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相似文献
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1.
利用电子束与重离子冷却储存环中的放射性核束相互作用,包括电子的弹性散射,非弹性散射以及电子散射引起的核反应,可以支不稳定核的结构和性质进行有效的研究。文中对进行这些研究的物理意义,所需电子束亮度以及设备进行了描述和粗略地估计。  相似文献   

2.
利用伴随粒子飞行时间方法,测量了入射角为5°以下的快中子在7Li和6Li核上的弹性散射截面.用蒙特卡洛方法进行了注量率衰减、多次散射和有限角分辨修正.对实验结果与理论计算进行了比较,其数据可为核工程设计提供必要的核参数.  相似文献   

3.
基于12C原子核的α粒子结构观点,通过拟合电子散射实验得出12C核2+和3-态α粒子跃迁密度分布,并在多重散射的K.M.T理论框架下对入射能量为600 MeV和700 MeV的p-12C非弹性散射进行研究计算.结果表明,理论计算得到的p-12C非弹性散射截面与实验数据符合得较好.12C原子核基态及2+和3-激发态的α粒子结构观点在p-12C非弹性散射领域得到了检验和支持.  相似文献   

4.
用Q3D磁谱仪及其焦面探测器系统,90.72MeV处测量了^18O+^148Nd的弹性散射和非弹性角分布,并利用DWBA和耦合反应道计算程序FRESCO对实验结果进行了拟合。结果表明在弹性散射分析中,引入极化势的DWBA怀耦合道计算有类似的结果。另外,还讨论了非弹性散射激发过程中的核-库仑激发的相干效应,得出了描述相干强度的近似因子。  相似文献   

5.
本文通过对动能为800Mev的质子由基态铅核(208Pb)的弹性散射的角分布的分析给出了原子核半径(R)与核半径常数(ro)的值.这些值与从其它的测量原子核半径的方法所得到的结果符合得很好。  相似文献   

6.
电子弹性散射探测28S核的质子晕   总被引:2,自引:0,他引:2  
在平面波Brown近似(PWBA)下, 研究了不稳定丰质子核28S的电子弹性散射过程. 计算并比较讨论了28S及其稳定同位素32S的电子弹性散射截面和形状因子. 结果显示28S的散射截面和形状因子在第2极小点附近(中等转移动量)对最外层的两个质子的电荷分布的变化非常敏感. 这表明用电子与不稳定核的弹性散射过程研究和探测丰质子核的质子晕结构可能是一种比较有效的方法.  相似文献   

7.
轻核的两种不同波函数—少体波函数和单粒子反对称化波函数,通过质子在轻核上的弹性散射进行检验,实验支持前者而不利于后者。  相似文献   

8.
利用快中子位置灵敏谱仪,伴随粒子飞行时间方法,在3°~15°角区测量了14.7MeV中子在Ta核上弹性散射的微分截面,并将实验数值与理论计算值进行了比较。  相似文献   

9.
利用伴随粒子飞行时间方法,测量了入射角为5℃以下的快中子在^7Li核上的弹性散射截面。用蒙特卡洛方法进行了注量率衰减、多次散射和有限角分辨修正。对实验结果与理论计算进行了比较,其数据可为核工程设计提供必要的核参数。  相似文献   

10.
核数据是描述原子核基本性质以及原子核与其他粒子发生相互作用的核参数的总称,是核科学发展的基础数据,是连接核物理基础研究与核工程以及核技术应用的重要桥梁,是核物理研究的一个重要分支学科.本文首先简要说明了核数据的内涵、种类和用途;然后对中子核反应实验数据库、核数据评价的关键流程以及国际上几个主要的评价核数据库情况进行了简单的介绍;之后对我国核数据评价与建库工作研究的起步与发展历程、国际主要核数据组织的活动以及目前国际核数据研究的发展趋势进行了评述;最后探讨了我国核数据评价与建库研究工作需要重点关注的问题以及未来我国核数据工作可能的发展方向.  相似文献   

11.
随着聚焦离子束(focusedion beam,FIB)无掩膜微细加工能力的迅速发展,结合精确定位能力,FIB已成为新型且出色的纳米制造工具.对FIB无掩膜注入单晶硅衬底的注入效果与离子束流、注入剂量的关系进行研究发现,以固定能量注入的离子,当注入剂量恒定,离子浓度随深度的分布与离子束流大小无关;当离子束流恒定,注入离子的表面浓度随注入剂量的增加而增加,但是由于FIB注入的同时会刻蚀材料表面,注入剂量达到饱和值后,会造成材料一定程度的减薄.  相似文献   

12.
重离子束辐射是一种新兴的辐射诱变技术,因其操作简单、突变率高、突变谱广等特点,已受到作物育种工作者的广泛关注。常用的重离子源有C、N、Ne等,不同植物物种、不同部位以及发育阶段对重离子束的敏感性不一。通过结合植物组织培养、基因工程等技术,国内外已对多种植物开展重离子束辐射育种的研究,获得一系列新种质和新品种。本文简要介绍重离子束辐射诱变的基本原理、相应的生物学效应以及在作物育种中的研究进展。  相似文献   

13.
1 Results Scanning tunneling microscope and atomic force microscope have been applied to manipulate individual atoms or clusters on a clean surface.Focused ion beam technique is routinely used to cut materials down to sub-100 nm dimension.However,in between the atomic and the sub-100 nm scales,i.e.,at the nanometer scale,to date there is no well-established physical modification technique.Here we demonstrate that localized,impurity-free nano-welding and nano-cutting techniques with a high-intensity elec...  相似文献   

14.
应用Monte-Carlo方法,模拟了Tokamak装置中的中性粒子的输运过程,模型考虑了中性粒子在等离子体中的电荷交换、电子碰撞电离、离子碰撞电离等离化过程,以HT-7 Tokamak为例,计算了在注入超声速中性氢粒子时所产生的氢原子密度空间分布.模拟结果表明:随着注入中性粒子束初始能量的增加,中性粒子束在等离子体中的渗透距离相应增大;而中性粒子在Tokamak中的密度随着注入通量的增加也相应增加.模拟计算所得的氢原子密度空间分布与经典估计方法的结果在Tokamak中等离子体的边界处较一致。  相似文献   

15.
本文采用氩离子束轰击法,对不同晶体学表面形貌的CVD金刚石膜进行抛光处理。结果表明,对不同表面开貌的金刚石膜,应合理选择离子束轰击入射角,提高离子束加速电压有利于提高抛光效率,(100)择优生长的金刚石膜最容易得到高的表面平整度。  相似文献   

16.
为了分析射频离子推力器束流特性,基于二维流体模型对自研的11 cm射频离子推力器开展放电室等离子体数值模拟,获得给定电气参数下离子密度、电子温度等关键参数的分布特性;研究了等离子体参数和束流大小与射频功率间的函数关系;以等离子体参数和栅极参数为输入,基于离子光学系统模型获得不同工况下的单孔离子引出轨迹.研究结果显示:离子密度和电子温度分别沿放电室径向逐渐减小和增大,有利于获得更好的束流均匀性及更大的束流;束流大小与射频功率呈线性正相关关系,有利于实现束流连续精确可调;屏栅上游鞘层的形成与离子密度、离子种类、栅极电压组合相关,综合考虑以上因素获得最佳束流聚焦和引出特性.  相似文献   

17.
束参数对离子束溅射法所淀积非晶硅电特性的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文论述了用离子束溅射淀积非晶硅(a-Si)和氢化非晶硅(a-Si:H)的方法,提供了加速电压和衬底位置改变对薄膜暗电阻率的影响结果,通过有关淀积工艺条件的研究,得出了一些有用的结论。  相似文献   

18.
阐述了利用离子束刻蚀技术制作微光学阵列元件的工艺条件.研究和实验结果表明,通过光刻热熔法制作的光致抗蚀剂掩模图形经具有不同能量的离子束刻蚀后可以有效地实现向衬底材料上所作的选择性转移,所作的理论分析结果为非球面微光学阵列元件的制作提供了一条可行的技术途径.  相似文献   

19.
研究了强脉冲离子束(IPIB)对Ni/Ti和Al/Ti体系的混合效果,并与常规离子束混合进行了对比研究,表明IPIB辐照确实获得了比常规离子束辐照更厚的混合层,且混合效率远高于常规离子束。但对于不同的膜/基体体系,IPIB混合效果相差很大。这与膜和基体的热力学特性的差异相关。在IPIB辐照过程中,膜材料损失严重,特别是膜和基体的热力学特性差异大的样品损失更加严重。探讨了IPIB辐照不同于常规离子束混合的两种特殊混合机制以及膜材料损失的原因。  相似文献   

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