共查询到16条相似文献，搜索用时 670 毫秒
1.
欧祖军 《甘肃联合大学学报(自然科学版)》2011,25(1)
利用投影均匀性模式得到了两水平部分因子设计的组合设计的对称化L2-偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的,因此这个下界可以作为寻找最优折叠反转方案的基准. 相似文献
2.
效应别名是部分因析设计不可避免的问题.由于别名的因子效应会造成数据分析的困扰,因此如何有效的解除别名效应的模糊性是部分因析设计中的重要问题.折叠反转是解除因子别名效应的经典方法.在两种特殊的情形下分别得到了两水平部分因子设计的组合设计的离散偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的.因此,这些下界可以作为寻找饱和正交设计的最优折叠反转方案的标准,并给出了用基于离散偏差的均匀性准则来寻找最优折叠反转方案的理论依据. 相似文献
3.
基于中心化L2-偏差讨论了两水平扩大设计的均匀性，获得了两水平扩大设计中心化L2-偏差的一个新的下界，该下界可作为寻找最优折叠反转方案的一个基准. 相似文献
4.
离散偏差经常用来衡量部分因子设计的均匀性,偏差的准确下界可以检验给定设计的均匀程度.基于现有的离散偏差的公式,讨论了二、三混水平设计离散偏差的下界问题,并利用泰勒展开的方法给出一个新的下界.与已有的下界相比,所给出的下界在某些设计中更精确. 相似文献
5.
研究了二五混水平U型设计在Lee偏差下的均匀性,利用两种不同的新方法,即CHATTERJEE和HU的方法得到了二五混水平U型设计的两个下界,并将它们综合成一个下界,同时以数值实例验证了该综合下界是紧的,且优于以往文献中的下界. 相似文献
6.
雷轶菊 《新乡学院学报(自然科学版)》2015,(3):1-3
从列平衡的角度出发,将设计的中心化L2-偏差、对称化L2-偏差、可卷L2-偏差分别用二次型和均衡模式表示,可分别得到两个下界,它们都适合用来评价正交设计的均匀性。以double设计的对称化L2-偏差为例,证明了这两种方法算出的下界是相等的。 相似文献
7.
讨论了二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性,并给出了Lee偏差的一个下界,该下界可以作为搜索Lee偏差下二四混水平均匀设计的一个基准. 相似文献
8.
雷轶菊 《北京教育学院学报(自然科学版)》2015,(1):1-4
拉格朗日乘数法和许尔凸函数法都是从设计的行平衡角度来考虑下界的计算.如果利用许尔凸函数来计算2-水平U-型设计在对称化L2-偏差下的下界,能够证明用拉格朗日乘数法和许尔凸函数法这两种方法计算的三种偏差的下界是相等的. 相似文献
9.
针对两类特殊的二、三混水平部分因子设计d=(D:-D),在适当的划分下分别给出了互补设计的Lee偏差与子设计D(-D)的广义字长型和均匀性模式的解析关系,同时给出了Lee偏差的下界,最后通过两个例子来验证其结论. 相似文献
10.
针对两类特殊的二、三混水平部分因子设计d=(D:-D),在适当的划分下分别给出了互补设计的Lee偏差与子设计D(-D)的广义字长型和均匀性模式的解析关系,同时给出了Lee偏差的下界,最后通过两个例子来验证其结论. 相似文献
11.
对于含有过程变量的三分量有下界约束的线性－倒数混料模型，本文研究了参数估计的Ｄ－最优正交区组设计，给出了这些Ｄ－最优正交区组设计与混料分量下界之间的关系式． 相似文献
12.
基于现有的均匀性测度公式,利用Langrange乘数法和Taylor公式得到二水平设计离散偏差和对称化L2偏差紧的下界,最后通过2个例子来验证其结论. 相似文献
13.
14.
针对四阶张量Z-谱半径的估计问题,利用张量Z-特征值的定义,并结合不等式放缩技巧,给出了四阶弱对称非负张量Z-谱半径的新上下界,改进了现有一些结果.作为应用,由Z-谱半径的上界给出了张量最佳秩一逼近和贪婪秩一更新算法收敛速度的下界,由Z-谱半径的上下界给出了具有非负振幅对称纯态纠缠的几何度量的上下界. 相似文献
15.
利用代数方法、图的边变换,以及树的邻接矩阵谱与Laplacian谱的关系,研究树和完美树的邻接矩阵谱半径和Laplacian谱半径的下界,给出达到下界的所有极树,得到的新结果改进了文献[2]的结论. 相似文献
16.
高美平 《云南民族大学学报(自然科学版)》2014,23(5):346-349
对M-矩阵与其逆的Hadamard积特征值的下界进行了研究.首先给出了A°A-1最小特征值的两个新下界.其次证明了所得的结果比现有的某些结果更加接近于A·A-1的最小特征值.最后用数值算例验证了所得结果是有效的. 相似文献