SiO2/TiO2减反膜系的制备和性能测试

由于减反射薄膜的性能受制备工艺的影响很大,文章采用SiO2和TiO2作为低、高折射率膜料,采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了多层减反射膜系,研究了制备工艺对薄膜性能的影响,从理论和实验2个方面得出了制备的多层减反射膜系在450～625nm波段具有明显的增透效果,在520nm处有98%的透过率。     

用于LCD光学窗口的多功能膜层

采用离子束辅助沉积方法进行膜层的制备;选用合适的色散模型,利用包络法和椭偏仪对制备薄膜的光学常数进行拟合;利用单纯形调优数值优化法对膜系进行优化.对制备的多功能膜层进行相关测试,结果表明:反射率平均低于0.8%,屏蔽层方阻为14Ω/□,膜层附着力和耐摩性能符合相关规定.所研制的多功能膜层,性能指标满足要求.     

钝化硅太阳电池减反射膜的研究

从多层膜系在某一波长的反射率的计算原理和计算方法入手，采用等效分界面和权重反射率Ｒｗ的概念，给出了多层膜系优化的普适方法．具体计算了钝化太阳电池（含ＳｉＯ２钝化层）的单层减反射膜和双层减反射膜的优化设计，给出了常用减反射材料的最佳膜厚值，并得出结论：双层膜的减反射效果优于单层膜，平面双层减反射膜的权重反射率Ｒｗ小于６％，加微槽结构后降至２％以下（ＳｉＯ２钝化层厚度为２５ｎｍ）．     

硅太阳电池减反射膜的优化设计

最优化设计方法是一种利用计算机进行辅助设计的方法,它在薄膜设计中具有明显的优越性．简要介绍了多层光学薄膜的最优化设计方法,并对空间用硅单晶太阳电池的减反射膜系进行了最优化设计和实验验证．结果表明,对于太阳电池的减反射膜系,尤其是结构复杂的多层减反射膜系统（包括玻璃盖片等）,最优化设计方法是一种非常实用和有效的设计方法．用此方法设计的ＳｉＯｘ／ＴｉＯ２双层减反射膜的有效反射率约为５％（波长３８０～１１００ｎｍ）,电池短路电流增益达４５％,转换效率增益达４７％．     

沉积温度对BC2N薄膜的生长和附着性的影响

应用热丝辅助射频等离子体化学气相沉积法在硅、金刚石衬底上合成了BC2N薄膜,X－射线衍射、红外谱分析表明较高的温度有利于BC2N化合物的成核和生长。高温制备的薄膜的化学组分主要为BC2N,B,C和N原子间互相结合成键,但与硅衬底的附着力很差。选择热膨胀系数与硅接近的金刚石作为过渡层沉积BC2N多层膜,逐层提高生长温度,不仅提高生长温度,不仅提高了薄膜中BC2N的含量,而且提高了薄膜与衬底的粘 附力。     

金刚石声表面波器件的研制

对ZnO／IDT／金石多层结构高频声表面波滤波器进行模拟设计、样件制备和测量．利用热丝化学气相沉积方法，在抛光Si基底沉积致密、光滑的CVD金刚石膜；采用磁控溅射法在金刚石薄膜上制备C轴取向的氧化钎压电薄膜．研制的ZnO／IDT／金刚石／硅结构SAW滤波器，又指换能器（IDT）指宽1．7μm，SAW滤波器频率达到1．4GHz．     

热塑性塑料透镜的耐磨减反射膜的研究

采用自制的偶联剂Ａ，运用化学镀膜法在热塑性塑料透镜上镀制出三层耐磨减反射膜，膜层附着力强，耐磨性比未镀膜前提高１５倍以上，在可见光范围内，具有较宽的光谱减反射．     

太阳电池减反射膜设计与分析

根据光学薄膜原理，利用计算机程序对太阳电池减反射膜进行模拟仿真，得到反射率R(λ)与波长λ的关系曲线，并利用曲线对减反射膜进行优化．设计出几种常用材料制备单、双、三层减反射膜时的最佳膜系参数。为太阳电池减反射膜的制备提供理论依据．分析了电池封装和电池表面钝化对反射曲线的影响，并验证了实验结果．     

镁合金表面制备硅掺杂类金刚石膜的性能研究

将无铬化学转化新工艺与射频等离子化学气相沉积（PECVD）技术相结合,先在镁合金表面生成一层多孔结构、附着力高的化学转化膜作为过渡层,再采用PECVD技术低温沉积一层硅掺杂类金刚石（Si-DLC）薄膜复合涂层。扫描电子显微镜和拉曼光谱图分析证实,获得的薄膜由sp2和sp3键杂化的碳硅氢化合物呈层状堆积而成,薄膜均匀、平整致密;制备的薄膜为典型的类金刚石结构。原子力显微镜直观地观察到,掺杂硅的类金刚石薄膜比未掺杂的平整致密。当硅含量达到20%时,得到的DLC薄膜最为平整致密,无铬化学转化膜层均被含硅的DLC薄膜覆盖。性能测试实验表明,将化学转化膜作为中间过渡层并采用PECVD沉积含硅的DLC薄膜明显提高了镁合金基体与其的结合强度,同时也大幅度提高了镁合金的耐磨、耐高温和耐蚀性。     

减反膜衰减器对损伤阈值的影响

提出了一种抗激光损伤的激光能量衰减器。采用减反膜,角度调节,对于YAG脉冲激光器实现能量的衰减。根据光学介质薄膜驻波场理论,通过对减反膜膜层内驻波场的设计,以及对膜层厚度的控制和调节,设计减反射膜层,可提高光学薄膜的激光损伤阈值。     

偏光棱镜在柱面会聚系统中的视场角分析及应用

以格兰·泰勒棱镜为例,对平行于棱镜主截面方向的视场角进行了分析和推导,发现该视场角随切割角的增大而增大,在红外波长区远大于通常给出的沿主截面方向的视场角,对沿两正交方向的视场角随切角和波长的变文关系进行了比较,所得结论在红外分光光度计上得到了验证,实验表明:冰洲石格兰型偏光镜是柱面或准柱面会聚光束的理想偏光器件。     

空气隙型格兰泰勒棱镜斜面减反射膜的设计

为了提高空气隙型格兰泰勒棱镜的透射率,改善其使用性能,针对空气隙型格兰泰勒棱镜出射偏振光的特点,利用合适的光学薄膜材料,借助于薄膜设计软件,设计了棱镜斜面增透膜,633nm处单面的剩余反射率由3．365662％降低到0．000009％,并且在579-686nm范围内剩余反射率均小于0．009％．采用Al2O3做过渡层,既增加了薄膜和晶体的附着性能又使目标波长处的光谱更加平坦．讨论了入射角度和薄膜的光学厚度对剩余反射率的影响;薄膜的厚度误差控制在±8％以内,剩余反射率小于0．05％     

两种格兰型钒酸钇棱镜的透射比分析和偏光特性研究

对0．8-1．6μm波长范围内激光正入射两种格兰型钒酸钇棱镜的透射比进行了分析,理论分析表明：格兰·付科型钒酸钇棱镜的透射比高于格兰·泰勒型．搭建了一个偏光测试系统对棱镜的偏光性能进行测试,测试结果表明：格兰型钒酸钇棱镜的透射光强随旋转角出现周期性的扰动,扰动的出现影响了透射偏振光的质量．这为更好的研究钒酸钇棱镜的特性提供了重要的参考价值．     

Glan-Thompson棱镜高性能宽带减反射膜的研制及性能测试

Glan-Thompson棱镜在光学领域有着重要的应用,透过比的高低和有效带宽的大小,直接影响着棱镜的品质.为了提高棱镜的透过比,拓宽有效使用带宽,借助于计算机辅助设计方法,设计了高性能多层减反射膜系;选用合适的光学薄膜材料,利用电子束蒸镀,借助于离子源辅助蒸镀,制作了高性能的宽带减反射膜.测试结果表明:平均剩余反射率小于0.5%,有效使用带宽在可见光区大于100 nm,在近红外大于200nm,达到了设计要求,提升了棱镜的品质.     

Glan-Thompson棱镜四层宽带减反射膜的设计与蒸镀

Glan-Thompson棱镜在光学领域有着重要的应用,透过率的高低和有效带宽的大小,直接影响着棱镜的品质．为了提高棱镜的透过率,拓宽有效使用带宽,利用薄膜特征矩阵的原理,设计了四层宽带减反射膜系,选用合适的光学薄膜材料,利用电子束蒸镀,借助于离子源辅助蒸镀,制作了高性能的宽带减反射膜．测试结果表明：平均剩余反射率小于1％,有效使用带宽达300nm,达到了设计要求．     

可见光减反膜的设计原则研究

分析了光学零件表面的光能量的反射损失,从膜系选择、膜料选择、膜层厚度,镀制工艺四个方面,对可见光减反膜的膜系设计特点进行了研究,确定了基本的设计原则.     

空气隙偏光镜对不同束腰半径的单模高斯光束影响的分析

根据光在格兰-泰勒棱镜和格兰-傅科棱镜空气隙胶合层中的干涉效应，分析了空气隙偏光镜对不同束腰半径的单模高斯光束光强分布的影响．结果表明：对于某-波长的入射光，束腰半径越小，光强分布受偏光镜的影响越明显；另外，随着束腰半径的减小，高斯光束的形状也会发生变化．比较而言，格兰-泰勒棱镜产生的影响要小于格兰-傅科棱镜，这说明前者的综合性能优于后者．     

Lambda 900分光光度计相对反射测量方法的改进

在光学镀膜中,分光光度计常被用来对光学零件表面所镀膜层的透过率、相对反射率、绝对反射率等光特性,以及对所镀膜层的带宽、中心波长等进行测量.主要介绍Lambda 900分光光度计相对反射的测量方法;并介绍了通过增加光阑、附件及改进测量、计算方法等途径实现对自聚焦透镜及小光学元件表面减反射膜相对反射率的测量.测量精度达到设备原有测量精度要求.     

抗反射层结构平板声子晶体棱镜成像

采用数值模拟的方法，分析了抗反射层结构对平板声子晶体棱镜的透射压力场分布及成像的影响．分析发现：利用抗反射层结构可以减小棱镜界面的反射，提高成像质量，从而增强其实用性．该结论对声子晶体功能器件的实际应用具有一定的指导意义．     

合成亚波长窄带高反射滤波器的性能研究

把亚波长光栅的全反射特性与干涉薄膜的减反射特性相结合构成“合成亚波长微结构薄膜”,用矢量衍射理论,从理论上探讨了ＭＳＭＦ制作窄带高反射滤波器的可靠性。结果表明,这种滤波器具有反射率峰值高,旁带低和相对半宽度窄的特点。