稀土元素Nd的质量分数高达71.51%.通过测试镀层的沉积速率,研究了水溶液电沉积Fe—Nd—P工艺中金属盐、络舍剂浓度、电流密度、镀液pH值、温度等对镀层沉积速率的影响,确定了最佳镀液配方及工艺条件.  相似文献   

6.
Al-Mn合金镀层的制备与性能   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用AlCl3+LiAlH4+MnCl2有机溶剂体系在低碳钢基体上进行了电镀Al-Mn合金的实验,并对不同电镀工艺下Al-Mn合金镀层的表面形貌、成分、结构、厚度、结合力和耐蚀性等进行了研究.实验结果表明,沉积出的Al-Mn合金镀层表面光滑并呈网状分布;镀层中的Mn含量(原子分数)在3%~8%间变化,其中Mn以Al-Mn过饱和固溶体形式存在,且按(200)面的结构进行生长.随电镀时间和电流密度的增加,Al-Mn合金镀层的厚度呈线性增大,但膜层与基体的结合力逐渐降低.Al-Mn合金镀层的耐蚀性随沉积电流密度的增加而减小,随电镀时间的延长呈先增大后减小的规律.Al-Mn合金镀层的沉积速率、结合力和耐蚀性均高于相同沉积条件下的纯铝镀层。Al-Mn合金镀层在AlCl3+LiAlH4+MnCl2有机溶剂体系中的最佳沉积工艺为电流密度0.15~0.50A/dm^2、电镀时间30~45min.  相似文献   

7.
报导不同价态离子共存时测定Sb3+和Sb5+的方法。先将一份试液在稀硫酸介质中测Fe2+,转为盐酸介质测Sb3+;另一份试液在pH1.0~1.5使锑离子水解与干扰离子分离,测定SbT量,差减法求出Sb5+量。锑的测定采用硫酸铈盐法。  相似文献   

8.
提出了精炼净化再生铅的工艺及原理,经处理过的再生铅可以用来配制蓄电池用低锑合金。对高锑合金、普通低锑合金、再生铅低锑合金进行了对比试验与讨论。结果表明再生铅低锑合金充分利用了Sb、Cu、Bi等有用元素,具有较好的铸造性能、耐蚀性能、抗拉强度及电性能,且成本较低。  相似文献   

9.
电流密度对Ni-W-B合金电沉积层结构和显微硬度的影响   总被引:2,自引:1,他引:1  
采用电化学技术、XRD、DSC等方法研究电流密度对Ni-W-B合金电沉积、镀层结构和显微硬度的影响,结果表明:沉积电流密度提高,Ni-W-B合金电沉积层W含量增大,B含量降低,电沉积电流效率降低,所获得的合金镀层表现为亚稳态纳米晶结构,在不同电流密度下获得的Ni-W-B合金电沉积层的显微硬度值接近,约为650kg/mm^2,与Ni-W合金相比有明显提高。  相似文献   

10.
用恒电流沉积、腐蚀电位和极化电阻等方法研究了 H3PO3体系中 Ni-P合金的电沉积及其镀层的耐蚀性能 ,用 XRD、 XPS、 SEM检测了镀层的晶形、组成和表面形貌 ,探讨了沉积条件对镀层耐蚀性能的影响 .研究结果表明 :在 H3PO3体系中得到的 Ni-P合金镀层同样具有较强的耐蚀性 ,当镀层中磷的含量达7%时 ,晶形转为非晶态 ,镀层中含磷量越大 ,耐蚀性越好  相似文献   

11.
H3PO3体系中镍磷非晶态合金及其耐蚀性能   总被引:1,自引:0,他引:1  
用恒电流沉积、腐蚀电位和极化电阻等方法研究了H3PO3体系中Ni-P合金的电沉积及其镀层的腐蚀性能,用XRD、XPS、SEM检测了镀层的晶形、组成和表面形貌,探讨了沉积条件对镀层耐蚀性能的影响。研究结果表明:在H3PO3体系中得到的Ni-P合金镀层同样具有较强的耐蚀性,当镀层中磷的含量达7%时,晶形转为非晶态,镀层中含磷量越大,耐蚀性越好。  相似文献   

12.
电沉积镍钴纳米合金的制备及性能   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用直流电沉积方法在镀液中加入有机添加剂制备出镍钴纳米合金镀层.采用扫描电镜分析了镀层的微观形貌及晶粒尺寸,研究了电流密度、pH等工艺条件以及有机添加剂和稀土钐对镀层中钴含量的影响,采用加热实验法测定了镀层的结合力.实验结果表明,镀层表面致密、平整,结合性能优良.  相似文献   

13.
电沉积铁铬合金的研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
研究了在甘氨酸和三价铬离子的水溶液中电沉积铁铬合金的工艺条件,在DK为10-30A/cm^2、pH为1.5-3.0的条件下,可得到外观亮泽,结合力好的铁铬合金镀层,其中铬的质量 分数可大于20%。还探讨了甘氨酸浓度、电流密度及pH对镀层中铬含量的影响,并初步研究了甘氨酸以及部分添加剂对电沉积过程的影响。  相似文献   

14.
镍-钨-磷合金化学镀的研究   总被引:4,自引:0,他引:4       下载免费PDF全文
研究镀液组成和工艺参数对镀层成份和沉积速率的影响规律.用XRD、SEM、EDS和XPS等现代分析手段研究了合金镀层的结构、表面形貌、成份及镀层中元素存在的价态.结果表明,用这种工艺可成功地制得Ni-W-P三元非晶态合金.非晶态合金中Ni、W、P均以零价态形式存在  相似文献   

15.
MnO2—WC复合镀层的制备   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文报道在石墨电极上制备MnO2-WC复合镀层的合适工艺条件的研究结果,实验结果表明,复合镀层的结构形貌和其中WC的含量与电解液组成,电沉积条件等有关,在控制合适的民解液组成和电沉积条件下可以制备出较好的MnO2-WC复合镀层,具有作为阳极材料应用的价值。  相似文献   

16.
采用电沉积法在铜基底上沉积了NiCo/纳米SiO2复合镀层和NiCo合金镀层,用扫描电子显微镜、CHI660A电化学工作站及UMT-2M摩擦磨损测试机考查了镀层的表面形貌、磨损形貌、耐腐蚀性能及摩擦学性能.结果表明,纳米SiO2颗粒的加入抑制了NiCo晶体的增长,使得镀层中NiCo颗粒明显得到细化,镀层更加均匀致密;在相同的腐蚀和摩擦条件下,纳米复合镀层的耐蚀性、耐磨性能明显高于NiCo合金镀层;随着镀液中纳米颗粒悬浮量的增加,复合镀层的摩擦系数先降低后增大,当镀液中SiO2纳米颗粒含量为5 g/L时复合镀层的摩擦系数最小.  相似文献   

17.
化学镀镍硼合金镀层组织形态及其形成机制   总被引:1,自引:0,他引:1  
基于化学镀镍硼合金镀层的组织形态和成分、结构.探讨了镍硼合金镀层的沉积规律.分析表明,镀层在侧向和纵向上的相对沉积速度快慢是影响镀层组织形态的关键因素.柱状组织的形成原因是由于纵向沉积速度相对较快,该组织镀层含镍量相对较高,结构是非晶晶态混合结构;圆粒状组织是在侧向、纵向沉积速度较接近的条件下形成的,其成分中硼的含量相对较高,镀层结构趋于完全非晶态.  相似文献   

18.
介绍了一种新的电沉积非晶态Ni—Fe—P合金的方法.用这种方法在室温下电沉积出的非晶态Ni-Fe—P合金镀层外观接近镜面,镀层厚度可达42μm.经X-ray衍射、扫描电子显微镜(SEM)及等离子光谱分析(ICP—AES)证实,所获得的Ni—Fe—P合金镀层为非晶态结构,镀层中主要成分Ni、Fe、P的含量分别为74%~83%、9%~24%和6%~10%,此外,还含有0.01%~0.14%B和C元素,这些元素的存在是导致非晶态Ni—Fe—P合金镀层产生的主要原因.文中对电沉积非晶态NI—Fe—P合金的工艺条件、添加剂HAT和光亮剂HAB1、HAB2的作用和影响进行了分析和探讨.图8,表1,参14  相似文献   

19.
双(β羟乙基)对苯二甲酸乙二酯(BHET)的缩聚反应,是聚酯(PET)生产过程中的重要反应,该反应阶段所使用的催化剂直接影响反应过程及聚酯产品的粘度、色相、二甘醇含量等质量指标[1,2].目前国内外纤维级PET生产均使用锑系列(Sb2O3或Sb(O...  相似文献   

20.
对电沉积Ni-Fe合金的穆斯堡尔谱分析表明γ相Ni-Fe合金的同质异能移(I.S.)为-0.06~0.02mm/s;α相的I.S为~+0.05mm/s,与冶炼Ni-Fe合金的I.S.(冶炼Ni-Fe合金的γ相I.S为-0.19~-0.22mm/s;α相I.S.为-0.07~0.10mm/s)相比,向正值方向偏移,γ相平均偏移0.18mm/s,α相约0.13mm/s.电沉积Ni-Fe合金的磁超精细场随合金中Fe含量的变化情况与冶炼Ni-Fe合金中的情况不完全一样。此外,还观察到电四极裂矩不等于零,表明电沉积Ni-Fe合金中存在电场梯度.根据镀层合有杂质S和结构缺陷的特点,讨论了上述穆斯堡尔参数的变化情况。  相似文献   

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