双层辉光离子渗钼工艺及其组织性能研究

采用双层辉光离子渗金属技术对纯铁,10,40,45,60,T8等碳素钢进行了渗钼工艺的研究,探讨了加热温度,保温时间以及阴极－栅极间距对渗层厚度的影响,同时还研究了渗钼层的显微组织,渗钼层浓度分布,实验表明,双层辉光离子渗钼技术是一种新的离子渗金属技术,是离子渗钼的新发展。     

热循环离子渗氮的快渗机制

根据热循环离子渗氮（ＩＮＴＣ）过程渗层生长动力学特性和表面相组分的变化规律,分析了辉光放电等离子体对热循环渗氮的增强作用,提出了循环变温过程相的脱溶和离子轰击形成的表面γ’相导致内扩散速度加快的机制,指出ＩＮＴＣ的深层快渗效果系集离子渗氮与热循环渗氮二者之长所致．     

钢的离子渗铬层组织及表面应力研究

本文采用离子氮化炉对Ａ３、４５、Ｔ１０、Ｔ１２钢进行离子渗铬。研究了渗铬层的组织及结构，阐明了渗层组织的形成机理。对Ｔ１０钢渗层组织进行了有无辉光放电作用的对比。测定了离子渗铬及无辉光放电作用的低压气体渗铬后钢件表面应力状态。     

Ti-46.5Al-2.5V-1.0Cr合金的辉光离子渗氮

研究了Ti 46.5Al 2.5V 1.0Cr合金的辉光离子渗氮,气氛为NH3。当采用900℃×9h工艺参数时,渗层硬度值可达1097HV,与基体相比,耐磨性提高2.5倍,渗层深度可达10μm以上,与高温气体渗氮相比,渗氮时间缩短至1/5,渗层深度增加到2.5倍。     

活性屏离子氮化和脉冲离子氮化的对比试验研究

为解决航空发动机零件在渗氮生产过程中采用脉冲离子氮化工艺而产生的边缘效应等问题,该文在氨气气氛下对38CrMoAI钢进行活性屏离子氮化处理及脉冲离子氮化,并对渗层的组织结构,渗层厚度等进行了分析.试验结果表明相同的工艺参数下活性屏离子氮化处理工艺会以得到相似的渗氮效果,可以替代脉冲离子氮化工艺.     

低合金钢渗镀复合处理层的摩擦学性能

为了进一步提高低合金钢表面硬度、改善其耐磨性能，利用等离子体渗氮和物理气象沉积TiN硬质膜技术在SCM415低合金钢表面形成渗镀复合处理强化层．表面Hv可达到2000，并且有良好的硬度梯度．利用金相、X射线衍射以及原子力显微镜研究复合处理层的微观组织和相结构，结果表明：TiN硬质膜与离子渗氮形成的化合物之间有非常好的界面结合，在干摩擦条件下磨损性能较低合金钢渗碳淬火、离子渗氮样品有显著改善     

常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮工艺的优化

利用介质阻挡放电，在常压下进行非平衡等离子体渗氮，通过正交试验研究渗氮工艺参数的作用，分析渗氮膜层的相结构及其显微组织，确定常压下较为理想的渗氮工艺参数，试验结果表明，新工艺能在较短时间内获得较高的表面硬度与理想的扩散层；整个工艺过程操作简便，省去了真空放电下必需的真空设备，是一种极其发展前景的新型渗氮工艺。     

等离子表面冶金技术的现状与发展

双层辉光离子渗金属技术已成功地在普通碳钢表面形成高速钢、其中包括时效硬化高速钢、不锈钢以及镍基合金等；该技术已成功地应用于手用锯条和机用锯条，使其齿部形成高速钢，锯条不仅具有高速钢的切削性能，而且柔韧不断;钛合金表面经离子渗钼等工处理后，Ti6Al4V的耐磨性得到大幅度提高;经离子渗铌等工艺处理后，TiAl金属间化合物的抗高温氧化性能明显改善。在双层辉光离子渗金属技术的基础上，又发展了加弧辉光离子渗金属，双辉钎焊技术，双阴极辉光放电超硬薄膜合成技术，以及陶瓷表面金属化和异性材料焊接技术等。     

双层辉光离子镍铬共渗的研究

本文论述了双层辉光离子镍铬共渗的渗层组织结构和成分,讨论了渗层厚度与镍铬共渗工艺参数的关系。试验研究表明:镍铬共渗层厚度取决于共渗温度、保温时间和试样材料,其变动范围0～250微米。铜的镍铬共渗层中的镍铬含量可在0～85％的范围内变动。此外,还列举了双层辉光离子镍铬共渗工艺在碳钢钢板上的应用。     

常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮

利用介质阻挡放电．在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮．研究表明．该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层．而且省去了真空放电下必须的真空设备．整个工艺过程操作简便。是一种很有发展前景的新工艺．此外,还分析了渗层深度及硬度随放电间隙不同的变化规律．